JPS586883B2 - 磁気スケ−ルの製作方法 - Google Patents

磁気スケ−ルの製作方法

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JPS586883B2
JPS586883B2 JP52026318A JP2631877A JPS586883B2 JP S586883 B2 JPS586883 B2 JP S586883B2 JP 52026318 A JP52026318 A JP 52026318A JP 2631877 A JP2631877 A JP 2631877A JP S586883 B2 JPS586883 B2 JP S586883B2
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JP
Japan
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scale
magnetic
magnetized
magnet
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JP52026318A
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井上潔
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Inoue Japax Research Inc
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Inoue Japax Research Inc
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Publication date
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  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 従来の磁気スケールは所定の帯状あるいは棒状等の基体
上に磁気テープ状の磁性層を被覆形成して、これに一定
波長の矩形波または正弦波信号を磁気記録し、その磁性
層に磁気ヘッドを対向して相対的に移動させ、磁気ヘッ
ドによりその相対位置を検出するようにしたものが知ら
れている。
しかるにこのような磁気スケールは磁性層と基体とが材
質が異なるため、熱膨張係数の相違により熱的に影響さ
れ易く、相対間に熱膨張による歪みができて、検出に該
差を生じ、またスケールは平面磁性層に一定波長で磁気
記録したものであるからヘッドによる磁気一電気変換の
検出出力も大きくは取れず、これによる検出精度が低下
する欠点があった。
本発明はこのような欠点を除去した磁気スケールを提供
するもので、スケールには基材として一体の磁気を用い
、これに等間隔目盛の着磁をし、該着磁された磁極部分
と他の部分とに電解または化研による凹凸を形成し、凹
凸した着磁目盛を形成したものである。
化学研摩または電解研摩(加工)に際し、磁化を利用し
て着磁目盛部分にフエライト等を吸着させて非加工層を
形成させて加工すれば、精密に凹凸目盛を形成でき、着
磁した磁極目盛が凸出して他から浮出した着磁目盛が形
成でき、これにより検出出力が極めて大きくとれ感度の
高い検出ができるものである。
以下一実施例図により説明すると、第1図は棒状、帯状
等の長尺基材1の片面に着磁した凹凸目盛2を形成した
例である。
3は凹凸目盛2に微小間隙で対向して相対的に移動する
磁気ヘッドで、この読み取り検出は適宜の方法、手段に
より、磁気的変化を電気的信号に変換検出を行なう。
第2図は長尺基材1の両面または全面に着磁した凹凸目
盛21、22を形成したもので、この場合の検出ヘッド
は両目盛21、22に対向するヘッドを設けて検出する
ことができる。
第3図はまた別の実施例で、着磁した凹凸目盛を所定の
ピッチで所定角度傾斜する、またはネジ軸状の目盛4を
形成したものである。
なお着磁方法は第1図のように磁石1の長さ方向に所定
の波長で着磁してもよく、 また第2図のように帯状、角棒、基材磁石を用いて、上
下両面に対称に凹凸目盛21、22を形成するときは、
図のように上下方向に着磁することができる。
この場合の磁極検出は2倍以上の検出出力が得られるこ
とになる。
次にかゝる磁気スケールの製作について説明する。
基材磁石1には線状、帯状、棒状等のスケール形状が容
易に得られるように、圧延、線引、切削研削等の機械加
工が容易な磁石材料を選択することが必要である。
このような磁石材料にOr−Fe系のスピノーダル分解
型磁石合金が好適である。
勿論加工可能、加工容易な磁石材料にはFe−Ni−A
7系、Fe−Ni−Ti系、Fe−Al一Ni−Co系
、F e −M o −C o系、Fe一P t, C
o −P t, F e−Mn系、Mn−A l系F
e −M n −A l系、Mn−Al2−Ti系等
従来公知の材料が利用できる。
そこでCr−Fe−Co系磁石合金を用い、この合金素
材によって、機械加工等により棒状、帯状等の所要とす
る形状に加工した基材を製作する。
次にこの基材に対向して着磁用磁気ヘッドを設け、第1
図の長さ方向に、また第2図の厚さ方向に着磁を行なう
この着磁はスケールの精度を決定するものであるから精
密に行ない所定の等間隔目盛で着磁する。
第1図のものでは例えばNとS極の間隔をOlmmに、
また第2図のものでは厚さ2mmの片側にN、片側にS
を着磁する。
勿論着磁間隔等は任意に選択制御できるわけである。
このようにして着磁した基材の上に、100oAのFe
304磁性粉,と10μ2プラスチック粒子をほゞ 1
: 0.5の割合で混合したものを水とグリセリン1
5%液に分散混合して塗着する。
塗着は磁化を利用することにより着磁目盛上に精度良く
行なわれ、塗着層は120℃、10分間の焼結によって
固定される。
次に化学的エッチング(研摩)、または電解加工するが
、着磁目盛上に固定されたFe304塗着層は非加工層
となり、この部分が加工残りして凸出する。
例えばNaN0315%液で5分間の電解加工したとき
、着磁極部分は他の部分に比べて約0. 1mmの深さ
寸法差で浮彫された、凸部の巾は約40μ、凹部の巾は
約50μに加工できた。
通常凸部10μ、凹部20μ程度まで容易に加工形成す
ることができる。
加工中の化研液、電解液は流動させながら行なうことに
より加工スピードが向上し、加工精度もよくなる。
このようにして加工された磁気スケールの検出テストを
第4図について説明すると、図のようにスケール1に1
0枚の磁極(パーマロイ)5を構成した磁気ヘッド6を
対向し、ヘッド6の励磁は50KHz電源7で行ない、
磁気一電気変換検出回路8に出力約55mVを得ること
ができた。
これは着磁力が強いこと、磁極が凸出して凹部との間に
磁気勾配が高く,感度が高く、これにより凸部磁極の目
盛部分で極めて強力な変化磁束を検出できるからであっ
て、これは磁気目盛が平面の従来のスケールの約100
倍もの高出力が得られるものである。
また図のようにスケールの上面とともに下面の着磁目盛
も同時にパラレルに検出したときは出力は前記の約3倍
(150mV)、従来に比べて約300倍の高出力とな
った。
なお磁気スケールの読み取りには通常の内挿法による高
精度読み取りが可能で、波長λのスケールに対して(1
+7)λづれたマルチプルヘッドを設け、N逓倍された
位相変調(あるいは振巾変調)出力を位相検波する場合
、キャリア周波数がN倍に上り、キャリアの位相が2π
変る毎に1パルスを出力してカウンタ計数するようにす
ればNの内挿ができ、λ=100μから10μ単位の精
度読み出しは容易にできることになる。
また第3図の傾斜目盛スケールでは、例えば移動方向に
直角(上下垂直)線上に複数nの磁気検出ヘッドを配列
して検出するようにすれば、λ/nが検出の最小単位と
なり、例えばλ=100μ、n=10とすれば10μ精
度の読み出しが可能で、これに更に前記した内挿法を利
用して角の内挿をすれば1μ精度の読み出しが可能とな
る。
このようにして本発明の磁気スケールは着磁した凹凸目
盛で感度が高く、高い精度の検出ができ、またスケール
は一体の基材磁石で構成されているから熱的な歪みを伴
なうことなく利用でき、工作機械等の位置出し、検出等
に利用して高精度の読み取りが可能さなる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例構造図、第2図、第3図はい
ずれも他の実施例構造図、第4図は磁気検出の一実施例
図である。 1は基材磁石、2は着磁凹凸目盛、3は磁気ヘッド、2
1,22は着磁凹凸目盛、4は傾斜着磁凹凸目盛、5は
磁極、6は磁気ヘッド、7は励磁電源、8は検出回路で
ある。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 基材磁石に等間隔目盛で着磁をし、該着磁部分に磁
    気吸着により、非加工材層を形成させ、その後化学的も
    しくは電気化学的加工することにより前記着磁部分を凸
    出させて凹凸の着磁目盛を形成させることを特徴とする
    磁気スケールの製作方法。
JP52026318A 1977-03-10 1977-03-10 磁気スケ−ルの製作方法 Expired JPS586883B2 (ja)

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JPS53110864A JPS53110864A (en) 1978-09-27
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5629115A (en) * 1979-08-17 1981-03-23 Inoue Japax Res Inc Manufacture for magnetic scale
JPS5774613A (en) * 1980-10-28 1982-05-10 Sony Corp Magnetic scale

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JPS56724B2 (ja) * 1972-12-30 1981-01-09

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