JPS587395A - ヒ−トモ−ド記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は高エネルギー密度の光ビーム奮用いて情報を記
録するためのヒートモード記録材料に関するものである
。

従来よりレーザ等の高エネルギー密度の光ビーム音用い
る記録材料としては、銀塩等の感光材料の他に次のよう
な熱的記録材料がある。この熱的記録材料に於い【は、
記録層は高い光学濃度馨有し、照射される高エネルギー
密度の光ビームを吸収し局所的な温度上昇を生じ、融解
、蒸発、凝集等の熱的変形をして、その光照射された部
分が除去されるととＫよって、非照射部分に対して光学
的濃度差を生じることにより情報が記録されるものであ
る。このような熱的記録材料は一般に現像。

定着等の処理χ必要としないこと１通常の室内光では記
録されないため暗室操作が不要であること、高コントラ
ストの画儂が得られること、情報の追加記録（アドオン
）が可能であること等の利点ｌ有する。

一般にこのような熱的記録材料への記録方法は、記録す
べき情報Ｙ電気的な時系列信号に変換し、その信号に応
じ【強度変調されたレーザビームでその記録材料上ン走
査させて行な５項合が多い。

この場合、リアルタイムで記録画像が得られ□るという
利点を有する。

このような熱的記録材料の記録層とし【は、金属、染料
、プラスチック等が適し【おり、一般に安価な材料Ｙ用
いることが出来る。このような記鎌材料は１例えばＭ、
　Ｌ、　Ｌｅｖｅηｅ　らの著による”Ｅｌｅｃｔｒｏ
ｎ、　Ｉｏｎ　ａｎｄ　Ｌａ５ｅｒ　Ｂｅａｍ　Ｔｅｃ
ｈｎｏｌｏｇｙ”第１１回シンポジウムの記録（１９６
９年）１、　Ｋｉｅｃｔｒｏｎｉｃａ誌（１９＜Ｓ８年
３月１８日）第５０頁、Ｄ、　Ｍａｙｄａｎ　４Ｉ”Ｔ
ｈｅ　Ｂｅ１ｌ　ＳｙｓｔｍＴｅｃｈｎｉｃａｌ　Ｊｏ
ｕｒｎａｌ“誌第５０巻（１９７１年）第１７６１頁、
Ｏ，Ｏ，ＣａｒｌＢｏｎ　ＩＦ　”５ｃｉｅｎｃ＋ｓ”
誌第１５４巻（１９６６年）第１５５０１ｊ等［ｅ載さ
れ【いる。それらのうち記録層に金属を用゛（またもの
としてはたとえば支持体上にＢｉ、　Ｓｎ、Ｉｎ、等の
金属薄膜を用いたものがあり、それらは高層偉力の画像
が記録出来ること、高ツントッストであること郷のため
熱的記録材料として優れた性質を有している。しかしな
がら一般に金属薄１！ＩＹ用いた記碌材料では記録に用
いるレーザ光に対する光反射率が５１層以上のものが多
く、レーザ光のエネルギーを有効に利用することが出来
ないため記ＪＩＫ要する光エネルギーが大きく、従って
高速走査で記録するには大出力のレーザ光源が必要とな
り、そのため記録装置が大型且つ高価なものＫなるとい
う欠点を有している。そこで記録感度の高い記録材料が
いくつか探究されている。たとえば特公昭４６−４０４
７９号公報ｉｓｅ、　Ｂｔ、　Ｃｚｅ　から成る構成の
記録材料が記載されている。ここでＧＯの層はＢ１の層
の照射光に対する反射率ｌ低下させるものであり、　Ｓ
ｏ層は蒸発し易い層であり、いずれもＢ１　単層の場合
よりも少ないエネルギーによって主なる記録層である８
１層の熱的な変形を促進させる。さらに反射減少ないし
反射防止をするための層は特開昭５０−１５１１５１号
公報や特公昭５１−１４２６２号公報にも記載されてい
る。また記録層とその支持体との間の熱伝導を減少させ
る層を設けたものは特開昭５０−１２６３７号公報や特
開１！ｌ５ｌ−１６０２６号公報に記載されている。ま
た特開昭５１−７８２５６号公報および特開昭５２−２
０８２１号公報には金属硫化物、全率、ふつ化物あるい
は金属酸化物を金属と重層あるいは混合した記録層が記
載されている。また本出願の発明者の一部な含む発明者
らの出願による特開昭５４−５７４２号公報には、無機
物質と有機物質とを混合した記録層が記載されている０
本発明者はさらに鋭意研究を重ねた結果上述の各記録材
料より同等以上の高感度の新しい記録材料を見出し、本
発明に結びついたものである。

本発明の目的は高感度の熱的記録材料を提供するととに
ある。また本発明の目的は記録画質のすぐれた高感度の
熱的記録材料を提供するととＫある。また本発明の目的
は公害発生の危険のない高感度の記録材料な提供するこ
とＫある。さらに本発明の目的は安価でしかむ製造工程
の少ない高感度の記録材料な提供することにある。

本発明は支持体上に硫化水素の分圧下で金属、半金属又
は半導体を、蒸着、スパッタリング、ＯＶＤ　　あるい
はイオンプレーティンメン行なうことにより設けられた
記録層を有することを特徴とするヒートモード記録材料
である。

本発明により感度が上昇する理由は現在のところ不明確
である。然しなから敢え【その理由を推察するに、硫化
水素の分圧下で薄膜形成するに際し、金属等と硫化水素
とが化学反応奮起こし、硫化物音形成し、光反射率、低
下等の性質変化ンひきおこすことがその原因の一つとし
て予想される。

以下１本発Ｆ！Ｉｊな詳細に説明する。

本発明。Ｋ用いられる支持体とし【は、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂等のプ
ラスチックフィルム、ガラス板１紙。

板状又は箔状の金属等の一般の記録材料の支持体が用い
られる。

本発明に用いられる金属としては、例えば、Ｍｇ。

Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｗｂ、Ｔａ、Ｏｒ、
Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ。

Ｒ＠、Ｆｅ、Ｇｏ、Ｎｉ、Ｒｎ、Ｒｈ、Ｐａ＊Ｉｒ、Ｐ
ｔ、Ｃｕ、Ａｇ。

Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔ１．Ｐｂ、Ｐ
ｏ、Ｓｎ、Ｓｏ。

Ｔｅ尋があり、半金属としては、　Ｂｉ、Ａｓ、Ｓｂ　
等、半導体としてはＧｅ、Ｓ、ｉ　等がある。これらは
単独で用いても二つ以上の合金又は組み合せとして用い
てもよい。本発明に用いられるこれらの物質として特に
望ましい条件は、毒性が少ないこと、融解又は蒸発に要
するエネ４グーが小さいこと、保存時の光学濃度の低下
等の経時劣化が少ないこと。

膜の製造が容易であること等である。以下、上記の金属
、半金属、半導体を金属等と称する。本発明を最も有効
に実施しさる金属等とし【はＺｎ。

Ｉｎ、８ｎ、Ｇｅ、Ａｌ、Ｇｕ、Ａｇ、Ｐｂ、Ｇａが好
ましい。

更に合金の場合はＨａ、に、Ｏａ　Ｙ含むものであり（
もよい。

二種以上の金属等から成る層Ｙ形成する方法としては、
合金を真空蒸着してもよいし、また二種以上の金属等を
別々の蒸発源を用いて同時或いは別々に蒸着してもよい
、二種以上の金属等Ｙ積層する場合その少な（とも一層
は硫化水素の分圧下で蒸着ＣＹＤ、スパッタリングある
いはイオンブレーティングにより層な形成する必要があ
る。

金属等の層の膜厚は１画像として必要な光学濃度を与え
る厚さであればよ（、例えば透過濃度２層を必要とする
が、用いる金属等の種類によって異なるのは当然である
。

また真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング
、ＧＶＤ等の方法で支持体上に金属等の層を形成する場
合、支持体の種類、ｉ１度、真空度、蒸着速度等によっ
て金属等の層の膜構造が変化するため所望の光学濃度を
得るために必要な膜厚も当然異なることは明らかである
。

本発１ｊｌｋおける硫化水素の適正な分圧は、薄膜形成
材料の種類、イオンブレーティング、スパッタリング等
の薄膜形成方法等に依存するため一般的な範囲を決める
ことは困難であるが、一般には圧力範囲は１０−　”〜
１０−５Ｔｏｒｒ　、好ましくは。

１０−２〜１Ｏ−４Ｔｏｒｒ　　である。

本発明の高感度記録材料においては、支持体上に設けら
れた前記記録層上に無機物質又は有機物質からなる反射
防止層及び／又は保護層を設けてもよい。

記録層上に反射層及び／又は保護層を設けることは、記
録材料としての感度、耐久性１機械的強度、経時安定性
の改善等に有効であって１本発明としては好ましい態様
であることは勿論である。

保護層としては無機物質又は有機物質のいずれでもよい
が、使用する高エネルギー密度の光ビー五に対し【透過
性であること、機械的強度が大であること、記録層と反
応しＫくいこと、被膜性の良いこと、製造が容易なこと
等が要求される。

本発明に用いられる反射防止層及び／又は保護層として
は、無機物質又は有機物質のいづれでもよいが、例えば
無機の反射防止層としては８ｎＳ。

Ｇａｓ、Ｓｅ、ＺｎＳ、５ｂｌＳ３．　Ｉｎ！Ｓ３．Ｐ
ｂＸ２．ＧｕＸ。

ＡｇＸ、ＫＸ、ＣａＸ２，５ｎＸ２．ＦｅＸ：＋　（コ
ｔＬうｆ）Ｘハハロダン元素″４を表わす）等が用いら
れ、一方無機の保護層としてはＡｉｘＯｓ、５ｉｏｚ、
ＳｉＯ＊ＭｇＯ＊ＺｎＯ＊Ｔｉ０１　、　ＺｒＯ２、Ｍ
ｇＦ＠　、　ＣｕＦ　２等の透明な物質が望ましい。こ
れらは真空蒸着、ス／でツタリング、イオンブレーティ
ング等で形成される。

また有機物質を保護層として用いることは優れた方法で
ある。かかる保護層として用いられる樹脂は穏々のもの
が可能であるが例え暎−リスチレン、スチレン−無水マ
レイン酸樹脂のごときスチレン系樹脂、ポリ酢酸ビニル
、ポリビニルアルコール、フチラール、ホリビエルホル
實−ルの如き酢噂ビニル系樹脂、＄リメタクリル酸イノ
ブチル、ポリメタクリル醗メチルの如きメタクリル酸エ
ネテル系樹脂、ポリダイア七トンアクリルアミド。

ポリアクリルアミドのごときアミド系樹脂、エチルセル
田−ス、酢酸ツタ酸セル田−ス、硝酸セル四−ス、ジア
セチルセルロースのごときセルロース系樹脂、ポリ塩化
ビニル、塩素化ポリエチレンのごときＩリハロメン化オ
レフィン、フェノール樹脂、可溶性ポリエステル、可溶
性ナイロン、ゼラチン等及びこれらの共重合物等から選
ばれる。

これらの樹脂は種々の溶剤に溶かし【既知の塗布方法に
より塗布することが出来る。

用いられる溶剤としては各種の溶剤があるが、例えばア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイツゾチルケトン
、メチルセロノルフ、エチル七四ソルプ、メチルセロソ
ルゾ、メチルセロソルメアセ？−）、エチルセロソルブ
アセテート、ゾチルセｐソ〃プアセテー）、ヘキサン、
シクロヘキサン、メチクロ、メチクロ、ベンゼン、り四
ルインイン、メタノール、エタノール、メタノール、石
油エーテル、Ｓ）メチルホ羨ムア電ド、シンナー等の中
から、使用する樹脂に応じて選べば良い。

これらの樹脂の中には、顔料、マット化剤、可履剤、滑
剤などの各種添加物を目的に応じて添加することが可能
であ、す、特に炭素原子数が１１以上の高級脂肪酸、或
いは酸アミｒｖα１〜１０ｖｔチ　種度添加することは
記録材料の膜面強度を陶土させる点で効果がある。

またこれらの高級脂肪酸或いは酸アミ「のごとき滑剤は
保護層上に通常の方法で０．００１〜１μの厚さに塗布
することも可能である。本発明に用いられる保護層の膜
厚は記録材料として要望される膜面強度、経時安定性、
記録感度等から最適の厚さに選ばれるが１％ＫＯ，０１
μ〜２００μの膜厚が好ましい。

保護層の別な形態として記録層と保護層間に空気ギャッ
プを設ける形に保護層を形成する事も可能である。

本発明の記録材料の用途としては印刷用リスフィルムの
代用、ファクシ電す用記録材料、光学ディスク、ＩＯ用
フォトマスク、マイクロフィルム用記録材料など多くの
方面に用いる事ができる。

以下実施例により本発明１さらに詳しく説明する。

実施例１ 高周波イオンブレーティング装置内１’　１０−１〜１
０−’Ｔｏｒｒの真空度まで排気し、その後、硫化水素
ガスｖ鋏装置内に導入し、装置内の真空度Ｙ２Ｘ１０−
４Ｔｏｒｒｍ度に設定シタ＊　コｆ）　ヨ５　ＦＫ−Ｌ
。

た後、高周波電源を高周波電力２００Ｗで動作させｓ　
ａｎ　Ｙ加熱蒸発させることにより、厚さ１００μのポ
リエチレンテレフタレートフィルム上に。

厚さ６００Ａの記録層を形成した。この時この膜の白色
光に対する光学濃度は２．０であった。次にアルノンイ
オンレーザの波長５１４５＾のビームｔレンズで約２５
１１のビーム径に集光させて。

１９ｍ／ｓ・Ｃの走査速度で走査させて記録１行なった
。該記録層に照射するレーザパワーン変化させて照射し
た。この様にして、２００ｍｖのレーザパフ−大照射し
た時、＠１０μの記録線が記録できた。これに対し、真
空蒸着によりポリエチレンテレフタレート上に形成され
た厚さ６０ＯＡのＳｎ　＃）膜を同様に記録するＫは４
００　ｍｙのレーザパワーが必要であり、感度が上昇し
【いることが確認された。

実施例２ 実施例１と同様の方法により、工ｎ　Ｙ加熱蒸発させ、
厚さ１００Ｊのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に、厚さ３００Ａの記録５を形成した。この時、この膜
の白色光に対する光学濃度はａ５６．であった。実施例
１と同様の方法でレーザ記録を行ない、３００ｍｖのレ
ーザパワーで記録できゞ・こ昧対し・真空蒸着７１す７
りでチ′ンテレ７タレート上に形成した厚さ３００Ａの
Ｉｎの膜は同様に記録するＫは４００　ｍｙのレーザパ
ワーが必要であり、感度が上昇していることが確認でき
た。

代理人　弁理士（８１０７）佐々木清　隆（はか５名） 手続補正書 昭和５６年特許願第　１０５１１０＋３２、発明の名称 ヒートモード記録材料 ３、補正をする者 事件との関係：特許出願人 名称　（５２Ｇ）富士写真フィルム株式会社霞が関ビル
内郵便局　私書箱第４９号 ２）〔発明の詳細な説明〕の欄を下記の如く補正する。

ｔ　明細書第６頁第２行 「光反射率、低下等の」を「光反射率の低下等の」Ｋ訂
正する。

２、明細書第６頁第２行 「で蒸着」と「ＣＶＤ」の間に「、」を挿入する。

〔特許請求の範囲〕

（１）　　支持体上に、硫化水素の分圧下ｆ、金属半金
属又は半導体を蒸着、スフツタリング、ＣＶＤあるいは
イオン！レーテインダを行な５ことにより設けられた記
録層を有することを特徴とすると一ト毫−Ｐ記録材料。

（２）硫化水素の分圧が１０−２〜１０→Ｔｏｒｒ　　
である特許請求の範囲第（１）項に記載のヒートモード
記録材料。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）　　支持体上に、ｉＩ化水素の分圧下で、金属、
   半金属又は牛導体を蒸着、スパッタリング、ＳＶＤある
   いはイオンブレーティングを行なうことｋより設けられ
   た記録層を有することｔ特徴とするヒートモード記録材
   料。
2. （２）硫化水素の分圧が１０−２〜１［］−４Ｔｏｒｒ
   である特許請求の範囲第（０項に記載のヒートモード記
   録材料。