JPS5873180A - 半導体発光装置 - Google Patents
半導体発光装置Info
- Publication number
- JPS5873180A JPS5873180A JP17180881A JP17180881A JPS5873180A JP S5873180 A JPS5873180 A JP S5873180A JP 17180881 A JP17180881 A JP 17180881A JP 17180881 A JP17180881 A JP 17180881A JP S5873180 A JPS5873180 A JP S5873180A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- layer
- active layer
- laser
- semiconductor layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
- H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
- H01S5/4031—Edge-emitting structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/20—Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers
- H01S5/2054—Methods of obtaining the confinement
- H01S5/2059—Methods of obtaining the confinement by means of particular conductivity zones, e.g. obtained by particle bombardment or diffusion
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(蜀 @明の技術分野
不発#iは半導俸妬元狭直、袴に千尋捧レーザ?〔閣下
ゐ。
ゐ。
(2)技術の背京
半導体レーザの低−厘化、′tI:足な慎一本七一ドの
発振を竹なわせ心9歩貿回上寺の爪から従来。
発振を竹なわせ心9歩貿回上寺の爪から従来。
第1図に示すような#II遺り半導体レーザが提案さ扛
ていゐ。
ていゐ。
(3)従米孜何と間組点
図は促米の牛4捧V−ザの断圓図であり1回申上は′−
極、 2i”JPfi()aAs &板、3iJjG
aA上Ae層 4 [P 型UaAIAI3タクッドj
曽、8はntJ、UaAs #+ ツブj曽、9は11
1憔、1(Jは基板2に遊子4)!!釦(Zn)拡散1
−(PI−ンである。図に示す工うなに米の半導体レー
ザにおいては矢印lIVこ示す往路でlIL九が流ル、
ノープ鈍元饋域12においてノーサ九が出射する〇 この↓)な促米の牛尋捧ノーザにおいては、レーザ兄元
諷城か1つの享でめったため、レーザ発几姐Xd1.2
if傍で4曹が生じると、このナツプが竺く小成となっ
−(Lまう欠点があった0 (4) 発明の1円 本発明の目的は1促米のこQ工うな入点を解(内し、ナ
ツプとして匍租莢の^い午導坏V−ザを提供下@ことに
めΦ0 (5)発明の栴成 このような口重1本発明によれは、4板上vC1ttI
L阻止層及びレーザ発振を起こ丁活注層と、ム偵性1−
より大きい禁制fv1mkMし且つ該活注目11’tf
んだ第1及び第2のクツラドj−と444するダグルヘ
アロ接合の半導坏11m k lIK欠配直し1級千尋
坏ノーの中央を横切り且つ前記4根に遅する床さの一匁
路を一定するストフイフ゛形状の小祠物狽城tぺけ。
極、 2i”JPfi()aAs &板、3iJjG
aA上Ae層 4 [P 型UaAIAI3タクッドj
曽、8はntJ、UaAs #+ ツブj曽、9は11
1憔、1(Jは基板2に遊子4)!!釦(Zn)拡散1
−(PI−ンである。図に示す工うなに米の半導体レー
ザにおいては矢印lIVこ示す往路でlIL九が流ル、
ノープ鈍元饋域12においてノーサ九が出射する〇 この↓)な促米の牛尋捧ノーザにおいては、レーザ兄元
諷城か1つの享でめったため、レーザ発几姐Xd1.2
if傍で4曹が生じると、このナツプが竺く小成となっ
−(Lまう欠点があった0 (4) 発明の1円 本発明の目的は1促米のこQ工うな入点を解(内し、ナ
ツプとして匍租莢の^い午導坏V−ザを提供下@ことに
めΦ0 (5)発明の栴成 このような口重1本発明によれは、4板上vC1ttI
L阻止層及びレーザ発振を起こ丁活注層と、ム偵性1−
より大きい禁制fv1mkMし且つ該活注目11’tf
んだ第1及び第2のクツラドj−と444するダグルヘ
アロ接合の半導坏11m k lIK欠配直し1級千尋
坏ノーの中央を横切り且つ前記4根に遅する床さの一匁
路を一定するストフイフ゛形状の小祠物狽城tぺけ。
前記ダブルへテロw!曾牛4捧ノーよにm1Ji己不祠
吻源域を弁して2つの4億を設け、かつ該f6注1−と
該不純智狐域にニジ形成されゐ2つのレーザ兄光禎域を
備えることにより達成式ルゐ。
吻源域を弁して2つの4億を設け、かつ該f6注1−と
該不純智狐域にニジ形成されゐ2つのレーザ兄光禎域を
備えることにより達成式ルゐ。
(6ン 発明の実施ガ
以下1図を用いt1本発明1に総明する0図に1本発明
による午211坏レーザの一実施例の町圓図であり、第
1図と同じ査号は従来と同じものを示す。図に明らかな
ように、季先明では虱ml仏11!L惧域20が谷午尋
俸層の中火を慎切った悟埴とし、かつ2つのIIL惚y
+y’に亜釦仏畝狐域に0の両側に設けた○これにより
、′4訛23は2つの亀憾ソ、ソ′に同って訛几るので
、2つりレーザ発光撫械bh、zzが存在丁ゐことにな
る。この友め。
による午211坏レーザの一実施例の町圓図であり、第
1図と同じ査号は従来と同じものを示す。図に明らかな
ように、季先明では虱ml仏11!L惧域20が谷午尋
俸層の中火を慎切った悟埴とし、かつ2つのIIL惚y
+y’に亜釦仏畝狐域に0の両側に設けた○これにより
、′4訛23は2つの亀憾ソ、ソ′に同って訛几るので
、2つりレーザ発光撫械bh、zzが存在丁ゐことにな
る。この友め。
’NLil1Mfおよびv、9′に同時に電圧を印カロ
してシー11完元−@賊kil、 にkから2つυレ
ーザビームを侍Φことができる地に、′#を億1と9に
電圧を印〃口しでレーザ発光電域に1からV−ザ元を侍
、−害兄V+LVC工9レーザ発九執城21からレーザ
が侍盾くなった時には、゛−他ソ′ に切管て電圧を印
〃口することにより、ノーf兜充狽域22からレーザ元
を侍◇よりに丁りことによって千4杯)−ザの夷貞的な
寿節r処ば丁ことができる。
してシー11完元−@賊kil、 にkから2つυレ
ーザビームを侍Φことができる地に、′#を億1と9に
電圧を印〃口しでレーザ発光電域に1からV−ザ元を侍
、−害兄V+LVC工9レーザ発九執城21からレーザ
が侍盾くなった時には、゛−他ソ′ に切管て電圧を印
〃口することにより、ノーf兜充狽域22からレーザ元
を侍◇よりに丁りことによって千4杯)−ザの夷貞的な
寿節r処ば丁ことができる。
(7)托四の幼木
以よ続開したように、不兄例によれば、牛4坏V−ザの
1チツプki<1jE用することができ、tた1′りの
テップから2つのV−ザ元を侍ることもC′@るので、
殖東上のオリ用ilIlltmμ大きい。
1チツプki<1jE用することができ、tた1′りの
テップから2つのV−ザ元を侍ることもC′@るので、
殖東上のオリ用ilIlltmμ大きい。
−殻間の間亭−々祝明
第1図は、vE米の牛尋坏ノーサtボす萌囲図。
第2図は本元明の一実施例を示す耐閣図でめる。
0・r5注庸、にO:亜蛤仏散填戚(不軸吻狽域)第
2 図
2 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 基似上に11L流阻止層及びレーザ祐振r匙こす活性1
−と、#A活性層より大きい県制帝暢全有し且つ該活性
層を法んだ第1及び第2のクラッド層とt市するダブル
へテロ接合の半導体1111’に虜仄配直し。 該半導体層の甲夫′Iky4切り且つ制記基板に廐する
深さの′WIL流路を幽足すリスドライプル状の不細切
領域を設け、前記ダブルヘデロ毅曾午尋捧j11主に前
記不純榔領域を介して2つの蝋惚を奴け、力・つ該范性
層と該不純@領域により形成さ扛る2′ノリレ一ザ発元
慣域を備えたことt狩値と丁ゐ千尋捧発光裂直。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17180881A JPS5873180A (ja) | 1981-10-27 | 1981-10-27 | 半導体発光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17180881A JPS5873180A (ja) | 1981-10-27 | 1981-10-27 | 半導体発光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5873180A true JPS5873180A (ja) | 1983-05-02 |
Family
ID=15930101
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17180881A Pending JPS5873180A (ja) | 1981-10-27 | 1981-10-27 | 半導体発光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5873180A (ja) |
-
1981
- 1981-10-27 JP JP17180881A patent/JPS5873180A/ja active Pending
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