JPS5873180A - 半導体発光装置 - Google Patents

半導体発光装置

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Publication number
JPS5873180A
JPS5873180A JP17180881A JP17180881A JPS5873180A JP S5873180 A JPS5873180 A JP S5873180A JP 17180881 A JP17180881 A JP 17180881A JP 17180881 A JP17180881 A JP 17180881A JP S5873180 A JPS5873180 A JP S5873180A
Authority
JP
Japan
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region
layer
active layer
laser
semiconductor layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP17180881A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyoshi Hanamitsu
花光 清
Katsuto Shima
島 克人
Shigeo Osaka
重雄 大坂
Katsuji Seki
瀬木 勝治
Takao Fujiwara
藤原 孝雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPS5873180A publication Critical patent/JPS5873180A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • H01S5/4031Edge-emitting structures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/20Structure or shape of the semiconductor body to guide the optical wave ; Confining structures perpendicular to the optical axis, e.g. index or gain guiding, stripe geometry, broad area lasers, gain tailoring, transverse or lateral reflectors, special cladding structures, MQW barrier reflection layers
    • H01S5/2054Methods of obtaining the confinement
    • H01S5/2059Methods of obtaining the confinement by means of particular conductivity zones, e.g. obtained by particle bombardment or diffusion

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (蜀 @明の技術分野 不発#iは半導俸妬元狭直、袴に千尋捧レーザ?〔閣下
ゐ。
(2)技術の背京 半導体レーザの低−厘化、′tI:足な慎一本七一ドの
発振を竹なわせ心9歩貿回上寺の爪から従来。
第1図に示すような#II遺り半導体レーザが提案さ扛
ていゐ。
(3)従米孜何と間組点 図は促米の牛4捧V−ザの断圓図であり1回申上は′−
極、  2i”JPfi()aAs &板、3iJjG
aA上Ae層 4 [P 型UaAIAI3タクッドj
曽、8はntJ、UaAs #+ ツブj曽、9は11
1憔、1(Jは基板2に遊子4)!!釦(Zn)拡散1
−(PI−ンである。図に示す工うなに米の半導体レー
ザにおいては矢印lIVこ示す往路でlIL九が流ル、
ノープ鈍元饋域12においてノーサ九が出射する〇 この↓)な促米の牛尋捧ノーザにおいては、レーザ兄元
諷城か1つの享でめったため、レーザ発几姐Xd1.2
if傍で4曹が生じると、このナツプが竺く小成となっ
−(Lまう欠点があった0 (4)  発明の1円 本発明の目的は1促米のこQ工うな入点を解(内し、ナ
ツプとして匍租莢の^い午導坏V−ザを提供下@ことに
めΦ0 (5)発明の栴成 このような口重1本発明によれは、4板上vC1ttI
L阻止層及びレーザ発振を起こ丁活注層と、ム偵性1−
より大きい禁制fv1mkMし且つ該活注目11’tf
んだ第1及び第2のクツラドj−と444するダグルヘ
アロ接合の半導坏11m k lIK欠配直し1級千尋
坏ノーの中央を横切り且つ前記4根に遅する床さの一匁
路を一定するストフイフ゛形状の小祠物狽城tぺけ。
前記ダブルへテロw!曾牛4捧ノーよにm1Ji己不祠
吻源域を弁して2つの4億を設け、かつ該f6注1−と
該不純智狐域にニジ形成されゐ2つのレーザ兄光禎域を
備えることにより達成式ルゐ。
(6ン 発明の実施ガ 以下1図を用いt1本発明1に総明する0図に1本発明
による午211坏レーザの一実施例の町圓図であり、第
1図と同じ査号は従来と同じものを示す。図に明らかな
ように、季先明では虱ml仏11!L惧域20が谷午尋
俸層の中火を慎切った悟埴とし、かつ2つのIIL惚y
+y’に亜釦仏畝狐域に0の両側に設けた○これにより
、′4訛23は2つの亀憾ソ、ソ′に同って訛几るので
、2つりレーザ発光撫械bh、zzが存在丁ゐことにな
る。この友め。
’NLil1Mfおよびv、9′に同時に電圧を印カロ
してシー11完元−@賊kil、  にkから2つυレ
ーザビームを侍Φことができる地に、′#を億1と9に
電圧を印〃口しでレーザ発光電域に1からV−ザ元を侍
、−害兄V+LVC工9レーザ発九執城21からレーザ
が侍盾くなった時には、゛−他ソ′ に切管て電圧を印
〃口することにより、ノーf兜充狽域22からレーザ元
を侍◇よりに丁りことによって千4杯)−ザの夷貞的な
寿節r処ば丁ことができる。
(7)托四の幼木 以よ続開したように、不兄例によれば、牛4坏V−ザの
1チツプki<1jE用することができ、tた1′りの
テップから2つのV−ザ元を侍ることもC′@るので、
殖東上のオリ用ilIlltmμ大きい。
−殻間の間亭−々祝明 第1図は、vE米の牛尋坏ノーサtボす萌囲図。
第2図は本元明の一実施例を示す耐閣図でめる。
0・r5注庸、にO:亜蛤仏散填戚(不軸吻狽域)第 
2 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 基似上に11L流阻止層及びレーザ祐振r匙こす活性1
    −と、#A活性層より大きい県制帝暢全有し且つ該活性
    層を法んだ第1及び第2のクラッド層とt市するダブル
    へテロ接合の半導体1111’に虜仄配直し。 該半導体層の甲夫′Iky4切り且つ制記基板に廐する
    深さの′WIL流路を幽足すリスドライプル状の不細切
    領域を設け、前記ダブルヘデロ毅曾午尋捧j11主に前
    記不純榔領域を介して2つの蝋惚を奴け、力・つ該范性
    層と該不純@領域により形成さ扛る2′ノリレ一ザ発元
    慣域を備えたことt狩値と丁ゐ千尋捧発光裂直。
JP17180881A 1981-10-27 1981-10-27 半導体発光装置 Pending JPS5873180A (ja)

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