JPS5867476A - サ−マルヘツド用薄膜多層配線回路 - Google Patents
サ−マルヘツド用薄膜多層配線回路Info
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- JPS5867476A JPS5867476A JP56165761A JP16576181A JPS5867476A JP S5867476 A JPS5867476 A JP S5867476A JP 56165761 A JP56165761 A JP 56165761A JP 16576181 A JP16576181 A JP 16576181A JP S5867476 A JPS5867476 A JP S5867476A
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- JP
- Japan
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- multilayer wiring
- lines
- block
- thermal head
- divided
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N97/00—Electric solid-state thin-film or thick-film devices, not otherwise provided for
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electronic Switches (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はファクシミリ装置、特にマトリックス駆動によ
って文字、図形を印字するサーマルヘッドのマトリック
ス多層配線回路の構成法に関するものである。
って文字、図形を印字するサーマルヘッドのマトリック
ス多層配線回路の構成法に関するものである。
熱印字記録に用いられる感熱記録ヘッドはグレージング
され、かつ平滑面を有するアルミナセラミック基板上な
どに複数個の発熱抵抗体とこの発熱抵抗体に電力を供給
するための電気配線導体を設けた構造からに構成される
。そしてこの記録ヘッドは記録すべき情報(信号)に従
って必要な熱パルスが得られるように対応する発熱抵抗
体に電気配線導体を介してパルス電流を流して発熱させ
、これに接触して走行される感熱記録紙の任意の箇所を
発色させ記録を行なうものである。
され、かつ平滑面を有するアルミナセラミック基板上な
どに複数個の発熱抵抗体とこの発熱抵抗体に電力を供給
するための電気配線導体を設けた構造からに構成される
。そしてこの記録ヘッドは記録すべき情報(信号)に従
って必要な熱パルスが得られるように対応する発熱抵抗
体に電気配線導体を介してパルス電流を流して発熱させ
、これに接触して走行される感熱記録紙の任意の箇所を
発色させ記録を行なうものである。
以下このサーマルヘッドの構成を第1図、第2図および
第3図で詳細に説明する。第1図は薄膜形サーマルプリ
ントヘッドの断面構造図である。蒸着およびスパッタリ
ングなどの真空成脱法により形成される各積層膜はグレ
ージングさt11平面を有するアルミナセラミック基板
1上に発熱抵抗体層2、電気配線導体N3、を形成し、
ホトエツチングにより発熱素子および第1層配線を形成
する。発熱抵抗体としては窒化タンタル(Ta−N)
、タンタルシリコン(Ta−8t)、クロームシリコン
(Cr−8t)などが一般に使用され、電気導体層とし
てはニクロム−金(NiCr/Au) 、クロム−金(
Cr/Au)、クロム−アルミニウム(Cr/A/)な
どの2#構造より一般に構成されている。また発熱抵抗
体(素子部)には、耐−化層4および耐度耗層5として
、酸化珪素(S i +Ot)/酸化タンタル(Ta、
O,)をスパッタリングにより積層する〇つぎに多層
配線絶縁層6としてポリイミド糸樹脂を回転塗布法によ
り形成し、その後第2層配線7%および逆流防止用ダイ
オード8を接続する箇所のみエツチングにより除去し、
接続スルーホール9を設ける。さらに第2層配線を形成
し、マトリックス多層配線回路が構成される。
第3図で詳細に説明する。第1図は薄膜形サーマルプリ
ントヘッドの断面構造図である。蒸着およびスパッタリ
ングなどの真空成脱法により形成される各積層膜はグレ
ージングさt11平面を有するアルミナセラミック基板
1上に発熱抵抗体層2、電気配線導体N3、を形成し、
ホトエツチングにより発熱素子および第1層配線を形成
する。発熱抵抗体としては窒化タンタル(Ta−N)
、タンタルシリコン(Ta−8t)、クロームシリコン
(Cr−8t)などが一般に使用され、電気導体層とし
てはニクロム−金(NiCr/Au) 、クロム−金(
Cr/Au)、クロム−アルミニウム(Cr/A/)な
どの2#構造より一般に構成されている。また発熱抵抗
体(素子部)には、耐−化層4および耐度耗層5として
、酸化珪素(S i +Ot)/酸化タンタル(Ta、
O,)をスパッタリングにより積層する〇つぎに多層
配線絶縁層6としてポリイミド糸樹脂を回転塗布法によ
り形成し、その後第2層配線7%および逆流防止用ダイ
オード8を接続する箇所のみエツチングにより除去し、
接続スルーホール9を設ける。さらに第2層配線を形成
し、マトリックス多層配線回路が構成される。
その後マトリックス多層配線回路を構成する第2珊配線
7の保護コー)10を施し、ダイオードテップ8を接続
用メタライズの構成された接続用パターンに合せて、は
んだ溶融接続法によって接続する。以上がサーマルヘク
ト製造法の概要である。
7の保護コー)10を施し、ダイオードテップ8を接続
用メタライズの構成された接続用パターンに合せて、は
んだ溶融接続法によって接続する。以上がサーマルヘク
ト製造法の概要である。
次に1このサーマルヘッドの駆動方式および回路構成に
ついて第2図で説明する。以下の説明に用いるサーマル
ヘッドはB4画素を処理できるヘッドについて述べる。
ついて第2図で説明する。以下の説明に用いるサーマル
ヘッドはB4画素を処理できるヘッドについて述べる。
このサーマルヘッドの概略仕様は有効記録@: 256
1131 、発熱抵抗体の主走査線密度8ドツ)/m全
発熱素子数=2048で発熱抵抗体1ドツトのサイズは
抵抗体長さ:25゜μL抵抗体@:90μmドツトスペ
ース35μm(ドツトピッチ125μm)である。
1131 、発熱抵抗体の主走査線密度8ドツ)/m全
発熱素子数=2048で発熱抵抗体1ドツトのサイズは
抵抗体長さ:25゜μL抵抗体@:90μmドツトスペ
ース35μm(ドツトピッチ125μm)である。
サーマルヘッドの駆動方式は発熱素子21が横一列に前
記密度で形成され、第1層配線22と・絶縁層の接続用
スルーホール25を界して第29配線24を接続し、多
層配線回路25を構成する。各発熱抵抗素子21には逆
流防止用ダイオード26が接続され共通端子27(図中
B、〜Bnで表示)に任意の数、まとめて引出される。
記密度で形成され、第1層配線22と・絶縁層の接続用
スルーホール25を界して第29配線24を接続し、多
層配線回路25を構成する。各発熱抵抗素子21には逆
流防止用ダイオード26が接続され共通端子27(図中
B、〜Bnで表示)に任意の数、まとめて引出される。
またこの時信号端子28(図中81〜Snで表示)の信
号線数は各共通端子27に引出され九ライン数と同数で
ありしたがってB4サイズを構成する全発熱素子数25
61+1X8ドツト/ws=2048ドツトはBnXS
nとなる。
号線数は各共通端子27に引出され九ライン数と同数で
ありしたがってB4サイズを構成する全発熱素子数25
61+1X8ドツト/ws=2048ドツトはBnXS
nとなる。
この状態で共通端子27、信号端子28には、それぞれ
スイッチング用トランジスタ回路29.210が共通端
子27にはBn個(TBn)信号端子28にはSn個(
TSn)接続され、実駆動時には情報に従って制御回路
(211,212)の処理信号によりて電源213から
の通電々流によ妙任意の発熱素子21を発熱させ、抵抗
体上を走行する感熱記鍮紙を発色させるものである。
スイッチング用トランジスタ回路29.210が共通端
子27にはBn個(TBn)信号端子28にはSn個(
TSn)接続され、実駆動時には情報に従って制御回路
(211,212)の処理信号によりて電源213から
の通電々流によ妙任意の発熱素子21を発熱させ、抵抗
体上を走行する感熱記鍮紙を発色させるものである。
このようにして駆動するサーマルヘッドにけ駆動電流と
してパルス状の電圧が両端子間に印加され、このパルス
印加条件はパルス電圧通電時間1m5(ミリセカンド)
で共通端子27に引出され九発熱素子数、全ドラ) (
Snドツト)を駆動し、順次〜Bnと走査することによ
り全ラインのドツト(素子)を駆動するいわゆる分割順
次駆動方式である。
してパルス状の電圧が両端子間に印加され、このパルス
印加条件はパルス電圧通電時間1m5(ミリセカンド)
で共通端子27に引出され九発熱素子数、全ドラ) (
Snドツト)を駆動し、順次〜Bnと走査することによ
り全ラインのドツト(素子)を駆動するいわゆる分割順
次駆動方式である。
ここで述べるB4サイズ記録ヘッド(全ドツト2048
)の場合では高速記録が可能となる機種でB4画素(
紙サイズ約257 X 564關)を約30秒で処理で
きる条件であね、副走査方向における記録密度7.7ド
ツト/龍の記録条件に対して、主走査線方向の1ライン
走査時間は約10mgである。
)の場合では高速記録が可能となる機種でB4画素(
紙サイズ約257 X 564關)を約30秒で処理で
きる条件であね、副走査方向における記録密度7.7ド
ツト/龍の記録条件に対して、主走査線方向の1ライン
走査時間は約10mgである。
この条件において、1ライン走査時間10as以下を満
足するためには共通端子数(分割数となる)は1パルス
が1[8であるため、電源容量(同時に駆動するドツト
数により容重は決まる。)をできる限り小さくするため
にけBn=8となり111L!lX8回駆動で共通端子
27に収納される発熱素子21は256ドツトとなる(
S1=256ライン)。
足するためには共通端子数(分割数となる)は1パルス
が1[8であるため、電源容量(同時に駆動するドツト
数により容重は決まる。)をできる限り小さくするため
にけBn=8となり111L!lX8回駆動で共通端子
27に収納される発熱素子21は256ドツトとなる(
S1=256ライン)。
つぎに第5図において、B4サイズ(全ドツト数=2(
14B)を構成する8ブロツク(Bn端子数)駆動の場
合のマトリックス多層配線回路について述べる。1つの
共通ブロック端子31に収納される発熱素子数は256
ドツトであり(Sn=254)各ブロックを模擬的に表
わしたのが第3図である。ここで前記したように、第2
層配線24(発熱素子も同じ)の形成寸法は8ライン/
wsであ抄この時の第2層配線24の形成寸法も同様の
密度で8ライン/關である0しかし第2層配線ライン寸
法は作業性を考慮して、ライン幅80μ諷1ラインスペ
ース:45μm(ピッチ:125趨)である。
14B)を構成する8ブロツク(Bn端子数)駆動の場
合のマトリックス多層配線回路について述べる。1つの
共通ブロック端子31に収納される発熱素子数は256
ドツトであり(Sn=254)各ブロックを模擬的に表
わしたのが第3図である。ここで前記したように、第2
層配線24(発熱素子も同じ)の形成寸法は8ライン/
wsであ抄この時の第2層配線24の形成寸法も同様の
密度で8ライン/關である0しかし第2層配線ライン寸
法は作業性を考慮して、ライン幅80μ諷1ラインスペ
ース:45μm(ピッチ:125趨)である。
このパターン形状においてマトリックス多層配線回路3
3は第3図に示す如< toで示す領域で(l!e*3
2sm)全領域の面積は約72cr/1 となる0この
内箱11I配線と第2層配線の交差する面積の占める割
合いは50%の560dと々る。この占有面積は第3図
に示す3QX7倍(ブロック数)の領域である。
3は第3図に示す如< toで示す領域で(l!e*3
2sm)全領域の面積は約72cr/1 となる0この
内箱11I配線と第2層配線の交差する面積の占める割
合いは50%の560dと々る。この占有面積は第3図
に示す3QX7倍(ブロック数)の領域である。
以上述べてきた256ライン×8回の分割順次駆動方式
による配線パターンの構成においてマトリックス多層配
線領域の形成歩留りは約70%であり、製品(サーマル
ヘッド)のコスト低減および総合歩留りを向上する点か
らは多層配線部の占める割合(面積)を出きる限り小さ
くすることが得策であることが容易に推察できる。
による配線パターンの構成においてマトリックス多層配
線領域の形成歩留りは約70%であり、製品(サーマル
ヘッド)のコスト低減および総合歩留りを向上する点か
らは多層配線部の占める割合(面積)を出きる限り小さ
くすることが得策であることが容易に推察できる。
ここで、マトリックス多層配線部での不良発生原因とし
ては主に第1層配線および第2層配線との眉間絶縁不良
(層間シ、−))、および各線間のシ四−ト(第1層、
第211)である。
ては主に第1層配線および第2層配線との眉間絶縁不良
(層間シ、−))、および各線間のシ四−ト(第1層、
第211)である。
本発明の目的は前記したような欠点をなくしサーマルプ
リントヘッドマトリックス多層配線回路の構成法(分割
)を変更することによりヘッドの回収率および、多層配
線の製造歩留りを向上させるための多層配線形成法を提
供するにある。
リントヘッドマトリックス多層配線回路の構成法(分割
)を変更することによりヘッドの回収率および、多層配
線の製造歩留りを向上させるための多層配線形成法を提
供するにある。
本発明はサーマルヘッドのマトリックス多層配線回路の
構成法に関するもので主走査方向に順次配列された複数
個の発熱素子をライン走査する方式としてブロック分割
順次駆動方法を行なうに当り、走査信号線数(信号端子
数)を分割し、各分割されたブロック内をさらに各ブロ
ック地位で順次駆動することにより多層配線数(第2層
配線数)を少なくシ、多r−配線の占める割合(占有面
積)を小さくし、ヘッドの基板回収率、および多層配線
形成歩留りを向上させるための多層配線形成法(分割駆
動方法)である0 本発明による具体的な実施例を第4図、第5図で詳細に
説明する。サーマルヘッドの製造プロセスに関しては従
来技術の項で記載したのでここではサーマルヘッド駆動
法の分割順次駆動の構成例について述べる0 先の従来技術で述べたようにB4サイズのサーマルヘッ
ドの例ではパルス幅=11、ノくルス走査時間(ライン
走査) : 1(lasの条件を満足するためには全発
熱素子数2048ドツトは、8分割され1共通端子内に
256ドツトが収納され、信号端子に引出される信号線
数も256ラインである。
構成法に関するもので主走査方向に順次配列された複数
個の発熱素子をライン走査する方式としてブロック分割
順次駆動方法を行なうに当り、走査信号線数(信号端子
数)を分割し、各分割されたブロック内をさらに各ブロ
ック地位で順次駆動することにより多層配線数(第2層
配線数)を少なくシ、多r−配線の占める割合(占有面
積)を小さくし、ヘッドの基板回収率、および多層配線
形成歩留りを向上させるための多層配線形成法(分割駆
動方法)である0 本発明による具体的な実施例を第4図、第5図で詳細に
説明する。サーマルヘッドの製造プロセスに関しては従
来技術の項で記載したのでここではサーマルヘッド駆動
法の分割順次駆動の構成例について述べる0 先の従来技術で述べたようにB4サイズのサーマルヘッ
ドの例ではパルス幅=11、ノくルス走査時間(ライン
走査) : 1(lasの条件を満足するためには全発
熱素子数2048ドツトは、8分割され1共通端子内に
256ドツトが収納され、信号端子に引出される信号線
数も256ラインである。
したがって当然のことながら、第2層配線数も同様25
6ラインで、その形成領域(第3図中l。
6ラインで、その形成領域(第3図中l。
で表示)は1.中321EIIIである。
多層配線領域において発生する層間絶縁不良は第1層配
線と第2層配線の交差する領域でありこの占有面積を小
さくする方式として、第4図に128ライン×2分割×
8ブロックの実施例について示す。図中信号端子42は
左右それぞれに128ラインに分割され(S+〜Sn%
S*’〜Sn’:n=128)共通端子41の1ブロツ
ク(端子)には128ドツトの発熱素子が収納され、ブ
ロック数は各々8ブロツク端子となる0 すなわち、128ラインのマトリックス多層配線回路4
3が構成される訳で128ラインの信号線でB4サイズ
の半分の画素(1281+11)を処理できる領域を持
つ。この場合の第2層配線の形成される領域(図中/1
で表示)は従来方式と同一寸法の場合(ライン幅80μ
雪、スペース45μmピッチ:125JHa)/++
16s+s従来比1//2である。また第1層、第2I
l配線の交差する領域の占有面積は、So1刈4倍の面
積で約18CI&従来比1Aとなる。
線と第2層配線の交差する領域でありこの占有面積を小
さくする方式として、第4図に128ライン×2分割×
8ブロックの実施例について示す。図中信号端子42は
左右それぞれに128ラインに分割され(S+〜Sn%
S*’〜Sn’:n=128)共通端子41の1ブロツ
ク(端子)には128ドツトの発熱素子が収納され、ブ
ロック数は各々8ブロツク端子となる0 すなわち、128ラインのマトリックス多層配線回路4
3が構成される訳で128ラインの信号線でB4サイズ
の半分の画素(1281+11)を処理できる領域を持
つ。この場合の第2層配線の形成される領域(図中/1
で表示)は従来方式と同一寸法の場合(ライン幅80μ
雪、スペース45μmピッチ:125JHa)/++
16s+s従来比1//2である。また第1層、第2I
l配線の交差する領域の占有面積は、So1刈4倍の面
積で約18CI&従来比1Aとなる。
この時の駆動方法は% 1taのノくルス通電によって
左右の1ブロック単位を同時に(B、およびB11)駆
動し順次〜Bo、〜B、′と分割駆動により、ライン走
査を行なう。また共通端子41、信号端子42へ外部か
ら接続されるスイッチング用トランジスタ回路44.4
5の素子数は従来方式と全く同数で共通端子側にはB1
、B、′各ブロックを共通にして8素子、信号端子側に
は12Bライン×2倍=256素子が収納される。
左右の1ブロック単位を同時に(B、およびB11)駆
動し順次〜Bo、〜B、′と分割駆動により、ライン走
査を行なう。また共通端子41、信号端子42へ外部か
ら接続されるスイッチング用トランジスタ回路44.4
5の素子数は従来方式と全く同数で共通端子側にはB1
、B、′各ブロックを共通にして8素子、信号端子側に
は12Bライン×2倍=256素子が収納される。
次に第5図に示す実施例の場合には第4図で示した12
8ライン×2分割 の方法と同様にさらに信号端子数(
256ライン)を細分割し、32ライン×8分割×8ブ
ロックの構成例である。図中信号端子52は1分割当D
(S、〜3n) 32ラインに分割され、共通端子5
1の1プμツク(端子)Kは、32ドツトの発熱素子が
収納されブロック数は各々8ブロツク端子となる。すな
わち1分割当り32ラインのマトリックス多層配線回路
53が構成される訳で52ラインの信号線でB4サイズ
の1/8の合の第2層配線の形成される領域(図中1.
で表示)はlt中4.0IEII従来比Aである。
8ライン×2分割 の方法と同様にさらに信号端子数(
256ライン)を細分割し、32ライン×8分割×8ブ
ロックの構成例である。図中信号端子52は1分割当D
(S、〜3n) 32ラインに分割され、共通端子5
1の1プμツク(端子)Kは、32ドツトの発熱素子が
収納されブロック数は各々8ブロツク端子となる。すな
わち1分割当り32ラインのマトリックス多層配線回路
53が構成される訳で52ラインの信号線でB4サイズ
の1/8の合の第2層配線の形成される領域(図中1.
で表示)はlt中4.0IEII従来比Aである。
また第1轡、第2層配線の交差する領域の占有面積はS
O會X56倍の面積となり、約4.4d、従来比1/8
である。この場合の駆動方法も前記128ライン×2分
割の時と同様に各分割ブロック内の1ブロツク端子(B
、、B、/、Bl’ 、Bl” ・)を共通に、1+t
gのパルス通電によりて同時駆動し順次分割されたブロ
ック端子内をライン走行し、その走査時間は10m5で
可能となる。またこの時にも外部に接続されるスイッチ
ング用(ロ)路内54.55の素子数は従来方式と同数
である。
O會X56倍の面積となり、約4.4d、従来比1/8
である。この場合の駆動方法も前記128ライン×2分
割の時と同様に各分割ブロック内の1ブロツク端子(B
、、B、/、Bl’ 、Bl” ・)を共通に、1+t
gのパルス通電によりて同時駆動し順次分割されたブロ
ック端子内をライン走行し、その走査時間は10m5で
可能となる。またこの時にも外部に接続されるスイッチ
ング用(ロ)路内54.55の素子数は従来方式と同数
である。
実施例で述べたようにマトリックス多層配線回路の構成
法を信号線数の分割および各分割ブロック内を共通に順
次駆動することにより第2層配線数の低減を計り、その
結果、多層配線面積を縮小可能とし、絶縁不良などによ
る層間絶縁不良および線間絶縁不良などの発生確率を大
幅に減少させることが可能となる。
法を信号線数の分割および各分割ブロック内を共通に順
次駆動することにより第2層配線数の低減を計り、その
結果、多層配線面積を縮小可能とし、絶縁不良などによ
る層間絶縁不良および線間絶縁不良などの発生確率を大
幅に減少させることが可能となる。
この方式によりB4サイズサーマルヘッドを製造j7た
場合の効果例を第6図および第7図で説明する。第6図
はサーマルヘッド61の外形寸法に対するマトリックス
多層配線の形成領域を示したもので、表は分割駆動方式
により得られた効果を示しだものである0 表 サーマルヘッド一枚当り従来方式に比べ第1層配線およ
び第2層配線の交差する領域の占有面積は52ライン×
8分割×8ブロックの場合には従来比論となり、マトリ
ックス多層配線部の占める形成領域(/x/L)も従来
比的μに縮小される。この結果、単位面積当りの不良発
生率も約輪に低減され、多層配線形成歩留りも約25チ
向上された。
場合の効果例を第6図および第7図で説明する。第6図
はサーマルヘッド61の外形寸法に対するマトリックス
多層配線の形成領域を示したもので、表は分割駆動方式
により得られた効果を示しだものである0 表 サーマルヘッド一枚当り従来方式に比べ第1層配線およ
び第2層配線の交差する領域の占有面積は52ライン×
8分割×8ブロックの場合には従来比論となり、マトリ
ックス多層配線部の占める形成領域(/x/L)も従来
比的μに縮小される。この結果、単位面積当りの不良発
生率も約輪に低減され、多層配線形成歩留りも約25チ
向上された。
サラニ、280×180tIのグレーズドセラミック基
板轟抄のヘッド製造枚数は従来比2倍となり量産性に非
常に有利な駆動方式であることがわかる0
板轟抄のヘッド製造枚数は従来比2倍となり量産性に非
常に有利な駆動方式であることがわかる0
第1 図1d”j−マルヘッドの断面概要図、第2図は
サーマルヘッドの駆動方式を示す概要図、第5図は従来
方式によるB4サイズサーマルヘクトのマトリックス多
層配線部を示す模擬図、第4図および第5図は本発明に
よる信号線分割による128X2.32×8分割方式の
駆動方式を示す模擬図、第6図はサーマルヘッド多層配
線領域を示す模擬図である。
サーマルヘッドの駆動方式を示す概要図、第5図は従来
方式によるB4サイズサーマルヘクトのマトリックス多
層配線部を示す模擬図、第4図および第5図は本発明に
よる信号線分割による128X2.32×8分割方式の
駆動方式を示す模擬図、第6図はサーマルヘッド多層配
線領域を示す模擬図である。
Claims (1)
- 1、 高抵抗基板上などに真空蒸着、スパッタリング法
などの真空成膜技術により成膜されてなる薄膜形サーマ
ルヘッドにおいて、発熱素子に信号を選択的に供給する
だめのマトリックス多層配線回路の構成を、複数個まと
められて引出される信号線を1つの共通端子として、骸
共通端子に収納される信号線数を信号を供給するための
信号端子として、各共通端士別に順次パルス通電により
駆動する時、引出された信号端子をさらに細分割し、分
割された信号線数のライン数でマトリックス駆動を行な
う際、1パルスの通電により、分割された各共通端子の
1ブロツクを同時に順次駆動することにより、サーマル
ヘッドに収納された全ての発熱素子を枢動走査すること
を特徴とするサーマルヘッド用薄膜多層配線回路02
選択的に信号を供給するために引出された信号端子の信
号線数を細分割し、分割された数のマトリックス多層配
線回路を形成することによりて、多層配線を構成する信
号線数を1/分割数に低減し、多層配線の占有面積を縮
小したことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のサ
ーマルヘッド用薄膜多層配線回路0
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56165761A JPS5867476A (ja) | 1981-10-19 | 1981-10-19 | サ−マルヘツド用薄膜多層配線回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56165761A JPS5867476A (ja) | 1981-10-19 | 1981-10-19 | サ−マルヘツド用薄膜多層配線回路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5867476A true JPS5867476A (ja) | 1983-04-22 |
Family
ID=15818537
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56165761A Pending JPS5867476A (ja) | 1981-10-19 | 1981-10-19 | サ−マルヘツド用薄膜多層配線回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5867476A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011178122A (ja) * | 2010-03-03 | 2011-09-15 | Toshiba Tec Corp | サーマルプリンタ |
-
1981
- 1981-10-19 JP JP56165761A patent/JPS5867476A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011178122A (ja) * | 2010-03-03 | 2011-09-15 | Toshiba Tec Corp | サーマルプリンタ |
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