JPS5871706A - 半導体規準電圧回路 - Google Patents

半導体規準電圧回路

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JPS5871706A
JPS5871706A JP57174112A JP17411282A JPS5871706A JP S5871706 A JPS5871706 A JP S5871706A JP 57174112 A JP57174112 A JP 57174112A JP 17411282 A JP17411282 A JP 17411282A JP S5871706 A JPS5871706 A JP S5871706A
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JP
Japan
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differential amplifier
voltage
circuit
terminal
semiconductor
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JP57174112A
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English (en)
Inventor
ハリ−・ジヨセフ・ボ−ル
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AT&T Corp
Original Assignee
Western Electric Co Inc
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05FSYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F3/00Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
    • G05F3/02Regulating voltage or current
    • G05F3/08Regulating voltage or current wherein the variable is DC
    • G05F3/10Regulating voltage or current wherein the variable is DC using uncontrolled devices with non-linear characteristics
    • G05F3/16Regulating voltage or current wherein the variable is DC using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
    • G05F3/20Regulating voltage or current wherein the variable is DC using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
    • G05F3/30Regulators using the difference between the base-emitter voltages of two bipolar transistors operating at different current densities

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  • Nonlinear Science (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Amplifiers (AREA)
  • Control Of Electrical Variables (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は第1の差動増幅器と、第1の差動増幅器の入力
端子を発生するための第1お上び第2の回路網とを含む
半導体規準電圧回路に関する。
半導体集積回路では所定の電圧レベルを与えるために電
源あるいは規準電圧回路が必要となることが多い。しか
し実際の電圧レベルが、これら規準回路によって与えら
れるときには、その回路が集積化されている半導体の本
体の温度変動や回路の電源の電圧変動によって、変動す
る傾向がある。一方アナログ・ディジタル変換器やディ
ジタル・アナログ変換器の半導体技術においては、例え
ば、0、005ボルト以下にしか変動しない規準電圧を
持つことが望まれる。従って、温度および電源の変動に
対して規準回路を安定化する手段を構しなければならな
い。
バイポーラもしくは相補MOS (C−MOS )技術
で安定な規準を得るためには、一般にツェナーダイオー
ドの逆ブレーク′ダウン現象に関連した電圧かバンドギ
ャップ規準回路によって与えられる電圧のいずれかを使
用する。
このようなバンドギャップ規準回路については、ポール
R、グレイおよびロバートG、メイヤのアナログ集積回
路の解析と設計の頁249−261[記述サレテいル。
N−MOS (fなわちN−チャネル)技術では(これ
はP−型の半導体基板を用いる)上述した電圧規準はい
ずれも実現できない。これについては1978年1月1
0日のトベイの米国特許4、068.134 ’に参照
されたい。詳しく述べれば、N−MOSではすべてのP
N接合は回路が集積化された半導体チップで利用できる
最も高い逆電圧に耐えるように設計され、従って、これ
らの接合を逆ブレークダウンに駆動することは容易では
ない。
N−MOSではP型の基板はシステムの最も負の電圧に
接続され、常に順バイアスされた接合を持つという要求
は容易には実現できないから、周知のバンドギャップ規
準回路はこのようなN−MO8回路では必要となる常に
順バイアスされた接合は容易には得られないことになる
。従って、N−MO8技術で逆ブレークダウンのツェナ
ーあるいはバンドギャップ規準回路を実現するには追加
の金がかかる組立工程を必要とし、これによってN−M
O3技術の経済的利点が失なわれることになる。
本発明が目的とするところは、従って、温度変化に対し
て比較的安定しており、N−MO8集積回路を含む集積
回路の組立ておよび動作上の要求と整合した方法で、組
立て動作できる規準電圧を提供することにある。
本発明に従えば、この問題は第1の差動増幅器に対する
入力を発生するための第1および第2の回路網を含む半
導体規準電圧回路において、第1および第2の回路網の
各々は・第1および第2の出力端子を有するトランジス
タを含み、第1の出力端子は第1のクロック付きの電圧
源に接続されておシ、第2の出力端子は第2のクロック
付きの電圧源と第2の差動増幅器の第1の端子の両方に
接続されており、規準電圧源は第2の差動増幅器の第2
の端子に接続されており、第2の差動増幅器の出力は第
1の差動増幅器の入力に結合されたことを特徴とする半
導体規準電圧回路にキ゛って解決される。
本発明に従えば、規準電圧(V   )はIEF 対の別々の回路網(第1図の10.10’。
第4図のI Go、100’ )の差動増幅器の出力端
子(11,11’ )で発生された電圧(”1 + v
l  )の重み付き差動増幅(第3図の30)として与
えられる。この回路網(例えば、10あるいは100)
の各々はそのエミッタが第1のクロック付き電圧源(C
1゜C2,M、、M2.M、)に接続され、そのコレク
タが第2のクロック付き電圧源(C3゜C41Ms 、
 M4 )に接続され、差動増幅器(A、)の第1の入
力端子(+)に対して出力を与える半導体トランジスタ
装置(T1 )のベース・エミッタ間接合を含んでいる
。差動増幅器(A、)の出力端子(12)は、該差動増
幅器(A、)によって該第1のクロック源に対して電圧
が供給されるように第1のクロック付き電圧源の入力端
子に接続されている。電源vDD  からvREFを分
離した有利な実施例(100)においては、その第1の
入力端子(+)、から逆極性にある該差動増幅器(AI
 )の第2の入力端子(−)は、また該差動増幅器(A
、)の電源電圧であるところの第3の電圧源(C,、C
,、M6.M7゜MS 、 MQ )の出力を受信する
ように接続されている。重み付き増幅(30)の重み係
数を適切に選択することによって、結果として得られる
規準電圧(vREF)は温度変動に対して比較的安定で
あるようにすることができる。
第1図は第1のノード11に第1の電圧v1を生ずる第
1の回路網10を示しているO第2の回路網10′は、
以下に詳述するように種々の素子の一部あるいはすべて
に異るパラメータを選択する以外第1の回路網10と同
等なものであるが、第2のノード11′ (第3図)に
第2の電圧v、′を発生する。これらの第1および第2
のノード11および11′は本発明に従って、所望の電
圧規準vREFを発生する電圧規準回路40の重み付き
差動増幅器30(第3図)の人力ノードとなる。
この重み付き差動増幅器30は典型的には差動増幅器A
Ft−重み付はコンデンサc、 l C8+C,、C,
。と組合せることによって典型的に形成される。これら
のすべてのコンデンサはMOSコンデンサとするのが有
利である。
第1図にさらに示すように、MOSスイッチ素子M+ 
、M3およびM、は、N−MQ8の技術で通常使用され
るように、くシかえされる正の電圧パルスの間にこれら
の素子を周期的にオンとする第1のクロックパルスφ。
(第2図)によって制御される。MO8FETスイッチ
素子M2およびM4は第2のクロックパルス系列φ2に
よって制御されるが、これは後者のスイッチ素子を周期
的にオンとし、その位相の間第1の系列φ1は素子M、
、M。
およびM、をオフとするようになっている。
そのベースが接地されている(零の基板バイアス電圧レ
ベルになっている)バイポーラトランジスタT、め高電
流のコレクタ・エミツタ路はノード15.14間に接続
されている。
ノード15はC,、C2,M、、M2によって形成され
る第1のクロック付き電圧源の出力端子であり、一方ノ
ード14はC3+ C4+M3.M、によって形成され
る第2のクロック付きパルス源の出力端子である。この
トランジスタT、はベース・エミッタ電圧vBE’がス
レショルドvBE、th  を越えたとき、例えばシリ
コン半導体の通常の場合にはエミッタが一〇、6ボルト
以上負のときに、オンとなって、エミッターコレクタ間
の電流を生ずる。差動増幅器A、の正の極性の入力端子
(+)はノード14に接続されており、一方この増幅器
A、の出力端子はノード11に接続されている。
増幅器A、は演算増幅器の型、すなわち非常に高い入力
インピーダンスと高利得を持つようにしておくのが有利
で、これは典型的には5から20あるいはそれ以上の増
幅率を持っている。電圧分割器抵抗Rの出力端子13゜
は差動増幅器A1の負の極性の入力端子(−)に対する
入力として電源vDDに所定の係数を乗じたものである
入力端子vRを与える。
典型的には増幅器A、はMOSFETのソースフォロワ
増幅器であり、この増幅器のMO8FET素子は、MO
3FETO3FET素子間6、バイポーラトランジスタ
T1およびMOSコンデンサC7・・・C8と共に集積
回路技術では周知の方法に従って単一の半導体結晶中に
集積化するのが有利である。正しい動作のためには、C
4はC3よりはるかに大きく、例えば100倍あるいは
それ以上にしておくのが有利である。
トランジスタ素子M、、M3およびM5が第1のクロッ
ク系列φ1によってオンとなり素子M2およびM4が第
2のクロック系列φ2によってオフとなった動作位相の
間では、コンデンサCIの上面の電極(Ml とM2の
間のノード17に接続されている。)は電圧■1にあり
、その下面の電極は接地されている。
このときC8の上面と下面の電極はそれぞれ±C,V、
に等しい電荷を担い、一方コンデンサC2についてはそ
の両方の電極が接地されているから、これらの電極は完
全に放電されている。従ってコンデンサC3の上面の電
極は電位vDDにあり、一方C4の上面の電極(ノード
14に接続されている)はバイポーラトランジスタT1
のベース・エミッタ間の電圧がOで、トランジスタT、
はオフになっているから、電気的に浮いた状態になる。
従ってC3の上面の電極はC3””C3V[)l)  
に充電されることになる。この位相の間では、差動増幅
器A、の高利得βのためにV14がVRと大幅に異るこ
とはできないから、ノード14の電圧v、4とノード1
3の電圧vRはほとんどちがわないことになる。
次に続く位相では第1のクロックφ、は素子M、、M3
およびMskオフとし、一方第2のクロックφ2は素子
M3およびM、をオンとする。従って、M2とMlの間
のノード17は接地され、一方C2の上面の電極(ノー
ド15および16に接続されている。)は接地からM、
によって切断される。従って、はじめにC1上にあった
電荷C,V1はC2の上面の電極の電荷がq2に等しい
ように分配される。ここで Q 2  =−VICI C2/ (C1+C2)  
  (1)である。従って、ノード16 (C,とC2
の間)の電圧v16ば ■、6=q2/C2すなわち V +a=  V+ CI / (CI ”C2)  
   (2)に等しくなる。
従って、もしvX6がT、のベース・エミッタスレショ
ルドであるvBF、、thl  より負であれば、トラ
ンジスタT、を通して正の電荷q。
が流れる。この電荷q、はT1のエミッタからノード1
6に流れ、従って電荷αq、はノード14の04の上の
電極からT、のコレクタに転送される。ここでαはT、
の収集効率であり、通常は1に近い。従って(φ2のオ
ンの位相の関にはノード16から接地を見て、コンデン
サC2と02は並列になっている力)ら)v16がvB
E−thより負であれば、この電荷αq、は αq+ = (VBE、B、 VI6)(Q +C2)
   (3)となる。一方他の電荷q4はM4を通して
C3からC4に転送され、この電荷はC3はC2よりは
るかに小さいから、大きさ q4 = Cs (VDD   VI4 )で近似する
ことができる。ノード14における電圧は増幅器A1の
高利得およびC1とT1を通してA1に戻る全体として
の負帰還のためにノード14の電圧は本質的にvRに等
しくなる。従ってこの電荷q3は本質的に q 4 = C3(VDD  VR)        
(4)に等しい。平衡状態では、ノード14における電
圧は電荷αq1とq4の転送には影響されない。従って
αQ+=α4、すなわち平衡状態では α(VBE、B、 ”+6)(CI”C2)=C3(V
DD VR)  (5)となる。V +a k式(2)
で与えられるその値で置・換して、平衡状態では avIC++avBE−th(c、+c2)=C3(V
DD−vR)(6)となる。■、につぃて解けば、平衡
状態では” =”B E−t h (C’+ ”C2)
/C+ + (VDD VR) C3/a CI  (
7)となる。従って第1・の回路網1oで発生される第
1の電圧v1は式(7)で与えられる平衡状態の値に漸
近する。これに対して、第2の回路網10′ (それぞ
れのパラメータの値の一部あるいは全部が異る以外は第
1の回路網10と類似している)によって発生される第
2の電圧v1′ (第3図)は V+ ’ =VBg 、 th(c、’+c : )/
Cj +(VDD−v/R) C: /a’C; (8
)に漸近する。ここで第2の回路網10′でダッシュを
付けた素子は、第1の回路網1oの中の対応するダッシ
ュを付けない素子と同様の位置にあって接続されている
素子についての値を示している。両方の回路網10.1
0’で平衡状態が実現した後では、重み付き差動増幅器
30には式(7)で与えられるV、の入力がノード11
に、式(8)で与えられるV(の入力がノード11′に
与えられることになる。
クロック付きトランジスタM1oおよびMllは増幅器
AFを周期的にリセットするためにC8とC9を周期的
にリセットする。所望の規準V  、は次の関係に従っ
て増幅器AFEF の出力端子に与えられる。
VREF’= aV、−bV1′−V。、(9)ここで
V は増幅器AFのオフセット電圧で S あり、 a”” C? (co +CIO)/CI。(C?”(
4)    ’ (LO)b ” Co / Cto 
・(11)である。
もし必要であるなら、トランジスタMloとMl、のオ
ンの位相の間に補助コンデンサをvosまで充電し、次
にこのコンデンサをノード22(C7とC8の間)と増
幅器AFの正の入力端子の間に接続するような周知のオ
フセット相殺手法によって、オフセットV をS 除くことができる。
第1の回路網10(第1図)の種々の要、氷のパラメー
タの値は、一般に回路網10’の対応する要素の値と異
っている。特に、第2の回路網10′のバイポーラトラ
ンジスタT(のベース・エミッタ電圧は、以下に詳しく
述べるように第1の回路網1oの対応するバイポーラト
ランジスタT、のそれに比べて、少なくともわずかに異
っている。もちろん種々のスイッチングトランジスタ素
子M1・・・M、とMI′・・・M、′は同一のパラメ
ータのもので良い。またVREFの所望の値はトランジ
スタM、oおよびMllがオフのときだけ増幅器AF 
の出力端子に現われ、これらのトランジスタがオンであ
るときにはAFの出方は0に等しいから、VRオを定常
的に(直流として)出力するには、周知のサンプル・ホ
ールド手法を使用すべきであることも理解されるであろ
う。
・第4図は第3図の回路の中の回路網10あるいは10
′ (あるいは両方共とすることが望ましい。)の代替
として使用できる回路網100を示している。この回路
網100は差動増幅器A、の負の入力端子(−)に対し
てvRヲ供給するために素子C・5 、 C6,C8M
M6.M7.M、およびM、それに抵抗43を追加した
ーすべて回路網10における電圧分割器Rの代り、−回
路網10と類似している。従づて有理な実施例において
は、回路網100は回路30の回路網10に代り、一方
パラメータの値を除いて回路網100と同様に構成され
ている回路網100′が回路網10′に置換される。追
加した素子C5+C,、C8M、 M6. M7. M
8およびM、はvDo  の値とは独立に増幅器A1の
負の入力端子に対して電圧VRを与えるための第3の電
圧源手段を回路網100中で形成し、従って窮極的な出
力V  (第3図)がvDD  のEF その時の値に依存するようになることを防止する。追加
された抵抗素子43は典型的にはマイクロアンペアの1
/1o  程度の初期(始動)電圧を与え、■、の値と
回路のパラメータ、たよって決まる1ポルトあるいはそ
れ以上の初期電圧をノード14に与えるためにvDDの
電源からノード14への便利な電流を与える。
いずれにせよ、素子43の抵抗値はトランジスタT、の
動作時のコレクタ電流の数チの電流を与えるように選択
されている。
コンク963M1lS1.第3の電圧手段”5tC6、
Me 、M? 、MeおよびMoの出力端子42で生じ
た人力電圧を平滑化するために回路網100に入れられ
ている。この電圧VRはコンデンサC6およびC6によ
る電荷分割による(Vtの)電圧分割によって供給され
る。もつと詳しく述べれば、φ2がトランジスタM6を
オンとしたとき、コンデンサC3はVlに充電され、一
方コンデンサc6はトランジスタMo全通して接地に対
して放電される0次にφ1がトランジスタM7およびM
8をオンとしたときに、コンデンサC5とC6は接地と
差動増幅器A、の負の入力端子の間に並列に接続される
。従って、このA1の負の入力端子に供給される電圧V
RはvR”” Vt −Cs / (C5”C6)  
     (12)に等しい。
vRを発生する方法を除けば、あらゆる点で、回路網1
00は回路網10について先に説明したのと同様に動作
する。しかし、回路網100においては、電圧V、は次
のような式(7)の変形によって与えられる。
+    BE、1B、(C++C2)/Ct+(Vt
”R)Cs/αct   (13)ここで式(12)の
vRの値を使う。
”+ =”B E 、(h(CI +C2)/CI +
VI CaCs/cl C1(C5+ C6)あるいは vl:mvBE−th(14) また あるいは 同様に回路網10′では ■1′=m′v′BE、th(16) また これに対して、(回路網100および 100′のトランジスタT、および’r、’ )の対応
するベース・エミッタスレショルド電圧vBF、、th
とV/  、  はそれ自身で温度に依E  th 存するから、■、とV 、 /  は温一度の関数であ
る。ベース・エミッタ電圧はそれぞれのベース・エミッ
タ接合の順方向ダイオード電圧降下に等しく、バイポー
ラトランジスタT1およびT、/のそれぞれの電流密度
JおよびJ′と同一である。従って、次式を示すことが
できる。
V   aVl bV1’=amVBE、 thbm’
V’ BE 、thEF− ここでaとbは式(10)と(11)によって与えられ
る重み係数であり、vosは無視しているOさて、ベー
ス・エミッタスレショルド vBE、thと”’BE、th  は温度の関数であり
、式(18)では室温(動作温度)におけるその値を使
用すべきである。従ってamとbm’の条件は次のよう
になる ここで v、、、 = hvxo(21) であり、■ 、 の室温から絶対零度に線形E  th 外挿した値であシ、これはまたvBE−thと同一の外
挿値を持つ”BE−thO値でもある。シリコンの場合
にはvxoは約1.2ボ、ルトに等しい。適切な整合と
半導体の面積の節約のために、aとbの値は共に約10
0以下である。
vBE−thとv/  、  は温度の関数E  th vBE−th(τ)’  ”’BE、th(τ)  で
ある。T=Tx(例えばTx=室温)からT=O°kに
向けてVBE、jh(r)とv’BE 、t h(τ)
  を線形に外挿スレハ、これらの線形に外挿した値は
V で表わしたO のと同一の値になることがわかる。電流密度が高いほど
次の関係 vBa−th−v′Bg−th=(kT/q)In(J
/、r’)   (22)に従ってベース・エミッタ電
圧は高くなるから、トランジスタT1とT、/で異る電
流密度を用いることによって、回路網100および10
0′のトランジスタT1およびT、/の室温におけるベ
ース・エミッタ電圧の差 (V    −v’ BE−th   BE、th )が得られる。これらの
電流密度JおよびJ′は回路網10について上述しだ式
(4)によって与えられるコレクタ・ベース電荷転送q
4に比例する。回路網100については、このコレクタ
・ベース電荷q4は次式で与えられる。
q< =C3(V+ −V )=C3V1 /(1+C
,/Ca )     (23)トランジスタT1の電
流密度Jはq4に比例シ、トランジスタT、のベース・
エミッタ接合面積Aに比例するから、式(22)に従っ
て、ベース・エミッタスレショルドVBE、thと”B
E、thは1ボルトの1/10  程度具るようにする
ことができ、さらにCI ” CI’ +C4=”4’
 + c、 ”C5’ r c6==(6’に保ちなが
ら、T1とT1/のベース・エミッタ接合領域の比(A
’/A)を1とは大幅に変える(しかし適切な設計では
100を越えないように)することができる。逆に、こ
のA/A’の比を1に保ち、コンデンサの容量の比を適
切に選択したシ、あるいは接合面積の比と容量の比を同
時に適切な値に選択し、全体のデバイスの面積を最小に
するようにしてもよい。
これに対して、vlは本質的にvDDより小であるから
(第1図、間接的には第4図)、式(14)からmの値
はV  /v  、   より小さDBEth く選択するべきである。さらにvDDは通常は約5ボル
トでありV 、 は約0.6ボルトE  th (適切な電流密度は、室温ではこれから0.、fボルト
以内しか変動しない。)であるから、mの値は約5 /
 0.6 = 8以下に選択するべきである。同様にm
′も約0.8より小さい値に選択するべきである。mと
m′の値をある便利な値(8以下)に等しいように設定
すると、コンデンサC1,C2,C3,C6,C6の間
に条件(式15)が決められ、コンデンサC1′、C2
′、C3′、C6′、C6′の間に条件(式17)が決
められる。これらの条件は共にコンデンサをC,=C2
=C3=C6=C6、CI′=C2′=C8′=C6′
=C6′に選択することによって容易に満足され、この
場合には式(15)および(17)からm = 4α/
(2α−1)9m′=4α//(2α′−1)となり、
ここで(トランジスタT1およびT□′の)αおよびα
′はほぼ1に等しく、このときにはmおよびm′は共に
4に等しい。
一例として、約1.2ボルト(もしオフセットが存在す
るとするとその値V よシ小さい)S の規準電圧V  を得るためには、式(21)に従って
、vxoはシリコン技術では約1.2ボルトであるから
、h=1となる。vBE、thとV/  、  は共に
約0.6ボルト(シリコンで適E  th 切なベース・エミッタ接合面積ではこれから0.1ボル
ト以内)であるから、aは約100以下で、mはほぼ4
に等しいという条件から、式(19)および(20)に
従ッテ、vBF、、th−”BE、thは約0.6/4
X100すなわち0、0015ボルトよシ大きくするべ
きである。
従って式(22)から1n(J/J’)は室温(約30
0°k)で0.001510.026 =0.06より
大きくするべきであシ、従ってベース・エミッタ電流密
度比そのもの(J / J’)は室温で約exp (0
,06)すなわち約1.06より犬とするべきである。
amとb m /の所要の値は、このとき式ケ9)およ
び(20)から計算することができ、最終的にaとbは
m=m’=4という選択から計算することができる。
同様に約6ボルトの規準値、すなわち h=5の場合には、vBE、th    BE−th 
 は+ yl 5X0.6/4X100=0.0075より犬とすべき
であり、室温でAn (J / J’)  は約0.0
07510.026=O129より犬とすべきであり、
従って室温で(J/J’)は約eO,29すなわち約1
.33より犬とするべきである。
回路網10あるいは100のMOSFETのすべてはN
チャネルのトランジスタ素子でも良く、あるいはPチャ
ネルの素子でもよい。
通常の半導体集積回路技術に従って、全体の規準電圧回
路4叶を単一のシリコン基板上に集積化することができ
る。
以上本発明について特定の実施例について詳細に述べて
来だが、本発明の範囲を逸脱することなく種々の変型を
行なうことができる。
例えば、M3とM4を制御するφ1とφ2(第1図ある
いは第4図)は入替えることができ、同様にM7とMa
(第4図)をφ2によって制御し、MaとM、をφ、に
°よって制御してもよい。またMloとM、1はφ1の
代シにφ2 (あるいは他の適切な周期的クロック)に
よって制御するようにしても良い。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の特定の実施例に有用な第1の電圧(v
l )を発生するだめの電気回路網の説明的回路図; 第2図は第1の回路網の動作に有用なりロック電圧の位
相の系列を示す図; 第3図は本発明に従って規準電圧を発生するだめの回路
図; 第4図は本発明の特定の有利な実施例に有用な第1の電
圧(V、)を発生するための電気回路の説明的回路図で
ある。 〔主要部分の符号の説明〕 第1の差動増幅器・・・・・AF 第1の回路網 ・・・・・・・・・10第2の回路網 
・・・・・・・・・・・・・・・・10′入カ電圧 ・
・・・・・・・・・・・・・・・川・・・V 1. V
 1’トランジスタ・・・・川・・・・・・・・・・・
T1第1のクロック付き手段の入力 ・・・・・18第
1のクロック付き電圧源 ・・・・・・・・C,、C2
M、  、  M2 第2のクロック付き電圧源 ・・・・・・・・C3、C
4M3 、M。 第2の差動増幅器 ・・・・・・・・・・・A。 規準電圧源 ・・・・・・・山・・・・・自・・・vR
第3の電圧源手段 ・甲・川・・・C,、C6M6 、
 M7. M8. M。 第2の差動増幅器の出力端子 ・・・・・・・12第3
の電圧源手段の入力端子 ・・・・・・・41第3の電
圧源手段の出力端子 ・・・・・・・ 42F/G、2

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、第1の差動増幅器、及び該第1の差動増幅器に対す
    る入力電圧を発生するだめの第1および第2の回路網を
    含む半導体規準電圧回路において、 第1および第26の回路網の各々は第1および第2の出
    力端子を有するトランジスタを含み、第1の出力端子は
    第1のクロック付き電圧源に接続され、第2の出力端子
    は第2のクロック付き電圧源と第2の差動増幅器の第1
    の端子(+)に、接続され、第2の差動増幅器の第2の
    端子(−)に接続された規準電圧源を含み、第2の差動
    増幅器の出力は第1の差動増幅器の入力に接続されたこ
    とを特徴とする半導体規準電圧回路。 2、特許請求の範囲第1項に記載の回路において、 トランジスタはバイポーラトランジスタであり、第1の
    出力端子はエミッタ端子であり、第2の出力端子はコレ
    クタ端子であることを特徴とする半導体規準電圧回路。 3、特許請求の範囲第2項に記載の回路において、 第2の差動増幅器の出力は第1のクロック付き手段の入
    力に結合されていることを特徴とする半導体規準電圧回
    路。 4、特許請求の範囲第3項に記載の回路において、 M3の電圧源手段の入力端子は第2の差動増幅器の出力
    に接続され、その出力端子は該差動増幅器のM2の入力
    端子(−)に接続されていることを特徴とする半導体規
    準電圧回路。 5、特許請求の範囲第3項に記載の回路において、 vBF、、thとV’  、  とe[1および第E 
     th 2の回路のバイポーラトランジスタの室温におけるベー
    ス−エミッタ接合スレショルド電圧とし、vxoを室温
    から絶対0度への第1のトランジスタのベース−エミッ
    タスレショルド電圧の線形外挿値、hを vREF/v   の比%mをV、/V  、  ノ比
    。 xo         BE th 1′をvl′/VBE′・thノ比、v+’トv1′t
    !:を第1の差動増幅器の入力端子として、第1の差動
    増幅器は を近似的に満足する重み付は係数a及びbによって重み
    付けられていることを特徴、とする半導体規準電圧回路
JP57174112A 1981-10-05 1982-10-05 半導体規準電圧回路 Pending JPS5871706A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US308657 1981-10-05
US06/308,657 US4408130A (en) 1981-10-05 1981-10-05 Temperature stabilized voltage reference

Publications (1)

Publication Number Publication Date
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ID=23194859

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JP57174112A Pending JPS5871706A (ja) 1981-10-05 1982-10-05 半導体規準電圧回路

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US (1) US4408130A (ja)
EP (1) EP0076623A3 (ja)
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Also Published As

Publication number Publication date
EP0076623A2 (en) 1983-04-13
US4408130A (en) 1983-10-04
EP0076623A3 (en) 1984-06-27

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