JPS5857782A - 配線板およびその製造方法 - Google Patents

配線板およびその製造方法

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JPS5857782A
JPS5857782A JP15666981A JP15666981A JPS5857782A JP S5857782 A JPS5857782 A JP S5857782A JP 15666981 A JP15666981 A JP 15666981A JP 15666981 A JP15666981 A JP 15666981A JP S5857782 A JPS5857782 A JP S5857782A
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JP
Japan
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wiring board
layer
conductor
hole
insulating
Prior art date
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Pending
Application number
JP15666981A
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English (en)
Inventor
野口 節生
五島 隆夫
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NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5857782A publication Critical patent/JPS5857782A/ja
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は配線板およびその製造方法に関し、特に絶縁基
板上に絶縁被僚ワイヤの所望回路パターンを布?is固
着しズなる配線板およびその製造方法に関する。
近年、絶縁基板上に必要に応じて銅箔などの導体パター
ンを形成した上に絶縁性を有する接着剤層(以下、接着
層と称す)を介して絶縁被覆ワイヤの所望回路パターン
を布線固着した後、所望位置に貫通孔を穿設し、その貫
通孔の壁面に金属導体層を形成し絶縁被覆ワイヤの芯線
と接続することKよりバター7間を電気的に接続した配
線板が用いられるようになってき九。
一般に、この種の配線板には次のような特徴がある。信
号回路として絶縁被覆ワイヤを使用するため信号回路を
同一平面で交差させることが可能であり、通常の印刷配
線板における表裏2面分のパターンを1面にて収容する
ことができる。このため表裏接続用のスルホール、いわ
ゆるバイアホールが不用となる。さらにバイアホールが
不用なために配線径路を決定する自動針手法において配
線可能なチャネル数が増加し、高い配線収容率と実装の
高密度化を計れる。また、回路パターンの原画および写
真類が不用となる。とくに回路パターンの変更を必要と
する場合には、絶縁被覆ワイヤを固着するためのワイヤ
布線枠のテークを部分的に変更するだけでよく、原画や
写真を作り直す費用と時間を削減できる。
この種の従来配線板の代表的な一例をfjlc1図およ
び第2図を参照して説明する。第1図(a)の如く無電
解めっき用触媒を含む絶縁基板】の上に必要に応じて、
例えば電源層、接地島として使用することができるよう
にパターン化した銅箔層2を片面または両面に形成し、
次に第1図(b)の如く、絶縁基板1および銅箔層2に
接して無電解めっき用触媒を含む接着層3を形成した後
、第1図(C)の如く信号回路としての絶縁被横ワイヤ
4の所望回路パターンを、例えば数値IIJ御式自動布
線機により、接着層3に有数固着させ、さらに第1図(
d)の如く布線固着した絶縁被接ワイヤ4による回路パ
ターンを保護し、かつ固着を確実にするために無電解め
っき用触媒を含むプリプレグを積層接着することにより
無電解めっきに対して触媒性を有する絶縁層5を形成す
る。さらに外表面に無電解めっきに対して触媒性を有し
ない非整合マスク層(以下、マスク層と称す)6を形成
した後、第1図(e)の如く所望の位置に絶縁被覆ワイ
ヤおよび銅箔層2を横切るように貫通孔7を穿設し、絶
縁被覆ワイヤ4および銅箔層2の少なくとも一部を貫通
孔7の内面に繕出させた後、無1解めっき液に浸漬する
ことにより貫通孔7の壁面に金属導体層8を形成してス
ルホールとし、第1図(0の如く、マスク6を除去して
第2図に示すような配線板を形成するものであった。
一方、最近のIC,LSI等の電子デバイスの高密度化
に伴い、配線板に要求される配線密度すなわち単位面積
当たりの配線本数は急激に増加する傾向にある。このこ
とは、従来の配線板において貫通孔を穿設し、穴壁にめ
つき導体層を形成してスルホールとし、表裏面の導体パ
ターンを電気的に接続するという発想から表裏面の対応
する位置で貫通接続させずに表裏面の所望箇所に微小径
の穴部を設けて電気的接続を達成させるという発想に切
り替える必要がある。しかし、従来のこの稲の微小径例
えば0.1 瓢φの穴部を通常の穴あけ機によって穿設
加工することはドリル折れの問題があり非常に困難であ
った。
本発明の目的は、前述の如き従来欠点を除去した新規な
配線板およびその製造方法を提供することにある。
本発明によれば、回路パターンを有する絶縁基板上に絶
縁複機ワイヤの所望回路パターンを布線し、絶縁被接ワ
イヤを被覆する絶縁樹脂層を形成してなる配線板におい
て、少なくとも絶縁被覆ワイヤの芯線導体表面まで到達
する穴部と、穴部の内壁面および芯線導体の表面に導電
体層を設けたことを特徴とする配線板が得られる。また
絶縁基板上に絶縁性接着層を被着する工程と、絶縁性接
着層上に絶縁被覆ワイヤを布線固着する工程と、絶縁被
接ワイヤを複核する絶縁樹脂層を設ける工程と、絶縁樹
脂層の表面に無電解めっきに対(7て触媒性を有しない
絶縁体からなる非整合マスク層を形成する工程と、非整
合マスク層上からレーザ光線を照射して非整合マスク層
、絶縁樹脂層の一部を貫通して絶縁被覆ワイヤの導体に
至る穴部を設ける工程と、穴部の内壁面および絶縁被覆
ワイヤの導体表面に無電解めっきにより導電体層を形成
する工程と、非整合マスク層を除去する工程とからなる
ことを特徴とする配線板の製造方法が得られる。
以下、本発明を第3図および第4図を参照して説明する
。第3図は本発明の一実施例を示す断面図である。第3
図(a)は、前述した従来例の第1図(a)ないし第1
図(C)と同様にして製造した中間工程の配線板の状態
を示すものである。配線板の表裏両面に無電解めっきに
対して触媒性を有するプリプレグの所望枚数を重ねた構
成体の上下両面を十分な剛性を有する例えばステンレス
鋼で作った平面板(図示省略)にて挾持し、この平面様
を加熱。
加圧して第3図(b)の如く無電解めっきに対して触媒
性を有する絶縁層5を形成する。次に、第3図(C)の
如く絶縁層5に接してマスク層6を例えば熱圧着により
形成する。次に、第3図(d)の如く、絶縁複機ワイヤ
4の導体の所望位置にレーザ光線を照射し、マスク層6
および絶縁層5を貫通し絶縁被覆ワイヤ4の芯線導体に
接する穴部9を設け、絶縁被覆ワイヤ4の芯線導体を露
出させる。この穴あけ加工に使用できるレーザ光線とし
ては、第一の実施例にYAGレーザがある。実施例に用
いたレーザ光線発生装置は、第4図に示すようなレーザ
光線の発生部21と、レーザ光束を被加工物24の近く
まで導くための導入経路22と、レーザ光束を絞り調整
するためのし/ズ23とからなる。連続状態にて発振し
ている例えば出力50WのYAGレーザをQスイッチを
用いて例えば1〜5 kHzの周波数に対し0.1〜1
ミリ秒のパルス幅を有するパルス光を照射し、内径的約
0108閣を有する前述の穴部9を得た。この穴あけ加
工に使用できる第二実施例のレーザとしては炭酸ガスレ
ーザがある。このレーザ光線発生装置の構成は、基本的
には第4図と同様であり、連続状態にて発振している例
えば出力60Wの炭酸ガスレーザから周期0.1〜1秒
、パルス幅0.1〜50秒のパルス光を照射し、内径約
0.13wamを有する前述と同様の穴部9を得た。
次に、例えば30〜90kg/fflの圧力を有する高
圧水流にて穴部9内を清掃して不要の異物を除去する。
さらに、絶縁被覆ワイヤ4の被覆層がポリイミド系樹脂
を用いている場合には、水11に対し水酸化アルカリ例
えば水酸化ナトリウムを10〜50を含有する温[40
〜70℃、好ましくは温度50〜60℃に保持された溶
液中に全面を浸漬揺動させて穴部9の壁面を清浄にする
と同時に絶縁複機ワイヤ4の穴部9内に露出している被
覆材の残漬をすべて除去し、芯線導体を完全に露呈させ
る。次に配線板の全面を無電解めっき液に浸漬揺動させ
て穴部の壁面と露出された接着層30表面および絶縁被
榎を除去した芯線導体の表面にめっき被膜10が形成さ
れる。穴部9が絶縁被接ワイヤ4の交差部に設けられた
場合には、交差部においてそれぞれの芯線導体がめつき
被膜10を介して電気的に接続される。次いで、第3図
(e)の如く、不要となったマスク層6を例えば機械的
に引き剥し除去する。
以上、本発明により配線板に貫通孔を穿設することなく
配線板の表裏面に別々の触覚した電気的接続穴部を設け
るととKより配線密度を大幅に向上することができる。
さらに、電気的接続の穴部が貫通孔ではないため、配線
板の板厚とけ無関係に加工できるという利点がある。な
お、本発明は芯材に金属材料を使用する配線板について
も応用できることは勿論である。
【図面の簡単な説明】
wJ1図は従来の配線板の製造工程を示す断面図、第2
図は従来の配線板の断面斜視図、第3図は本発明の実施
例による配線板の製造工程を示す断面図、第4図は本発
明の製造工程中に使用するレーザ穴あけ装置の訪明図。 図中の符号、1・・・・・・絶縁基板、2・・・・・・
銅箔層、3・・・・・・接着層、4・・・・・・絶縁被
横ワイヤ、5・・・・・・絶縁層、6・・・・・・マス
ク層、7・・・・・・貫通孔、8・・・・・・金属導体
層、9・・・・・・穴部、10・・・・・・めっき被膜
、 21・・・・・・レータ呪生部、22・・・・・・
レーザ導入経路、23・・・・・・レンズ、24・・・
・・・被加工物。 5 第 1 図 第2図 第3図 第4図

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)絶縁基板上に絶縁被覆ワイヤの所望回路パターン
    を布線してなる配線板において、少なく七も絶縁被覆ワ
    イヤの芯線導体の表面まで到達する穴部を;、前記穴部
    の内壁面および前記芯縁導体の表面に導電体層を設けた
    ことを特徴とする配線板。
  2. (2)絶縁基板上に絶縁性接着層を被着する工程と、前
    記絶縁性接着層上に絶縁被接ワイヤを布線する工程と、
    前記絶縁被覆ワイヤの露出表面を被覆するように絶縁樹
    脂層を設ける工程と、前記絶縁樹脂層表面に無電解めっ
    きに対して触媒性を有しない非整合マスク層を形成する
    工程と、レーザ光線を照射して絶縁被覆ワイヤの導体表
    面を部分的に露出させる穴部を設ける工程と、前記穴部
    の内壁面および前記導体の表面に導電体層を形成する工
    程と、前記非整合iスク層を除去する工程とからなる配
    線板の製造方法。
  3. (3)前記レーザ光想にYAGレーザを用いることを特
    徴とする特許請求の範囲第2項記載の配線板の製造方法
  4. (4)前記レーザ光線に炭酸ガスレーザを用いることを
    特徴とする特許請求の範囲第2項記載の配線板の製造方
    法。
JP15666981A 1981-10-01 1981-10-01 配線板およびその製造方法 Pending JPS5857782A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5979594A (ja) * 1981-04-14 1984-05-08 コルモ−ゲン・テクノロジイズ・コ−ポレイシヨン 電子要素を接続するための基板及びその製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS494232A (ja) * 1972-04-28 1974-01-16
JPS4945359A (ja) * 1972-09-08 1974-04-30
JPS5315050B2 (ja) * 1973-06-27 1978-05-22

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