JPS585987B2 - 回転式蒸着装置 - Google Patents
回転式蒸着装置Info
- Publication number
- JPS585987B2 JPS585987B2 JP9224879A JP9224879A JPS585987B2 JP S585987 B2 JPS585987 B2 JP S585987B2 JP 9224879 A JP9224879 A JP 9224879A JP 9224879 A JP9224879 A JP 9224879A JP S585987 B2 JPS585987 B2 JP S585987B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor
- vapor deposition
- deposited film
- substrate
- rotary
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、複数の基板に順次蒸着膜を形成する回転式蒸
着装置の改善に係り、とくに蒸着膜を形成する複数の基
板を回転枠に軸支した回動自在な吊下げ具に取り付ける
ようにした新しい蒸着装置に関するものである。
着装置の改善に係り、とくに蒸着膜を形成する複数の基
板を回転枠に軸支した回動自在な吊下げ具に取り付ける
ようにした新しい蒸着装置に関するものである。
従来、例えば間接放電型ガス放電表示パネルの製造工程
において、ガラス基板上に形成した所定パターンの電極
を被覆してAl120f、にどの誘電体層を形成する場
合、量産性の見地から第1図に示すような回転式蒸着装
置が用いられていた。
において、ガラス基板上に形成した所定パターンの電極
を被覆してAl120f、にどの誘電体層を形成する場
合、量産性の見地から第1図に示すような回転式蒸着装
置が用いられていた。
すなわち第1図において、1は蒸着槽となる円筒状の真
空容器、2は前記真空容器1の中に設置された蒸着試料
容器、3は前記蒸着試料容器内に収容される蒸着試料で
、4は蒸着すべき基板5を固定する回転枠である。
空容器、2は前記真空容器1の中に設置された蒸着試料
容器、3は前記蒸着試料容器内に収容される蒸着試料で
、4は蒸着すべき基板5を固定する回転枠である。
このような構成の回転式蒸着装置においては、あらかじ
め電極パターンを形成した基板5を回転枠4の各辺に被
蒸着面が内向きとなるよう取付けさらにAl2O3など
の所定の蒸着試料3を蒸着試料容器2に収容する。
め電極パターンを形成した基板5を回転枠4の各辺に被
蒸着面が内向きとなるよう取付けさらにAl2O3など
の所定の蒸着試料3を蒸着試料容器2に収容する。
そして真空容器1内を図示しない真空ポンプで排気し高
真空を保持した状態で回転枠4を矢印A方向に回転する
と、基板5の蒸着膜形成面が蒸着試料3の上側に順次位
置するようになる。
真空を保持した状態で回転枠4を矢印A方向に回転する
と、基板5の蒸着膜形成面が蒸着試料3の上側に順次位
置するようになる。
かくして前記蒸着試料3を加熱して蒸発せしめれば前記
回転枠4の各辺に取り付けた複数の基板5のそれぞれの
蒸着膜形成面に順次蒸着膜を形成することができる。
回転枠4の各辺に取り付けた複数の基板5のそれぞれの
蒸着膜形成面に順次蒸着膜を形成することができる。
しかしながらかかる構成の回転式蒸着装置にあっては、
基板5の蒸着膜形成面のみならずその他の部分にも蒸着
膜が付着する。
基板5の蒸着膜形成面のみならずその他の部分にも蒸着
膜が付着する。
その付着物が数μ以上の厚さとなると、真空容器1内の
熱サイクル等によって該付着物が剥離し易くなって落下
する場合がある。
熱サイクル等によって該付着物が剥離し易くなって落下
する場合がある。
この場合に蒸着膜を形成する基板5の内、下側に位置し
ている基板は蒸着膜形成面が上向きとなっているため、
当該蒸着膜形成面上に前記付着物が剥離して落下すると
、そのまま異物として残留し、次の蒸着膜との間に閉じ
込められたりして蒸着膜の均一性を損なう欠点があった
。
ている基板は蒸着膜形成面が上向きとなっているため、
当該蒸着膜形成面上に前記付着物が剥離して落下すると
、そのまま異物として残留し、次の蒸着膜との間に閉じ
込められたりして蒸着膜の均一性を損なう欠点があった
。
本発明は前記の欠点を解消すべくなされたもので、基板
を回転枠に軸支した回動自在な吊下げ具に取り付け、回
転枠の回転位置にかかわらず各基板の蒸着膜形成面が常
時下向きとなるように保持せしめることを目的としたも
のである。
を回転枠に軸支した回動自在な吊下げ具に取り付け、回
転枠の回転位置にかかわらず各基板の蒸着膜形成面が常
時下向きとなるように保持せしめることを目的としたも
のである。
簡単に述べると本発明は、回転枠に支持された複数の基
板の少なくとも一側表面に蒸着膜を形成する回転式蒸着
装置において、前記回転枠に回動自在に軸支された複数
の吊下げ具を設け、該吊下げ具を介して前記蒸着すべき
基板をその蒸着膜形成面が常時下向きとなるよう保持せ
しめたことを特徴とするものである。
板の少なくとも一側表面に蒸着膜を形成する回転式蒸着
装置において、前記回転枠に回動自在に軸支された複数
の吊下げ具を設け、該吊下げ具を介して前記蒸着すべき
基板をその蒸着膜形成面が常時下向きとなるよう保持せ
しめたことを特徴とするものである。
以下図面を参照しながら本発明に係る回転式蒸着装置に
ついて詳細に説明する。
ついて詳細に説明する。
第2図は、本発明に係る回転式蒸着装置の一実施例の概
略を示す側断面図で、前図と同等の部分については同一
符号で記しである。
略を示す側断面図で、前図と同等の部分については同一
符号で記しである。
6は回転枠で7は前記回転枠6の円周上の略等間隔の位
置に軸8により回転自在に軸支された複数の吊下げ具で
ある。
置に軸8により回転自在に軸支された複数の吊下げ具で
ある。
このような構成とすることによって基板5を前記複数の
吊下げ具1に蒸着膜形成面が下向きとなるよう取り付け
、前記回転枠6を矢印A方向に回転する左、基板5を取
り付けた吊下げ具7は重力によって常時水平状態を保持
された形となり、基板5の蒸着膜形成面も常に下向きと
なる。
吊下げ具1に蒸着膜形成面が下向きとなるよう取り付け
、前記回転枠6を矢印A方向に回転する左、基板5を取
り付けた吊下げ具7は重力によって常時水平状態を保持
された形となり、基板5の蒸着膜形成面も常に下向きと
なる。
かくして基板5の蒸着膜形成面以外に付着した不要な蒸
着物が剥離し落下しても、前記基板5の蒸着膜形成面は
常時下側を向いた形で水平状態にあるので、蒸着膜形成
面に付着することがなくなり、高品質の蒸着膜が形成で
きるわけである。
着物が剥離し落下しても、前記基板5の蒸着膜形成面は
常時下側を向いた形で水平状態にあるので、蒸着膜形成
面に付着することがなくなり、高品質の蒸着膜が形成で
きるわけである。
なお、本実施例ではガス放電表示パネルの電極基版表面
に対する誘電体層用の蒸着膜を形成する装置について詳
述したが、その他蒸着工程を有する各種素子のための量
産向蒸着装置として適用が可能である。
に対する誘電体層用の蒸着膜を形成する装置について詳
述したが、その他蒸着工程を有する各種素子のための量
産向蒸着装置として適用が可能である。
以上説明したように、本発明に係る回転式蒸着装置によ
れば、回転枠6の回転位置にかかわらず複数の基板5の
蒸着膜形成面が常時下方を向いた状態にあるので、蒸着
装置内において無用な異物の付着が防止でき、高品質の
蒸着膜の形成が可能となり、各種の一着装置に適用して
、極めて有益である。
れば、回転枠6の回転位置にかかわらず複数の基板5の
蒸着膜形成面が常時下方を向いた状態にあるので、蒸着
装置内において無用な異物の付着が防止でき、高品質の
蒸着膜の形成が可能となり、各種の一着装置に適用して
、極めて有益である。
第1図は、従来の回転式蒸着装置の概略を示す側断面図
、第2図は、本発明に係る回転式蒸着装置の一実施例の
概略を示す側断面図である。 1・・・真空容器、2・・・蒸着試料容器、3・・・蒸
着試料、4,6・・・回転枠、5・・・基板、7・・・
吊下げ具、8・・・観
、第2図は、本発明に係る回転式蒸着装置の一実施例の
概略を示す側断面図である。 1・・・真空容器、2・・・蒸着試料容器、3・・・蒸
着試料、4,6・・・回転枠、5・・・基板、7・・・
吊下げ具、8・・・観
Claims (1)
- 1回転枠によって回転するよう保持された複数の基板の
少なくとも一側表面に、蒸着膜を形成する回転式蒸着装
置において、前記回転枠に回転自在に軸支された複数の
吊下げ具を設け、該吊下げ具を介して前記蒸着すべき基
板をその蒸着膜形成面が常時下向きとなるよう保持せし
めたことを特徴とする回転式蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9224879A JPS585987B2 (ja) | 1979-07-19 | 1979-07-19 | 回転式蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9224879A JPS585987B2 (ja) | 1979-07-19 | 1979-07-19 | 回転式蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5616668A JPS5616668A (en) | 1981-02-17 |
| JPS585987B2 true JPS585987B2 (ja) | 1983-02-02 |
Family
ID=14049117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9224879A Expired JPS585987B2 (ja) | 1979-07-19 | 1979-07-19 | 回転式蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS585987B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0238835Y2 (ja) * | 1986-11-26 | 1990-10-18 | ||
| JP4721555B2 (ja) * | 2001-05-25 | 2011-07-13 | 河合光学株式会社 | プリズム面の蒸着装置およびその方法 |
-
1979
- 1979-07-19 JP JP9224879A patent/JPS585987B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5616668A (en) | 1981-02-17 |
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