JPS587040B2 - センケイカソクキ - Google Patents

センケイカソクキ

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JPS587040B2
JPS587040B2 JP49127449A JP12744974A JPS587040B2 JP S587040 B2 JPS587040 B2 JP S587040B2 JP 49127449 A JP49127449 A JP 49127449A JP 12744974 A JP12744974 A JP 12744974A JP S587040 B2 JPS587040 B2 JP S587040B2
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JP
Japan
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acceleration
energy
electron
acceleration system
electrons
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JP49127449A
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コルト・パサウ
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KERUNFUORUSHUNGUSUTSUENTORUMU KAARUSURUUE GmbH
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KERUNFUORUSHUNGUSUTSUENTORUMU KAARUSURUUE GmbH
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H9/00Linear accelerators
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KHANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/08Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/06Electron sources; Electron guns
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S505/00Superconductor technology: apparatus, material, process
    • Y10S505/825Apparatus per se, device per se, or process of making or operating same
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明はエネルギーの一定性と指向係数の高い高エネ
ルギー電子ビーム発生用の線形加速器を対象とする。
電子顕微鏡その他に対して電子を高いエネルギーに加速
する加速器が要求されている。
高い加速電圧(750keV乃至1.5MeV)の発生
に静電起電機を使用する加速器は公知である(例えばI
EEE Transactions on Nucle
ar Science,Vol NS−14.No.3
June 1969のG.Reinholdの論文)
然しこの装置はIMeV以上のエネルギーに対しては極
めて大型となりその製作費は著しく高価であり、しかも
加速電圧の上昇と共に急激に増大する。
高周波線形加速器を電圧源として使用することも既に提
案されている(D.Klemaの論文、ANL7225
Proceedings of the Amu A
nl Workshop on high Volta
ge Electron Microscopysアル
ゴンヌ研究所、June 13〜July 15.19
66年)。
この線形加速器では適当な形の空胴共振器を使用して高
周波電場を作り電波が予め定められた軸に沿って特定の
位相速度で伝搬しこの軸の方向に電場を持つようになっ
ている。
この電場は一つの複雑な電場分布のフーリエ成分とする
ことができる。
電子は静電電子源から特定の時刻に電場内に打ちこまれ
、常にその走行方向の電場内に置かれて加速される。
然し静電電子源の場合パルス流とするため電子源とそれ
に続く加速系の間にチョツパーを置かなければならない
から、電子源の輝度(電子放出率)を充分大きくするこ
とができないという欠点がある。
この発明の目的は、エネルギーの一定性と指向係数が充
分高いパルス電子ビームを発生することができる10M
eVまでの電子加速器を得ることにある。
この目的はこの発明によれば、パルス電子ビーム源とし
て高周波冷陰極放出電子源を使用し、この電子源に続く
前置加速系は電子源の動作周波数よりも低い動作周波数
を持ち、その長さと加速電場の大きさは前段加速系の出
口までの加速中位相空間において電子の分布が180°
の整数倍だけ回転するように選ばれ、この前置加速系に
続く主加速系の長さと加速電場の大きさは主加速系に打
ちこまれたときエネルギー偏差を示す電子がこのエネル
ギー偏差に対応して最小エネルギー電子に比較して低い
加速を受けるように選ばれていることによって達成され
る。
この発明の有利な実施例においては、電子流パルスの重
心が前置加速系の加速波の極大点に対して零と異る位相
で前置加速系に打ちこまれることによって前置加速系内
での電子分布の位相の回転が起る。
この発明の考えを更に押し進めた実施例においては電子
流パルスの重心が主加速系の加速波の極大点に相対的に
零位相で主加速系に打ちこみ可能であり、また主加速系
内で電子がこの位相を保持するように配慮されている。
この発明の実施に当って高周波冷陰極放出電子源の動作
周波数は24GH2に選ばれるのに対して、前置および
主加速系の動作周波数は3GH2に選ばれる。
この発明による線形加速器は注入電力を低下させ、また
電場の安定度を高めるため高周波冷陰極放出電子源と前
置および主加速系の内壁を超伝導材料で作るかまたは超
伝導材料層で被覆することができる。
この発明による加速器の特に有利な点は、高周波冷陰極
放出電子源の使用により指向係数が高められることであ
る。
電子源を加速系に合わせて選びまた加速系の配置を適当
に選定することにより、電子ビームのエネルギーの一様
性を高めそのエネルギー分布を狭くすることができる。
これにより高周波加速器を電圧源として使用するときの
欠点が除去される。
この発明による線形加速器は小型であり製作費および保
管費の点で有利である。
この加速器は通常の研究室に設置することができる。
更にパルス電子ビームは色収差と球面収差が例えは高周
波レンズの使用により補正可能であり、また電子顕微鏡
の動作エネルギーを5から10MeVの範囲に拡げるこ
とができるため電子光学的の利用に好都合である。
次に図面に示した実施例についてこの発明を更に詳細に
説明する。
第1図は加速系の構成を概念的に示すもので、高周波冷
陰極放出電子源1、前置加速系2および主加速系3が特
定の軸(これを2軸とする)に沿って前後に配置されて
いる。
これらの部分は総て図に示されていない排気系を持つ。
この排気系は外部から冷却することができる。
電子源1の構造の一例を後で第3図について詳細に説明
する。
高周波電子源1の動作周波数は例えば24GH2に選ば
れる。
電子源の出口4から出る電子の位相一エネルギー関数は
電子源1と前置加速系2の間にパルス6として概念的に
示されている。
この関係は更に第2a図について説明する。
電子源1から余り離れていない位置に直径1mm程度の
入口を持つ前置加速系2が設けられている。
前置加速系2と主加速系3は進行波駆動としても、また
は共振器として動作させてもよい。
図には進行波動作のものが示されている。
部品1乃至3の総ての示性数を高めるためその内壁また
は全体を超伝導材料で作ることができる。
前置加速系2は約120cmの長さを持ち電子を1mに
つき最高3MeVまで加速することができる。
前置加速系と主加速系の動作周波数は3GH2とする。
前置および主加速系の直径は約20(mである。
主加速系3の長さは約60cmであり、その加速能力は
1mあたり約3MeVとなる。
電子源1は例えば超伝導性の高周波冷陰極放出源であり
パルス状の電子ビームを作る。
この電子ビームは図に示されていない電子顕微鏡の電子
ビームとして使用することができる。
電子ビーム6中の電子は電子源の高周波電流(周波数f
q)に対する位相φに関係して6%までのエネルギー偏
差ΔEFを持つ。
電子のエネルギーEと位相φとの関係を第2a図に示す
図には電子の分布密度も縦線濃度によって表わされてい
る。
パルス6は位相巾2φQに対応する40°の巾を持つ。
この位相巾2φQを圧縮するためには電子源1に続く前
記加速系2と主加速系3を電子源1の周波数(24GH
2)よりも低い周波数(3GH2)で動作される。
これにより位相空間においての電子の非調和振動が減小
する。
この非調和振動は次に述べる経過に対して障害となるも
のである。
前置加速系の長さと加速電場の大きさは位相空間での電
子の分布6が加速中に180°の整数倍だけ回転するよ
うに選ばれる。
これはパルス6の分布の重心が加速波の極大点に対し零
と異る位相で打ちこまれることによって実現される。
これに対する前提条件は位相空間においての運動が調和
振動であることである。
これにより第1図において前置加速系2と主加速系3の
間に7として示されているようなEに対する位相φの分
布が得られる。
この分布は第26図により詳細に示されている。
第26図には分布の回転方向が矢印で示されている。
パルス7の位相分布は第2a図の位相巾2φQより小さ
い位相巾φ■を持つ、このパルス中の電子の分布はここ
でも縦線の濃度で示され、極大点Bで電子分布密度が著
しく大きい。
上記のような位相空間で180°の整数倍の回転を達成
するには次の二つの条件が満たされなければならない。
条件1: ここでΩは位相振動周波数である。
総ての条件はΩがΩ。
・zoを定数としてΩ一Ω。z6/zで表わされるとし
て与えられている。
これから次の条件が導かれる。
条件3: ここでF−F(z)は前置加速系内の電場の強さ、ψS
一ψS(Z)は分布7の重心と前置加速系内の高周波と
の間の位相、zは第1図の主軸方向の座標である。
更にnは奇数、p=p(z)は電子の運動量である。
条件1ではΩのz=z1(前置加速系の入口5の位置)
から2(前置加速系の出口18の位置)までの積分がπ
の整数倍に比例しなければならない。
条件2によれば拡弧内の微分式が前置加速系2の入口と
出口において等しくならなければならない。
主加速系3はパルス7(これは第1図に前置加速系2と
主加速系3の間に概念的に示されている)の重心が主加
速系3内の加速波の極大点に対して零位相で主加速系に
注入され、加速中この位相を保持するように設計されて
いる。
更に主加速系3の長さは主加速系の入口19においてエ
ネルギー偏差を持つ電子が最低エネルギーの電子に比較
して正確にこの偏差に相当するだけ低い加速を受けるよ
うに選定されている。
従って電子は主加速系の終端(出口)20においてその
位相φに関係なく総て等しいエネルギーを持つ。
この情況は第2C図に示されている。
パルス中の電子のエネルギーEの分布は電子源1を出る
際の電子のエネルギー分布だけによって与えられる。
エネルギー平均巾CΔEFはほぼ半分に縮められている
主加速系の入口においてのパルス7のエネルギー分布が
重ねて画かれているが矢印は分布が圧縮される方向を示
している。
主加速系3においてこの分布圧縮が行われるための条件
を条件4として次に挙げる。
条件4: ここでEMは主加速系で獲得したエネルギー、EQは電
子源1で得たエネルギー、fQ 1の動作周波数、fBは前置加速系と主加速系動作周波
数、a3の前加速係数である。
次の条件5は不可欠のものではないが前置加速系の入口
と出口でこの条件が満たされていると電場の偏差との関
係を最小とするのに有利である。
条件5: 上記の条件の総てが正確に満たされているとエネルギー
が10MeVまで高められ、エネルギー一定性と指向係
数が極めて高い電子ビームが得られる。
第3図に第1図の装置に使用することができる簡単な構
造の高周波冷陰極放出電子源を示す。
これは互に結合された部分9と10から成り、内部に共
振空胴として作用する室11を持つ。
この室11は超伝導材料の層で被覆されると有利である
エネルギーは導管12を通して供給される。
部分10の凸出した底面13の中央にさしこまれた棒1
4の上面に冷陰極15が設けられている。
陰極15は狭い間隔で絞り16と向い合っている。
導管12を通して導入されたエネルギーは空胴11内に
周波数24GH2の定常波を作る。
電圧極大点は冷陰極15の尖端と空胴の上壁1Tの中間
にある。
定常波の電場によって陰極15から電子が引き出され絞
り16を通ってパルス6として外に出る。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の実施例の構成を示す概念図、第2a
図と第2b図と第2c図は三つの加速段階においてのパ
ルス中の電子のエネルギー分布、第3図は冷陰極放出電
子源の一例の断面図であって、1は冷陰極放出電子源、
2は前置加速系、3は主加速系である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 パルス電子ビーム源としての高周波冷陰極放出電子
    源が使用され、それに続いて設けられた前置加速系の動
    作周波数は電子源の動作周波数より低く、その長さと加
    速電場の大きさは前置加速系の出口までの加速中位相空
    間において電子分布が180°の整数倍だけ回転するよ
    うに選ばれ、前置加速系に続いて主加速系が設けられ、
    その長さと加速電場の大きさは主加速系の入口において
    エネルギー偏差を持つ電子がこの偏差に対応するだけ最
    小エネルギーの電子に比較して低い加速を受けるように
    選ばれていることを特徴とするエネルギーの一定性と指
    向係数の高い高エネルギー電子ビーム発生用の線形加速
    器。
JP49127449A 1973-11-03 1974-11-05 センケイカソクキ Expired JPS587040B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2355102A DE2355102C3 (de) 1973-11-03 1973-11-03 Beschleunigungssystem

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5074099A JPS5074099A (ja) 1975-06-18
JPS587040B2 true JPS587040B2 (ja) 1983-02-08

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ID=5897192

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP49127449A Expired JPS587040B2 (ja) 1973-11-03 1974-11-05 センケイカソクキ

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US (1) US3952255A (ja)
JP (1) JPS587040B2 (ja)
DE (1) DE2355102C3 (ja)
FR (1) FR2250255B1 (ja)
GB (1) GB1485273A (ja)
NL (1) NL158685B (ja)

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Also Published As

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DE2355102B2 (de) 1979-08-02
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