JPS5869895A - 1,3,3,5,5−ペンタアジリジノ−1−チア−2,4,6−トリアザ−3,5−ジホスホリン−1−オキシドの製造法 - Google Patents
1,3,3,5,5−ペンタアジリジノ−1−チア−2,4,6−トリアザ−3,5−ジホスホリン−1−オキシドの製造法Info
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- JPS5869895A JPS5869895A JP16959881A JP16959881A JPS5869895A JP S5869895 A JPS5869895 A JP S5869895A JP 16959881 A JP16959881 A JP 16959881A JP 16959881 A JP16959881 A JP 16959881A JP S5869895 A JPS5869895 A JP S5869895A
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- aromatic
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- oxide
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はエチレンイミンと1.5.3.5.5−ペンタ
へa−1−チア−2,4,6−)ジアザ−3,5−ジホ
スホリンー1−オキシド(以下・([p12)2MSO
Xという)との反応による1、5,3.5.5−ペンタ
アジリジノ−1−チア−2,4,6−ドリアザー6.5
−ジホスホリンー1−オキシド(以下・5OAxという
)の新規な製造法に関する。
へa−1−チア−2,4,6−)ジアザ−3,5−ジホ
スホリンー1−オキシド(以下・([p12)2MSO
Xという)との反応による1、5,3.5.5−ペンタ
アジリジノ−1−チア−2,4,6−ドリアザー6.5
−ジホスホリンー1−オキシド(以下・5OAxという
)の新規な製造法に関する。
80Asは公知の化合物であり、きわめて強い制ガン作
用を発現することが報告されている(J。
用を発現することが報告されている(J。
1・−bar麹、し、J・0簡0・r115.657
(1979)および、T、 O,van a@Graa
p@l @t al、、horgmiaa Ohimi
oaムeta。
(1979)および、T、 O,van a@Graa
p@l @t al、、horgmiaa Ohimi
oaムeta。
5る、L 169(1981)参照)。しかし、その製
造法(前記文献参照)は、無水の有機溶媒中で大過剰の
エチレンイミンまたは第3級アセンをHOj受容体とし
て用い、−7500のきわめて低い温度でエチレンイミ
ンと(IPXg)2N301を反応させるというきわめ
てきびしい反応条件からなっており、収率も60襲前後
と充分満足しうるちのではない。
造法(前記文献参照)は、無水の有機溶媒中で大過剰の
エチレンイミンまたは第3級アセンをHOj受容体とし
て用い、−7500のきわめて低い温度でエチレンイミ
ンと(IPXg)2N301を反応させるというきわめ
てきびしい反応条件からなっており、収率も60襲前後
と充分満足しうるちのではない。
さらにまた、BOAxの制ガン作用がより詳しく報告さ
れ(、T、 F、 L&barr@ at ml、 、
Oanomr L・tt*rt 12.245 (1
981)参照)、BOIyの有用性が脚光を浴びるにし
たがって、その実用的な製造法を開発するための研宛が
活発になされ゛るようになってきている。
れ(、T、 F、 L&barr@ at ml、 、
Oanomr L・tt*rt 12.245 (1
981)参照)、BOIyの有用性が脚光を浴びるにし
たがって、その実用的な製造法を開発するための研宛が
活発になされ゛るようになってきている。
BOAs製造の出発原料として用いられる(MPi2)
、8M80Xは公知化合物であり、たとえばダラムペル
らによって報告されている方法(H,it。
、8M80Xは公知化合物であり、たとえばダラムペル
らによって報告されている方法(H,it。
Baal□、H,P、 T・1vis +11.0.
van 6・Graarpel 、Re。
van 6・Graarpel 、Re。
Trav、 Ohh+、、91.93B (1972)
参照)によって製造できるが−その収率がきわめて低い
ため高価である。したがって、工業的見知からする七、
以後の反応、すなわち(MPi[B)2四αからEX)
Asを製造する際の反応の収率向上およびその反応条件
の緩和が当面の*iiiである。
参照)によって製造できるが−その収率がきわめて低い
ため高価である。したがって、工業的見知からする七、
以後の反応、すなわち(MPi[B)2四αからEX)
Asを製造する際の反応の収率向上およびその反応条件
の緩和が当面の*iiiである。
従来の5oA11の一般的な製造法の間麺点は(1)引
火性、燃焼性が強く大量の取り扱いに注意ヲ要スるエチ
ルエーテルやテト、ツヒドロ7ランを溶媒として使用し
ていること、 (ロ)それらの溶媒のみならず反応系全体を無水条件に
保たなければならないこと、 (ロ)きわめて毒性の強いエチレンイミンを大過剰に使
用しなけれdならないこと、および(n−7500とい
う低温で反応を行なわなければならないこと などてあり、したがって工業的見地からすると特別な装
置および煩雑な操作を必要とし、しかも、火災の危険お
よび衛生面での危険を伴なうきわめて不利な方法といわ
ざるをえない。
火性、燃焼性が強く大量の取り扱いに注意ヲ要スるエチ
ルエーテルやテト、ツヒドロ7ランを溶媒として使用し
ていること、 (ロ)それらの溶媒のみならず反応系全体を無水条件に
保たなければならないこと、 (ロ)きわめて毒性の強いエチレンイミンを大過剰に使
用しなけれdならないこと、および(n−7500とい
う低温で反応を行なわなければならないこと などてあり、したがって工業的見地からすると特別な装
置および煩雑な操作を必要とし、しかも、火災の危険お
よび衛生面での危険を伴なうきわめて不利な方法といわ
ざるをえない。
本発明は、かかる従来の間−に鑑みなされたものであり
、温和な条件で反応が円滑に進行し、特別な装置を必要
とせず、かつ収率の向上せられた80Asの製造法を提
供すること撃目的とする。
、温和な条件で反応が円滑に進行し、特別な装置を必要
とせず、かつ収率の向上せられた80Asの製造法を提
供すること撃目的とする。
すなわち本発明は、
エチレンイl>と(MPKg)g)i&)Xとの反応を
、有機溶媒およびアルカリ水浴液からなる2相系中で、
触媒量の第6級アミンまたは芳香族アミンを加えて行な
うことを特徴とする5OAI+の製造法に関する。
、有機溶媒およびアルカリ水浴液からなる2相系中で、
触媒量の第6級アミンまたは芳香族アミンを加えて行な
うことを特徴とする5OAI+の製造法に関する。
本発明の好ましい実施態様をつぎにあける0すなわち、
(lJF]4)!jlrJOXの^リゲン含量に対し6
当量以上、好ましくは4当量の塩基を含有するアルカリ
水溶液、触媒量の第6級アミンまたは芳香族アミンおよ
び有機溶媒からなる混合物を冷却秘、はけしく攪拌しな
がら(MPi2)2N30Xを有機溶媒に溶かした溶液
を徐々に滴下する。滴下終了後、反応混合物を室温付近
で約10〜18時間攪拌する。
当量以上、好ましくは4当量の塩基を含有するアルカリ
水溶液、触媒量の第6級アミンまたは芳香族アミンおよ
び有機溶媒からなる混合物を冷却秘、はけしく攪拌しな
がら(MPi2)2N30Xを有機溶媒に溶かした溶液
を徐々に滴下する。滴下終了後、反応混合物を室温付近
で約10〜18時間攪拌する。
つぎに静置して有機層と水層を分離させたのち、有機層
を分取する。該有機層はN&2JO4または−04など
の乾燥剤上で乾燥し、ついで濃縮して残渣をうる。この
残渣は再結晶やカラムタ璽マ)グラフィーなどの公知の
手段で精製し、所望の80Asをつる。
を分取する。該有機層はN&2JO4または−04など
の乾燥剤上で乾燥し、ついで濃縮して残渣をうる。この
残渣は再結晶やカラムタ璽マ)グラフィーなどの公知の
手段で精製し、所望の80Asをつる。
本発明に用いる(M’l!X2)2MSOXは、その^
リゲン原子枦フッ素原子、塩素原子、臭素原子または曹
つ素原子のものがあげられるが、とくに塩素原子である
ものが好ましい。
リゲン原子枦フッ素原子、塩素原子、臭素原子または曹
つ素原子のものがあげられるが、とくに塩素原子である
ものが好ましい。
有機溶媒は(四11.H)2M130rをよく溶解する
ものが用いられる。その具体例としては、たとえば塩化
メチレン、OIホルム、1,2−ジクロルエタン、1.
1−ジクロルエタンなどのへロゲン化炭化水素系有機溶
媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系有機溶
媒、ベンゼン、トルニジなどの芳香族炭化水素系有機溶
媒またはジエチルエーテル、テトラヒト田フラン、ジオ
キずンなどのエーテル系有機溶媒などがあけられる。そ
れらの中でもとくに好ましいものはへWゲン化炭化水素
系有機溶媒である。
ものが用いられる。その具体例としては、たとえば塩化
メチレン、OIホルム、1,2−ジクロルエタン、1.
1−ジクロルエタンなどのへロゲン化炭化水素系有機溶
媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系有機溶
媒、ベンゼン、トルニジなどの芳香族炭化水素系有機溶
媒またはジエチルエーテル、テトラヒト田フラン、ジオ
キずンなどのエーテル系有機溶媒などがあけられる。そ
れらの中でもとくに好ましいものはへWゲン化炭化水素
系有機溶媒である。
第6級アミンとしては、たとえdトリエチルアミン、ト
リプロピルアミン、トリブチルアミン、エチル−シイツ
ブ田ビルアミン、M−メチルピロリジン、舅−メチルピ
ペリジン、N−メチルモルホリンなどがあけられる。ま
た芳香族アミンとしてはピリジン、キノリン、ピロリジ
ン、ルチジン、4−ジメチルアミノ−ピリジンなどがあ
けられる。これら第6級アセンまたけ芳香族アミンは、
その添加量を多くするほど反応速度が向上するが、通常
は、(NPX!り、1118億のハロゲン含量に対して
約0.01〜0.5当量の範囲で用いるのが好ましく、
とくに約0.05当量程度が好適である。
リプロピルアミン、トリブチルアミン、エチル−シイツ
ブ田ビルアミン、M−メチルピロリジン、舅−メチルピ
ペリジン、N−メチルモルホリンなどがあけられる。ま
た芳香族アミンとしてはピリジン、キノリン、ピロリジ
ン、ルチジン、4−ジメチルアミノ−ピリジンなどがあ
けられる。これら第6級アセンまたけ芳香族アミンは、
その添加量を多くするほど反応速度が向上するが、通常
は、(NPX!り、1118億のハロゲン含量に対して
約0.01〜0.5当量の範囲で用いるのが好ましく、
とくに約0.05当量程度が好適である。
アルカリ水溶液としては、たとえばアルカリ金属水酸化
物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、ア
ルカリ土類金属水酸化物などの無機塩基の水溶液があけ
られる。それらのうちでもとくに好ましいものは、水酸
化ナトリウムまたは水酸化カリウムの約20〜40%水
溶液である。
物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、ア
ルカリ土類金属水酸化物などの無機塩基の水溶液があけ
られる。それらのうちでもとくに好ましいものは、水酸
化ナトリウムまたは水酸化カリウムの約20〜40%水
溶液である。
反応温度はとくに限定されないが、好ましくは約−50
〜50oOで行なう。通常は約0〜!IO’0゜すなわ
ち室温付近で充分に反応が進行する。
〜50oOで行なう。通常は約0〜!IO’0゜すなわ
ち室温付近で充分に反応が進行する。
本発明によれば、従来法において無水条件下で強力なH
O1受容体として作用すると考えられていた第6級アミ
ンまたは芳香族アミン(以下、両者を総括してアミンと
いう)が含水状態すなわち水−有機溶媒の2相系の条件
下でも同様に強力な1ioj受容体として作用する。こ
の反応メカニズムは、おそらく有機溶媒中で7センがH
od受容体として作用し、生成したアミン・HOj塩が
水相に移行してそこでアルカリによってアミンに再生さ
れ、ふたたび有機層に移行し強力な[07受容体として
作用するという一連のサイクルからなっているものと考
えられる。その根拠の1つとして、たとえばアミンを添
加しないで同様の反応を行なったばあい% H07受
容体となるアルカリ水溶液は水相と有機相の界面でしか
その機能を果すことができず、その結果反応は長時間を
要し、かつ収率が低い。したがって触媒量のアミンがH
IM受容体として重要な役割を果していることは明らか
である。
O1受容体として作用すると考えられていた第6級アミ
ンまたは芳香族アミン(以下、両者を総括してアミンと
いう)が含水状態すなわち水−有機溶媒の2相系の条件
下でも同様に強力な1ioj受容体として作用する。こ
の反応メカニズムは、おそらく有機溶媒中で7センがH
od受容体として作用し、生成したアミン・HOj塩が
水相に移行してそこでアルカリによってアミンに再生さ
れ、ふたたび有機層に移行し強力な[07受容体として
作用するという一連のサイクルからなっているものと考
えられる。その根拠の1つとして、たとえばアミンを添
加しないで同様の反応を行なったばあい% H07受
容体となるアルカリ水溶液は水相と有機相の界面でしか
その機能を果すことができず、その結果反応は長時間を
要し、かつ収率が低い。したがって触媒量のアミンがH
IM受容体として重要な役割を果していることは明らか
である。
つぎに実施例をあけて本発明の製造法をより詳細に説明
するが、本発明はそれらの実施例のみに限定されるもの
ではない。
するが、本発明はそれらの実施例のみに限定されるもの
ではない。
実施例1
20%舅−H水MI液1so、にエチレンイミン10m
1、トリエチルアミン1ajおよび塩化メチレン団−を
加え、4°aに冷却しながらはけしく攪拌した。
1、トリエチルアミン1ajおよび塩化メチレン団−を
加え、4°aに冷却しながらはけしく攪拌した。
つぎに(MPX2)−01のハロゲン原子が塩素原子で
あるもの(以下、(MPOj2)2NsoOjという)
の1opを塩化メチレン50ajに溶解した溶液を約6
0分間かけて滴下した。反応液を4°0のまま約1時間
攪拌したのち、冷却を解いて室温にまで昇温させながら
約12時間攪拌した。つぎ−に塩化メチレンSownを
加え、反応液を静置したのち、分離した有機層を分取し
た。有機層は飽和食塩水で洗浄しく50ajX3@)、
硫酸!グネシウム上で乾燥したのち、短かいシリカゲル
カラムに通した。
あるもの(以下、(MPOj2)2NsoOjという)
の1opを塩化メチレン50ajに溶解した溶液を約6
0分間かけて滴下した。反応液を4°0のまま約1時間
攪拌したのち、冷却を解いて室温にまで昇温させながら
約12時間攪拌した。つぎ−に塩化メチレンSownを
加え、反応液を静置したのち、分離した有機層を分取し
た。有機層は飽和食塩水で洗浄しく50ajX3@)、
硫酸!グネシウム上で乾燥したのち、短かいシリカゲル
カラムに通した。
流出液を集めて濃縮し、えられた残渣を塩化メチレン−
エーテル混合溶媒から再結晶して8.29(収率74,
5%)のBOAxをえた。
エーテル混合溶媒から再結晶して8.29(収率74,
5%)のBOAxをえた。
融 点: 105〜105.560元素分析値’
O1oH2oM8P290 (分子量562.23とし
て)理論値C%):H5,15H5,56N30.95
実測’W1eE):O56,00H6,44N31.2
431P−NMR分析値(■O13を溶媒とし、81%
リン醗を外部―準として) + 55.91 vpwa
mWIA例2 20 % IcDH水溶液150 pにエチレンイミン
1Gaj。
O1oH2oM8P290 (分子量562.23とし
て)理論値C%):H5,15H5,56N30.95
実測’W1eE):O56,00H6,44N31.2
431P−NMR分析値(■O13を溶媒とし、81%
リン醗を外部―準として) + 55.91 vpwa
mWIA例2 20 % IcDH水溶液150 pにエチレンイミン
1Gaj。
エチルージイソプリビルアミン1wrlおよび塩化メチ
レン50−を加え、0°Oに冷却しながらはげしく攪拌
した。つぎに<mt怠)d!l0Qj 1Qりを塩化メ
チレンSOmj&:jl解した溶液を80分間かけて滴
下した。反応液を0°0のまま約1時間攪拌したのち、
冷却を解いて室温にまで昇温させながら約12時間攪拌
した。見られた2相系の反応液は前′記実施例1と同様
にして処理を行ない、8C1jLsの結晶a、o @
<収率72.7%)をえた。
レン50−を加え、0°Oに冷却しながらはげしく攪拌
した。つぎに<mt怠)d!l0Qj 1Qりを塩化メ
チレンSOmj&:jl解した溶液を80分間かけて滴
下した。反応液を0°0のまま約1時間攪拌したのち、
冷却を解いて室温にまで昇温させながら約12時間攪拌
した。見られた2相系の反応液は前′記実施例1と同様
にして処理を行ない、8C1jLsの結晶a、o @
<収率72.7%)をえた。
実施例6
go s x国水溶液100gにエチレンイミン1()
+aj。
+aj。
シリブチルアミン1mJおよび1.2−シクリルエタン
50iajを加え、4°Oに冷却しながらはげしく攪拌
した。’) * ニ(MPOjg)gli800j 1
0 pを1.2−ジク嘗ルエタン50Iajに溶解した
溶液を50分間かけて滴下した。反応液を4’Oのまま
約1時間攪拌したのち、冷却を解いて室温にまで昇温さ
せながらさらに約14時間攪拌した。見られた2相系の
反応液は前記実施例1と同様にして処理を行ナイ、BO
Aj(Fl)結晶7.89(収率70.1 % )をえ
た。
50iajを加え、4°Oに冷却しながらはげしく攪拌
した。’) * ニ(MPOjg)gli800j 1
0 pを1.2−ジク嘗ルエタン50Iajに溶解した
溶液を50分間かけて滴下した。反応液を4’Oのまま
約1時間攪拌したのち、冷却を解いて室温にまで昇温さ
せながらさらに約14時間攪拌した。見られた2相系の
反応液は前記実施例1と同様にして処理を行ナイ、BO
Aj(Fl)結晶7.89(収率70.1 % )をえ
た。
実施例4
50%NaOH水溶液100gにエチレンイミン10m
j。
j。
2.6−ルチジン111および塩化メチレン10012
14を加え、0°0に冷却しながらはげしく攪拌した。
14を加え、0°0に冷却しながらはげしく攪拌した。
つぎに(MPOj2)2M800j10 gを塩化メチ
レン50 mjに溶解した溶液を20分間かけて滴下し
たO反応液を060のまま約1時間攪拌したのち、冷却
を解いて室温にまで昇温させながら約12時間攪拌した
0見られた2相系の反応液は前記実施例1と同様にして
処理を行ない、80AIHの結晶7.5p(収率68.
1襲)をえた。
レン50 mjに溶解した溶液を20分間かけて滴下し
たO反応液を060のまま約1時間攪拌したのち、冷却
を解いて室温にまで昇温させながら約12時間攪拌した
0見られた2相系の反応液は前記実施例1と同様にして
処理を行ない、80AIHの結晶7.5p(収率68.
1襲)をえた。
実施例5
2Q%MaOH水溶液1.5kpにエチレンイ叱ン10
0mjトリエチルアミン8mlおよび塩化メチレン50
0ajを加え、0°0に冷却しながらはけしく攪拌した
。
0mjトリエチルアミン8mlおよび塩化メチレン50
0ajを加え、0°0に冷却しながらはけしく攪拌した
。
つぎに(MPOjg)2卵007100−を塩化メチレ
ン600Iajに溶解した溶液を3時間かけて滴下した
。滴下終了後、冷却を解いて*Sにまで昇温させながら
さらに約18時間攪拌した。つぎに塩化メチレン500
mjを加え、反応液を静置したのち、分離した有機層を
分取した。有機層は5%水溶液(100wJX2回)、
飽和炭酸す)9ウム水溶液(200■1×3回)および
水(200mJX3回)で洗浄したのち、無水硫酸ナト
リウム上で乾燥し、ついで濃縮した。えられた残渣は塩
化メチレン−エーテル混合溶媒から再結晶してgo、g
炉(収率72.9襲)の(資)麹をえた。
ン600Iajに溶解した溶液を3時間かけて滴下した
。滴下終了後、冷却を解いて*Sにまで昇温させながら
さらに約18時間攪拌した。つぎに塩化メチレン500
mjを加え、反応液を静置したのち、分離した有機層を
分取した。有機層は5%水溶液(100wJX2回)、
飽和炭酸す)9ウム水溶液(200■1×3回)および
水(200mJX3回)で洗浄したのち、無水硫酸ナト
リウム上で乾燥し、ついで濃縮した。えられた残渣は塩
化メチレン−エーテル混合溶媒から再結晶してgo、g
炉(収率72.9襲)の(資)麹をえた。
以上述べたように、本発明の製造法によればsobが簡
便にかつ収率よくえられることがわかる。
便にかつ収率よくえられることがわかる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 エチレンイミンと1.3,3.5.5−ペンタ八p
−1−チア−2,4t6−ドリアザー!1.5−ジホ
スホリンー1−オキシドとの反応を、 有機溶媒およびアルカリ水溶液からなる2相系中で、触
媒量の第3級アミンまたは芳香族アセンを加えて行なう
ことを特徴とする1、5゜8.5.5−ペンタアジリジ
ノ−1−チア−2,4,6−)ジアザ−6,5−ジ傘ス
傘リン−1−オキシドの−造法。 2 前記アルカリ水溶液がアルカリ金属水酸化物、アル
カリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩またはアルカ
リ土類金属水際化物の本溶液である特許請求の範囲第1
項記載の製造法0 6 前記有機溶媒が塩化メチレン、りwwホルム、11
2−ジタリルエタンもしくは1.1−ジク田ルエタンな
どの^四ゲン化炭化水素系有機溶媒、ヘキサンもしくは
ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系有機溶媒、ベンゼンも
しくはトルエンなどの芳香族炭化水素系有機溶媒または
ジエチルエーテル、テトツヒドw7テンもしくはジオキ
ナンなどのエーテル系有機溶媒である特許請求の範囲第
1項または第2項記載の製造法。 4 前記第6級アセンがトリエチルアセン、シリプ田ビ
ルア竜ン、トリブチルア考ン、エチル−シイツブ田ピル
アtン、■−メチルビ豐リジン、y・−メチルピペリジ
ンまたは冨−メチルモルホリンである特許請求の範囲第
1項、第2項または第6項記載の製造法。 5 前記芳香族アセンがピリジン、キノリン、ビーリジ
ン、ルチジンまたは4−ジメチルアセノーピリジンであ
る特許請求の範囲第1項、第2項または第6項記載の製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16959881A JPS5869895A (ja) | 1981-10-22 | 1981-10-22 | 1,3,3,5,5−ペンタアジリジノ−1−チア−2,4,6−トリアザ−3,5−ジホスホリン−1−オキシドの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16959881A JPS5869895A (ja) | 1981-10-22 | 1981-10-22 | 1,3,3,5,5−ペンタアジリジノ−1−チア−2,4,6−トリアザ−3,5−ジホスホリン−1−オキシドの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5869895A true JPS5869895A (ja) | 1983-04-26 |
Family
ID=15889453
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16959881A Pending JPS5869895A (ja) | 1981-10-22 | 1981-10-22 | 1,3,3,5,5−ペンタアジリジノ−1−チア−2,4,6−トリアザ−3,5−ジホスホリン−1−オキシドの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5869895A (ja) |
-
1981
- 1981-10-22 JP JP16959881A patent/JPS5869895A/ja active Pending
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