JPS5875148A - 感光性樹脂組成物および感光性エレメント - Google Patents
感光性樹脂組成物および感光性エレメントInfo
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/285—Permanent coating compositions
- H05K3/287—Photosensitive compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は感光性樹脂組成物および感光性エレメントに関
する。更に詳しくは印刷配線板製造。
する。更に詳しくは印刷配線板製造。
金属精密加工等に使用し得る優れた特性を有する保ll
i′I11膜形成用の感光性樹脂組成物及び該組成物の
層と皺層を支持する支持体フィルムとからなる感光性エ
レメントに関する。
i′I11膜形成用の感光性樹脂組成物及び該組成物の
層と皺層を支持する支持体フィルムとからなる感光性エ
レメントに関する。
感光性エレメント、すなわち支持体フィルム上の実質的
に乾燥した感光性樹脂組成物の層が印刷配線板を製造す
るためのフォトレジストとして使用されることはよく知
られている。さらに、半田マスク、化学メッキ用レジス
ト等に使用可能な優れ&%性を有する感光性樹脂組成物
が非常に有用であることも周知である。
に乾燥した感光性樹脂組成物の層が印刷配線板を製造す
るためのフォトレジストとして使用されることはよく知
られている。さらに、半田マスク、化学メッキ用レジス
ト等に使用可能な優れ&%性を有する感光性樹脂組成物
が非常に有用であることも周知である。
半田マスクの主な目的は、半田付は時の半田付は領域を
限定し半田ブリッジ等を防ぐこと。
限定し半田ブリッジ等を防ぐこと。
裸の銅導体の腐食を防止すること、及び長期にわ九って
導体間の電気絶縁性を保つことである。
導体間の電気絶縁性を保つことである。
これらの目的のため、従来はエポキシ樹脂等の熱硬化性
インク、ibるいは光硬化性インクをスクリーン印刷し
ていた。しかし、近年、印刷配線板の配線密度が高まり
、それに用いる半田マスクの形成がスクリーン印刷方式
では精度上困離になってきた。ま九、配線密度の向上に
ともない、導体間の電気絶縁性の要求が厳しくなり。
インク、ibるいは光硬化性インクをスクリーン印刷し
ていた。しかし、近年、印刷配線板の配線密度が高まり
、それに用いる半田マスクの形成がスクリーン印刷方式
では精度上困離になってきた。ま九、配線密度の向上に
ともない、導体間の電気絶縁性の要求が厳しくなり。
導体保護膜9厚さが最低でも約20μm以上あることが
望まれ始め良。スクリーン印刷方式では、1回で形成可
能なレジストの平均厚みは高々30μmであシ、導体凸
部上の形成されたレジストの最も薄い部分の厚みは10
−m以下にならざるを得ない。2度、3度と重ね印刷を
すれば厚膜化は可能であるが、印刷精度及び工種の煩雑
化のため実質的には非常にl−である。
望まれ始め良。スクリーン印刷方式では、1回で形成可
能なレジストの平均厚みは高々30μmであシ、導体凸
部上の形成されたレジストの最も薄い部分の厚みは10
−m以下にならざるを得ない。2度、3度と重ね印刷を
すれば厚膜化は可能であるが、印刷精度及び工種の煩雑
化のため実質的には非常にl−である。
そこで、半佃マスク形成用の感光性エレメントの出現が
望まれている。感光性樹脂組成物の層の厚みが20 p
m以上の感光性エレメントは有用である。印刷配線の導
体厚みは18μm以上のものがほとんどであるので、感
光性樹脂層の厚みが40 pm以上の感光性エレメント
#i特に有用である。′ 一般に感光性ドライフィルムと称して印刷配線板の導体
パターン形成用に用いられている。
望まれている。感光性樹脂組成物の層の厚みが20 p
m以上の感光性エレメントは有用である。印刷配線の導
体厚みは18μm以上のものがほとんどであるので、感
光性樹脂層の厚みが40 pm以上の感光性エレメント
#i特に有用である。′ 一般に感光性ドライフィルムと称して印刷配線板の導体
パターン形成用に用いられている。
エツチング又は電解メッキ用の感光性エレメントは耐熱
性が十分でなく、半田マスク形成用には使用できない。
性が十分でなく、半田マスク形成用には使用できない。
そこで耐熱性の曳好な、半田マスク形成用に用いうる感
光性エレメント用の感光性樹脂組成の提案が行なわれて
いる(例えば、41開昭53−56018.%公昭52
−43092,4I公昭53−44346)。、それら
は、提案の一つの目的である耐熱性に優れているが、4
0μm以上の厚い保護膜を形成し九場合には、125℃
と一65℃の冷熱衝撃試験で5サイクル以内にクラック
が生じる。クラックの発生は膜厚が厚くなる#1どひど
くなる。これは印刷配線板の長期の信頼性を考慮しなけ
ればならないときに大きな問題となる。
光性エレメント用の感光性樹脂組成の提案が行なわれて
いる(例えば、41開昭53−56018.%公昭52
−43092,4I公昭53−44346)。、それら
は、提案の一つの目的である耐熱性に優れているが、4
0μm以上の厚い保護膜を形成し九場合には、125℃
と一65℃の冷熱衝撃試験で5サイクル以内にクラック
が生じる。クラックの発生は膜厚が厚くなる#1どひど
くなる。これは印刷配線板の長期の信頼性を考慮しなけ
ればならないときに大きな問題となる。
スクリーン印刷方式で形成される半田マスクのなかには
耐冷熱価撃性の良好なもの4ある。
耐冷熱価撃性の良好なもの4ある。
これはおもに、スクリーン印刷方式で形成される半田マ
スクの厚みが10〜30μmであるためである。他の理
由は、一般に印刷インクは多量のフィラーを含有してい
るためである。フィラーの含有が耐冷熱衝撃性の向上に
寄与することは公知である。しかしながら、感光性エレ
メントの場合、その感光性樹脂組成物の層は活性光を照
射する前の段階ですでに実質的に乾燥していなければな
らず、多少ともフィルム性がなければならない。このこ
とは、感光性樹脂組成物の層が、フィルム性を付与する
のを一つの目的として、線状高分子化合物を含有するこ
とを必須の条件とじていることを意味する。このため、
線状高分子化合物、活性光感受性化合物及び増感剤の他
に多量のフィラーを含有させることは困難である。
スクの厚みが10〜30μmであるためである。他の理
由は、一般に印刷インクは多量のフィラーを含有してい
るためである。フィラーの含有が耐冷熱衝撃性の向上に
寄与することは公知である。しかしながら、感光性エレ
メントの場合、その感光性樹脂組成物の層は活性光を照
射する前の段階ですでに実質的に乾燥していなければな
らず、多少ともフィルム性がなければならない。このこ
とは、感光性樹脂組成物の層が、フィルム性を付与する
のを一つの目的として、線状高分子化合物を含有するこ
とを必須の条件とじていることを意味する。このため、
線状高分子化合物、活性光感受性化合物及び増感剤の他
に多量のフィラーを含有させることは困難である。
さらに9本発明者らが種々検討したと、ころ。
感光性エレメントの場合、その感光性樹脂組成物の層に
約10重量嘔以上のフィラーを含有させると、確かにそ
れにより形成された半田マスクの耐冷熱衝撃性は向上す
るが、主要な特性の一つである半田耐熱性が低下し、実
用的でないことがわかった。
約10重量嘔以上のフィラーを含有させると、確かにそ
れにより形成された半田マスクの耐冷熱衝撃性は向上す
るが、主要な特性の一つである半田耐熱性が低下し、実
用的でないことがわかった。
スクリーン印刷用光硬化性インクに用いる化合物として
9種々のウレタン(メタ)アクリレート化合物(ウレタ
ンアクリレート化合物又はウレタンメタアクリレート化
合物、以下同じ)が、耐熱性に優れているとして、提案
されている。しかし、それらを光硬化性インクと異tb
通常像的露光・現偉を伴う本発明が目的とする感光性エ
レメントに応用しようとするときkは太き表困難が生じ
る。その第1の困難は、提案されているウレタン(メタ
)アクリレート化合物の多くが線状高分子化合物、特に
種々の特性で好適なビニル系共重合線状高分子化合物と
相溶しないか、あるいは相溶性が著しく悪いことである
。第2の困難は感光性エレメントの現偉に用いる不燃性
溶剤、特に一般に敵本多用されている1、1.1−)リ
クロロエタン系溶剤に、提案されているウレタン(メタ
)アクリレート化金物の多くが不溶であることである。
9種々のウレタン(メタ)アクリレート化合物(ウレタ
ンアクリレート化合物又はウレタンメタアクリレート化
合物、以下同じ)が、耐熱性に優れているとして、提案
されている。しかし、それらを光硬化性インクと異tb
通常像的露光・現偉を伴う本発明が目的とする感光性エ
レメントに応用しようとするときkは太き表困難が生じ
る。その第1の困難は、提案されているウレタン(メタ
)アクリレート化合物の多くが線状高分子化合物、特に
種々の特性で好適なビニル系共重合線状高分子化合物と
相溶しないか、あるいは相溶性が著しく悪いことである
。第2の困難は感光性エレメントの現偉に用いる不燃性
溶剤、特に一般に敵本多用されている1、1.1−)リ
クロロエタン系溶剤に、提案されているウレタン(メタ
)アクリレート化金物の多くが不溶であることである。
特公昭51−15733にはかかる困難を解決し九りレ
タン(メタ)アクリレート化合物が示されている。しか
しながらそこに示された組成物は半田マスク形成用とし
ては可撓性、耐熱性等の点で使用できない。
タン(メタ)アクリレート化合物が示されている。しか
しながらそこに示された組成物は半田マスク形成用とし
ては可撓性、耐熱性等の点で使用できない。
本発明の目的は半田マスク形成に用いうる耐熱性に優れ
、且つ、耐冷熱衝撃性に優れ光感光性樹脂組成物及び該
組成物の層と該層を支持する支持体フィルムとからなる
感光性エレメントを提供することである。
1本発明は(a)(イ)リジン
ジイソシアナート、(ロ)2価アルコール及び(ハ)2
価アルコールの(メタ)アクリル酸モノエステル(アク
リル酸モノエステル又はメタアクリル酸モノエステルを
指す。
、且つ、耐冷熱衝撃性に優れ光感光性樹脂組成物及び該
組成物の層と該層を支持する支持体フィルムとからなる
感光性エレメントを提供することである。
1本発明は(a)(イ)リジン
ジイソシアナート、(ロ)2価アルコール及び(ハ)2
価アルコールの(メタ)アクリル酸モノエステル(アク
リル酸モノエステル又はメタアクリル酸モノエステルを
指す。
以下同じ)を反応させて得られるウレタンジ(メタ)ア
クリレート化合物(ウレタンジアクリレート化合物又は
ウレタンジメタクリレート化合物を指す、以下同じ)2
0〜75重1部(b) ガラス転移温度が約40〒1
50℃の線状高分子化合物20〜75重量部 ならびに (C) 活性光によシ遊離ラジカルを生成する増感剤
ま九は(および)増感剤系 を含有する感光性樹脂組成物に関する。
クリレート化合物(ウレタンジアクリレート化合物又は
ウレタンジメタクリレート化合物を指す、以下同じ)2
0〜75重1部(b) ガラス転移温度が約40〒1
50℃の線状高分子化合物20〜75重量部 ならびに (C) 活性光によシ遊離ラジカルを生成する増感剤
ま九は(および)増感剤系 を含有する感光性樹脂組成物に関する。
さらに本発明a、(1)(イ)リジンジイソシアナート
、(ロ)2価アルコール及ヒ(ハ)2価アルコールのア
クリル酸モノエステル又はメタアクリル酸モノエステル
を反応させて得られるウレタンジアクリレート化合物又
はウレタンジメタクリレート化合物20〜75重量部 (bl ガラス転移温度が約40〜150℃の線状高
分子化合物20蝙75重景部 ならびに (C) 活性光によシ遊離ラジカルを生成する増感剤
又は(及び)増感剤系 を含有する感光性・樹脂組成物の層と該層を支持する支
持体フィルムからなる感光性エレメントに関する。
、(ロ)2価アルコール及ヒ(ハ)2価アルコールのア
クリル酸モノエステル又はメタアクリル酸モノエステル
を反応させて得られるウレタンジアクリレート化合物又
はウレタンジメタクリレート化合物20〜75重量部 (bl ガラス転移温度が約40〜150℃の線状高
分子化合物20蝙75重景部 ならびに (C) 活性光によシ遊離ラジカルを生成する増感剤
又は(及び)増感剤系 を含有する感光性・樹脂組成物の層と該層を支持する支
持体フィルムからなる感光性エレメントに関する。
本発明の提案する感光性樹脂組成物について以下に詳細
に説明する。
に説明する。
本発明の提案する感光性樹脂組成物は、(イ)リジンジ
イソシアナート、(ロ)2価アルコール及び(ハ)2価
アルコフルの(メタ)アクリル酸モノエステルを反応さ
せて得られるウレタンジ(メタ)アクリレート化合物を
必須成分として含有する。
イソシアナート、(ロ)2価アルコール及び(ハ)2価
アルコフルの(メタ)アクリル酸モノエステルを反応さ
せて得られるウレタンジ(メタ)アクリレート化合物を
必須成分として含有する。
(イ)のリジンジイソシアナートは公知の化合物であシ
1例えばアミノ酸の一種〒Toるリジン(1,5−ジア
ミノペンクン−1−カルボン酸)のカルボキシル基をメ
タノール、エタノール。
1例えばアミノ酸の一種〒Toるリジン(1,5−ジア
ミノペンクン−1−カルボン酸)のカルボキシル基をメ
タノール、エタノール。
ブタノール等の低級アルコールでエステル化し九のち、
ホスゲン等を作用させてアミノ基をインシアナート基に
変成して得られる2価のイソシアナート化合物をいい9
例えば、東し■製LDI−M100 (λ6−ジイツシ
アネートカプロン酸メチル)がある。
ホスゲン等を作用させてアミノ基をインシアナート基に
変成して得られる2価のイソシアナート化合物をいい9
例えば、東し■製LDI−M100 (λ6−ジイツシ
アネートカプロン酸メチル)がある。
(ロ)及び(ハ)の2価アルコールとしてはメチレング
リコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール
、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール
、プロピレングリコール。
リコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール
、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール
、プロピレングリコール。
ジグロビレングリコール、1,4−ブタンジオール、L
3−ブタンジオール、2.3−ブタンジオール、L5−
ベンタンジオール、L6−へ中サンジオール、1.10
−デカンジオール、ネオペンチルグリコール、1.4−
シクロヘキサンジメタツール、ビス(2−ヒドロキシエ
チル)テレフタレート、ス2−ビス(4−ヒドロキシエ
トキシフェニル)プロパン、ス2−ビス(4−ヒドロキ
シのジェトキシフェニル)プロパンなどがある。
3−ブタンジオール、2.3−ブタンジオール、L5−
ベンタンジオール、L6−へ中サンジオール、1.10
−デカンジオール、ネオペンチルグリコール、1.4−
シクロヘキサンジメタツール、ビス(2−ヒドロキシエ
チル)テレフタレート、ス2−ビス(4−ヒドロキシエ
トキシフェニル)プロパン、ス2−ビス(4−ヒドロキ
シのジェトキシフェニル)プロパンなどがある。
(ハ)の2価アルコールの(メタ)アクリル酸モノエス
テルとしてti2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、2−ヒトpキシグロピル(メタ)アクリレート等
が用いられる。
テルとしてti2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、2−ヒトpキシグロピル(メタ)アクリレート等
が用いられる。
(ロ)の2価アルコールと(ハ)の2価アルコールとは
同一の2価アルコールを用いても異なる2価アルコール
を用いてもよい。得られるウレタンジ(メタ)アクリレ
ート化合物は式!で表わされる。
同一の2価アルコールを用いても異なる2価アルコール
を用いてもよい。得られるウレタンジ(メタ)アクリレ
ート化合物は式!で表わされる。
ζこで&はH又はCHl、R4は2価アルコールの残基
、&は2価アルコールの残基、Xはリジンジイソシアナ
ート残基である。nはO又は正の整数であシ、実際に得
られる反応生成物はnの値の異なるウレタンジ(メタ)
アクリレート化合物の混合物である。
、&は2価アルコールの残基、Xはリジンジイソシアナ
ート残基である。nはO又は正の整数であシ、実際に得
られる反応生成物はnの値の異なるウレタンジ(メタ)
アクリレート化合物の混合物である。
本発明のウレタンジ(メタ)アクリレート化合物を合成
する場合、(イ)のリジンジイソシアナートのイソシア
ナート当量と、(ロ)の2価アルコール及び(ハ)の2
価アルコールの(メタ)アクリル酸モノエステルの合計
のアルコール当量がはげ等しくなるように反応させる(
イ)のリジンジイソシアナート、(ロ)の2価アルコー
ル及び(ハ)の2価アルコールの(メタ)アクリル酸モ
ノエステルの量を決めることが好ましいが、インシアナ
ート当量がアルコール当量に対して小過剰であって屯少
し不足してもかまわない。イソシアナート当量がアルコ
ール当量に対して小過剰の場合は最終的に過剰のイノシ
アナート基をメタノールなどの1価のアルコールと反応
させ、フリーのインシアナート基をなくすことができる
。
する場合、(イ)のリジンジイソシアナートのイソシア
ナート当量と、(ロ)の2価アルコール及び(ハ)の2
価アルコールの(メタ)アクリル酸モノエステルの合計
のアルコール当量がはげ等しくなるように反応させる(
イ)のリジンジイソシアナート、(ロ)の2価アルコー
ル及び(ハ)の2価アルコールの(メタ)アクリル酸モ
ノエステルの量を決めることが好ましいが、インシアナ
ート当量がアルコール当量に対して小過剰であって屯少
し不足してもかまわない。イソシアナート当量がアルコ
ール当量に対して小過剰の場合は最終的に過剰のイノシ
アナート基をメタノールなどの1価のアルコールと反応
させ、フリーのインシアナート基をなくすことができる
。
反応させる(口)の2価のアルコールのアルコール当量
と、(ハ)の2価アルコールの(メタ)アクリル酸モノ
エステルのアルコール当量の比を1にすれば(但し1反
応させるリジンジイソシアナートのイソシアナート当量
と全アルコール当量はほぼ等しくする)nの数平均値は
IKなる。
と、(ハ)の2価アルコールの(メタ)アクリル酸モノ
エステルのアルコール当量の比を1にすれば(但し1反
応させるリジンジイソシアナートのイソシアナート当量
と全アルコール当量はほぼ等しくする)nの数平均値は
IKなる。
構成炭素原子数の大きな2価アルコールを使用すると形
成される半田マスクの耐冷熱衝撃性は向上するが、耐熱
性が低下する。逆に構成炭素原子数の小さな2価アルコ
ールを使用すると形成される半田マスクの耐熱性はより
向上するが、耐冷熱衝撃性は低下する。(ロ)及び(ハ
)の2価アルコールの構成炭素原子数は1〜23個が好
ましい。構成炭素原子数の大きい2価アルコールを使用
する場合の耐熱性の低下は改善可能である。すなわち1
反応させる(口)の2価アルコールのアルコール当量を
、(ハ)の2価アルコールの(メタ)アクリル酸モノエ
ステルのアルコール当量よシ少なくシ(但し1反応させ
るリジンジイソシアナートのインシアナート当量と全ア
ルコール当量は#1は等しくする)nの数平均値を1以
下にすることによシ耐熱性の低下を改善できる。
成される半田マスクの耐冷熱衝撃性は向上するが、耐熱
性が低下する。逆に構成炭素原子数の小さな2価アルコ
ールを使用すると形成される半田マスクの耐熱性はより
向上するが、耐冷熱衝撃性は低下する。(ロ)及び(ハ
)の2価アルコールの構成炭素原子数は1〜23個が好
ましい。構成炭素原子数の大きい2価アルコールを使用
する場合の耐熱性の低下は改善可能である。すなわち1
反応させる(口)の2価アルコールのアルコール当量を
、(ハ)の2価アルコールの(メタ)アクリル酸モノエ
ステルのアルコール当量よシ少なくシ(但し1反応させ
るリジンジイソシアナートのインシアナート当量と全ア
ルコール当量は#1は等しくする)nの数平均値を1以
下にすることによシ耐熱性の低下を改善できる。
構成炭素原子数の小さい2価アルコールを使用する場合
の耐冷熱衝撃性の低下は同様に改善可能である。すなわ
ち1反応させる(口)の2価アルコールのアルコールa
量t 、 G”to 2 価7 ル:F−ルの(メタ)
アクリル酸モノエステルのアルコール当量よシ多くシ(
但し1反応させるリジンジインシアナートのインシアナ
ート当量と全アルコール当量はほぼ等しくする)nの数
平均値を1以上にすることによシ耐冷熱衝撃性の低下を
改善できる。すなわち、耐熱性と耐冷熱衝撃性のバラン
スを考慮すると(メタ)アクリロイル基(アクリロイル
基又はメタアクリロイル基を指す、以下同じ)の濃度の
好ましい範囲がある。
の耐冷熱衝撃性の低下は同様に改善可能である。すなわ
ち1反応させる(口)の2価アルコールのアルコールa
量t 、 G”to 2 価7 ル:F−ルの(メタ)
アクリル酸モノエステルのアルコール当量よシ多くシ(
但し1反応させるリジンジインシアナートのインシアナ
ート当量と全アルコール当量はほぼ等しくする)nの数
平均値を1以上にすることによシ耐冷熱衝撃性の低下を
改善できる。すなわち、耐熱性と耐冷熱衝撃性のバラン
スを考慮すると(メタ)アクリロイル基(アクリロイル
基又はメタアクリロイル基を指す、以下同じ)の濃度の
好ましい範囲がある。
本発明者らが種々検討し九結果*lX10−s〜4.5
X10 当量/Pの(メタ)アクリロイル基を含んで
いるウレタンジ(メタ)アクリレート化合物(混合物)
を用い良悪光性樹脂組成物を使用して形成した半田マス
クは耐熱性と耐冷熱衝撃性のバランスに優れていること
がわかった。
X10 当量/Pの(メタ)アクリロイル基を含んで
いるウレタンジ(メタ)アクリレート化合物(混合物)
を用い良悪光性樹脂組成物を使用して形成した半田マス
クは耐熱性と耐冷熱衝撃性のバランスに優れていること
がわかった。
半田iスフにより導体が保護され九印刷配線板の耐電食
性を考慮すると1反応させる(口)の2価アルコールと
しては、1.4−ブタンジオール。
性を考慮すると1反応させる(口)の2価アルコールと
しては、1.4−ブタンジオール。
1.3−ブタンジオール、1.5−ベンタンジオールt
l、6−ヘキサンジオール、1.4−シクロヘキサンジ
メタツールなど、残基中にエーテル結合等の親水性基を
含まない2価アルコールが好ましい。
l、6−ヘキサンジオール、1.4−シクロヘキサンジ
メタツールなど、残基中にエーテル結合等の親水性基を
含まない2価アルコールが好ましい。
ウレタンジ(メタ)アクリレート化合物の含有量は耐熱
性及び耐冷熱衝撃性から20〜75重量部の範囲とされ
る。
性及び耐冷熱衝撃性から20〜75重量部の範囲とされ
る。
本発明になる感光性樹脂組成物は、ガラス転移温度が約
40〜150℃の線状高分子化合物を必須成分として含
有する。
40〜150℃の線状高分子化合物を必須成分として含
有する。
ガラス転移温度が約40℃未満では形成される半田マス
クの耐熱性が低い。ガラス転移温度が約150℃を越え
るとウレタンジ(メタ)アクリレート化合物との相溶性
が悪くなシ、支持体フィルムまたは基板上に感光性樹脂
組成物の層を形成できなくなる。ビニル共重合線状高分
子化合物は、ウレタンジ(メタ)アクリレート化合物と
の相溶性、及び印刷配線基板と感光性樹脂組成物の層と
の密着性の点で好ましい。線状高分子化合物の共重合成
分としては各種のビニル単量体を用いることができる。
クの耐熱性が低い。ガラス転移温度が約150℃を越え
るとウレタンジ(メタ)アクリレート化合物との相溶性
が悪くなシ、支持体フィルムまたは基板上に感光性樹脂
組成物の層を形成できなくなる。ビニル共重合線状高分
子化合物は、ウレタンジ(メタ)アクリレート化合物と
の相溶性、及び印刷配線基板と感光性樹脂組成物の層と
の密着性の点で好ましい。線状高分子化合物の共重合成
分としては各種のビニル単量体を用いることができる。
ビニル単量体の適轟な例としては、メタクリル酸メチル
。
。
メタクリル酸ブチル、アクリル酸エチル、スチレン、α
−メチルスチレン、ビニルトルエン。
−メチルスチレン、ビニルトルエン。
2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシグ
リビルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、アクリル酸、メタクリル酸、グリシジルメタクリ
レート、t−ブチルアミノエチルメタクリレート、2.
&−ジブロモプロピルメタクリレート、3−クロクー2
−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリルアミドおよ
びアクリロニトリル等を挙は得る。
リビルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、アクリル酸、メタクリル酸、グリシジルメタクリ
レート、t−ブチルアミノエチルメタクリレート、2.
&−ジブロモプロピルメタクリレート、3−クロクー2
−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリルアミドおよ
びアクリロニトリル等を挙は得る。
形成される半田マ撫りに難燃性が必要な場合は、共重合
成分としてブロム原子を含有する単量体の使用が可能で
ある。
成分としてブロム原子を含有する単量体の使用が可能で
ある。
線状高分子化合物中のブロム原子の含有量としては40
重量憾までが適轟ヤ、40重量憾を越えると耐冷熱衝撃
性が低下する。ブロム原子を含有する単量体としてはト
リプロ毫フエニ゛ル(・メタ)アクリレート(トリブロ
モフェニルアクリレート又はトリプpモフェニルメタア
クリレートを指す、以下−じ)が好適である。トリブロ
モフェニル(メタ)アクリレートの共重合量としては、
5重量係未満では難燃性への効果が共重合しないものと
大差なく、65重量%を越えると耐冷熱衝撃性が低下す
る。難燃性にとって三酸化アンチモジの併用は効果的で
ある。
重量憾までが適轟ヤ、40重量憾を越えると耐冷熱衝撃
性が低下する。ブロム原子を含有する単量体としてはト
リプロ毫フエニ゛ル(・メタ)アクリレート(トリブロ
モフェニルアクリレート又はトリプpモフェニルメタア
クリレートを指す、以下−じ)が好適である。トリブロ
モフェニル(メタ)アクリレートの共重合量としては、
5重量係未満では難燃性への効果が共重合しないものと
大差なく、65重量%を越えると耐冷熱衝撃性が低下す
る。難燃性にとって三酸化アンチモジの併用は効果的で
ある。
しかし、感光性樹脂組成物中の三酸化アンチモンの含有
量が5重量嘩を越えると形成される半田マスクの耐熱性
等圧悪い影響が出る。
量が5重量嘩を越えると形成される半田マスクの耐熱性
等圧悪い影響が出る。
感光性樹脂組成物中の線状高分子化合物の含有量は耐熱
性等圧悪・冷熱−撃性の点から20〜75重量部の範囲
とされる。
性等圧悪・冷熱−撃性の点から20〜75重量部の範囲
とされる。
本発明の提案する感光性樹脂組成物は、活性光によシ遊
離ラジカルを生成する増感剤ま九は(および)増感剤系
を必須成分として含有する。
離ラジカルを生成する増感剤ま九は(および)増感剤系
を必須成分として含有する。
使用できる増感剤としては、置換ま九は非置換の多核キ
ノン−1例えば、2−エチルアントラ中ノン、2−1−
ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、
1.2−ベンズアントラキノン、2.3−ジフェニルア
ントラキノン等。
ノン−1例えば、2−エチルアントラ中ノン、2−1−
ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、
1.2−ベンズアントラキノン、2.3−ジフェニルア
ントラキノン等。
ジアセチルおよびベンジル等のケトアルドニル化合物、
ベンゾイン、ビバロン等のa−ケタルビニルアルコール
類およびエーテル類、a−炭化水素置換芳香族アシルイ
ン類9例えばα−フェニル−ベンゾイン、(X、a−ジ
ェトキシアセトフェノン等、ベンゾフェノン、 44’
−ビスジアルキルアミノベンゾフェノ、ン等の芳香族ケ
トン類を例示でき、これらは単独で本組合せてもよい。
ベンゾイン、ビバロン等のa−ケタルビニルアルコール
類およびエーテル類、a−炭化水素置換芳香族アシルイ
ン類9例えばα−フェニル−ベンゾイン、(X、a−ジ
ェトキシアセトフェノン等、ベンゾフェノン、 44’
−ビスジアルキルアミノベンゾフェノ、ン等の芳香族ケ
トン類を例示でき、これらは単独で本組合せてもよい。
使用できる増感剤系としては2.45− )リアリール
イミダゾールニ量体と2−メルカプトベンゾキナゾール
、ロイコクリスタルバイ丈レット、トリス(4−ジエチ
ルアミノ−2−メチルフェニル)メタン等との組合せを
例示できる。まえ、それ自体で光開始性はないが、前述
し丸物質と組合せて用いることにより全体として光開始
性能のより良好な増感剤系となるような添加剤を用いる
ことができる0例えばベンゾフェノンに対するトリエタ
ノールアミン等の三級アミンなどである。これら増感剤
または(および)増感剤系は上記の(a)ウレタンジ(
メタ)アクリレートおよび(b)!I状嵩高分子化合物
対して0.5〜10重量−含有されることが好ましい。
イミダゾールニ量体と2−メルカプトベンゾキナゾール
、ロイコクリスタルバイ丈レット、トリス(4−ジエチ
ルアミノ−2−メチルフェニル)メタン等との組合せを
例示できる。まえ、それ自体で光開始性はないが、前述
し丸物質と組合せて用いることにより全体として光開始
性能のより良好な増感剤系となるような添加剤を用いる
ことができる0例えばベンゾフェノンに対するトリエタ
ノールアミン等の三級アミンなどである。これら増感剤
または(および)増感剤系は上記の(a)ウレタンジ(
メタ)アクリレートおよび(b)!I状嵩高分子化合物
対して0.5〜10重量−含有されることが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、さらに他の光重合性不飽
和化合物を含有することも可能である。他の光重合性不
飽和化合物の例としてはトリメチ關−ルIC1バントリ
アクリレート、ヘンタエリスリトールトリアクリレート
、テトラエチレングリコールジアクリレート等を挙げ得
る。
和化合物を含有することも可能である。他の光重合性不
飽和化合物の例としてはトリメチ關−ルIC1バントリ
アクリレート、ヘンタエリスリトールトリアクリレート
、テトラエチレングリコールジアクリレート等を挙げ得
る。
また特開ws53−56018に示される光重合性不飽
和化合物をも用いることができる。しかし、これら他の
光重合性不飽和化合物の含有量は°、耐熱性と耐冷熱衝
撃性のバランスから。
和化合物をも用いることができる。しかし、これら他の
光重合性不飽和化合物の含有量は°、耐熱性と耐冷熱衝
撃性のバランスから。
上記aa)ウレタンジ(メタ)アクリレートおよび(b
)線状高分子化合物に対して20重量嗟以下であること
が好ましく、10重量−以下であることが特に好ましい
。他の光重合性不飽和化合物は、耐溶剤性、密着性など
他の特性をさらに向上する丸めに添加しうるが1分子内
にリン酸基を含む(メタ)アクリル酸エステル(アクリ
ル酸エステル又はメタアクリル酸エステルを指す、以下
同じ)は形成される半田マスクと印刷配線基板との密着
性を=さらに向上する良めに好ましい。
)線状高分子化合物に対して20重量嗟以下であること
が好ましく、10重量−以下であることが特に好ましい
。他の光重合性不飽和化合物は、耐溶剤性、密着性など
他の特性をさらに向上する丸めに添加しうるが1分子内
にリン酸基を含む(メタ)アクリル酸エステル(アクリ
ル酸エステル又はメタアクリル酸エステルを指す、以下
同じ)は形成される半田マスクと印刷配線基板との密着
性を=さらに向上する良めに好ましい。
分子内にリン酸基を含む(メタ)アクリル酸エステルと
しては日本化薬■製のKAYAMER’シリーズのPM
−1,PM−2,PA−1またはPA−2,油脂製品■
製のホスマーM”(アシッドフォスフオキシエチルメタ
クリレート)。
しては日本化薬■製のKAYAMER’シリーズのPM
−1,PM−2,PA−1またはPA−2,油脂製品■
製のホスマーM”(アシッドフォスフオキシエチルメタ
クリレート)。
*xv−CL (3−クロロ−2−アシッドフォスフ
オキシプルピルメタクリレート)等がある。
オキシプルピルメタクリレート)等がある。
これらの分子内にリン酸基を含む(メタ)アクリル酸エ
ステルの含有量は上記の神)ウレタンジ(メタ)アクリ
レートおよび(b)II状嵩高分子化合物対して0.0
1〜5重量嘔が好ましい。
ステルの含有量は上記の神)ウレタンジ(メタ)アクリ
レートおよび(b)II状嵩高分子化合物対して0.0
1〜5重量嘔が好ましい。
成分としては熱重合防止剤、染料、顔料、塗工性向上剤
等でアク、?−れらの選択は通常の感光性樹脂組成物と
同様の考慮の本とに行なわれる。
等でアク、?−れらの選択は通常の感光性樹脂組成物と
同様の考慮の本とに行なわれる。
次に本発明の提案する感光性エレメントについて以下に
詳細に説明する。
詳細に説明する。
本発明の提案する感光性エレメントは支持体フィルム上
に上記で詳細に説明した感光性樹脂組成物の層を形成す
ることによシ得られる。支持体フィルム上への感光性樹
脂組成物の層の形成は常法により行なうことができる。
に上記で詳細に説明した感光性樹脂組成物の層を形成す
ることによシ得られる。支持体フィルム上への感光性樹
脂組成物の層の形成は常法により行なうことができる。
たとえば感光性樹脂組成物をメチルエチルケトン、トル
エン、塩化メチレン等の有機溶剤に均一に溶解させ(但
し、三酸化アンチモン、顔料等は均一に分散させ)、こ
の溶液を該支持体フィルム上にナイフコート法、ロール
コート法等で塗布し。
エン、塩化メチレン等の有機溶剤に均一に溶解させ(但
し、三酸化アンチモン、顔料等は均一に分散させ)、こ
の溶液を該支持体フィルム上にナイフコート法、ロール
コート法等で塗布し。
乾燥して行なわれる。感光層中の残存溶剤量は特性保持
のために2重量参以下おさえることがハ 好ましく、1重量悌以下におさえることが特に好ましい
。
のために2重量参以下おさえることがハ 好ましく、1重量悌以下におさえることが特に好ましい
。
本発明に用いられる支持体フィルムは感光性エレメント
の製造時に必要な耐熱性、耐溶剤性を有していることが
好ましいが、テフロンフイルム、離蓋紙等の離型性フィ
ルムを一時的な支持体フィルムとじ、この上に感光性樹
脂組成物の層を形成し食後、この層の上に耐熱性あるい
は耐溶剤性の低いフィルムをラミネートし、該一時的な
支持体フィルムを剥離して耐熱性あるいは耐溶剤性の低
い支持体フィルムを有する感光性エレメントを製造する
こともできる。また支持体フィルムは活性光に対し透明
てらっても不透明であってもよい。使用できる支持体フ
ィルムの例として、ポリエステルフィルム、ポリイミド
フィルム、ポリアミドイミドフィルム。
の製造時に必要な耐熱性、耐溶剤性を有していることが
好ましいが、テフロンフイルム、離蓋紙等の離型性フィ
ルムを一時的な支持体フィルムとじ、この上に感光性樹
脂組成物の層を形成し食後、この層の上に耐熱性あるい
は耐溶剤性の低いフィルムをラミネートし、該一時的な
支持体フィルムを剥離して耐熱性あるいは耐溶剤性の低
い支持体フィルムを有する感光性エレメントを製造する
こともできる。また支持体フィルムは活性光に対し透明
てらっても不透明であってもよい。使用できる支持体フ
ィルムの例として、ポリエステルフィルム、ポリイミド
フィルム、ポリアミドイミドフィルム。
ポリグルピレンフィルム、ポリスチレンフィルム等公知
のフィルムを挙げることができる。
のフィルムを挙げることができる。
長尺の感光性エレメントを製造する場合は。
製造の最終段階で該エレメントをロール状に巻き取る。
この場合、感圧性粘着テープ等で公知の方法を用い、背
面処理し九支持体フィルムを用いることにより、ロール
状に巻き取ったときの感光性樹脂組成物の層の支持体フ
ィルム背面への転着を防ぐことが可能である。同じ目的
。
面処理し九支持体フィルムを用いることにより、ロール
状に巻き取ったときの感光性樹脂組成物の層の支持体フ
ィルム背面への転着を防ぐことが可能である。同じ目的
。
塵の付着を防ぐ目的等で該エレメントの感光性樹脂組成
物の層上に剥離可能なカバーフィルムを積層することが
好ましい。
物の層上に剥離可能なカバーフィルムを積層することが
好ましい。
剥離可能なカバーフィルムの例としては、ポリエチレン
フィルム、ポリプロピレンフィルム。
フィルム、ポリプロピレンフィルム。
テフロンフィルム、表面処理をし良紙等があシ。
カバーフィルムを剥離するときに感光性樹脂組成物の層
と支持体フィルムとの接着力よシも。
と支持体フィルムとの接着力よシも。
感光性樹脂組成物の層とカバーフィルムとの接着力がよ
り小さい本のであればよい。
り小さい本のであればよい。
本発明の感光性エレメントを構成する感光性樹脂組成物
の層の厚さは、適用する印刷配線板の導体間の高度の電
気絶縁性を保持するため。
の層の厚さは、適用する印刷配線板の導体間の高度の電
気絶縁性を保持するため。
また、形成される半田マスクパターンの解偉度の点から
20〜200 smであることが好ましい。
20〜200 smであることが好ましい。
次に9本発明の提案する感光性エレメントの使用方法の
例について説明する。
例について説明する。
本発明の提案する感光性エレメントの基板上への積層は
容易である。すなわち、カバーフィルムのない場合はそ
のまま、カバーフィルムのある場合はカバーフィルムを
剥離して又は剥離しながら、加熱・加圧積層する。加熱
・加圧積層は印刷配線板製造業者では周知の常圧ラミネ
ータを用いて行なうことができる。基板が、導体配線ラ
インの形成され九印刷配線板のように10#m以上の凹
凸のあるものの場合は、減圧下又は真空下で積層するこ
とが好ましい。
容易である。すなわち、カバーフィルムのない場合はそ
のまま、カバーフィルムのある場合はカバーフィルムを
剥離して又は剥離しながら、加熱・加圧積層する。加熱
・加圧積層は印刷配線板製造業者では周知の常圧ラミネ
ータを用いて行なうことができる。基板が、導体配線ラ
インの形成され九印刷配線板のように10#m以上の凹
凸のあるものの場合は、減圧下又は真空下で積層するこ
とが好ましい。
この丸めの装置としては特公@53−31670号又は
特公昭55−13341号に記載される積層装置等があ
る。
特公昭55−13341号に記載される積層装置等があ
る。
積層後の露光および現像処理は常法により行ない得る。
すなわち、支持体フィルムが活性光に不透明である場合
は支持体フィルムを剥離した後、高圧水銀灯、超高圧水
銀灯尋の光源を用い、ネガマスクを通して偉的に露光す
る。露光前後の50℃ないし100℃での加熱処理は基
板と感光性樹脂層との書着性を高めるために好ましい。
は支持体フィルムを剥離した後、高圧水銀灯、超高圧水
銀灯尋の光源を用い、ネガマスクを通して偉的に露光す
る。露光前後の50℃ないし100℃での加熱処理は基
板と感光性樹脂層との書着性を高めるために好ましい。
現僚液に#′i1.1.1− )リクロルエタン等の溶
剤が用いられる。不燃性溶剤の使用は安全上好まし一〇 このような方法で得られた像的な保護被膜は通常のエツ
チング、めっき等のための耐食膜となるが、現像後の8
0℃ないし200℃での加熱処理及び活性光の露光によ
り更に優れ九特性を有する保護被膜となる。現像後の加
熱処理及び活性光の露光の順序祉どちらが先でもよく。
剤が用いられる。不燃性溶剤の使用は安全上好まし一〇 このような方法で得られた像的な保護被膜は通常のエツ
チング、めっき等のための耐食膜となるが、現像後の8
0℃ないし200℃での加熱処理及び活性光の露光によ
り更に優れ九特性を有する保護被膜となる。現像後の加
熱処理及び活性光の露光の順序祉どちらが先でもよく。
またそれぞれを何度かに分けて行なってもよい。
現像後の加熱処理及び活性光の露光によって得られる保
護被膜はトリクレン、メチルエチルケトン、イソプロピ
ルアルコール、トルエン等の有機溶剤に十分耐え↓酸性
水溶液又はアルカリ水溶液にも耐える。更に、耐熱性に
優れ、耐冷熱価撃性にも優れているので長期の信頼性を
要求される半田マスク等・の永久的な保護被膜として好
適である。
護被膜はトリクレン、メチルエチルケトン、イソプロピ
ルアルコール、トルエン等の有機溶剤に十分耐え↓酸性
水溶液又はアルカリ水溶液にも耐える。更に、耐熱性に
優れ、耐冷熱価撃性にも優れているので長期の信頼性を
要求される半田マスク等・の永久的な保護被膜として好
適である。
また9本発明の提案する感光性樹脂組成物の溶液をデツ
プコート法、フルーコート法等で基板に直接塗布し、溶
剤乾燥後、直接あるいはポリエステルフィルム等の活性
光に透明なフィルムを積層後、前記の感光性エレメント
の場合と同様にして、ネガマスクを通して像的に露光し
。
プコート法、フルーコート法等で基板に直接塗布し、溶
剤乾燥後、直接あるいはポリエステルフィルム等の活性
光に透明なフィルムを積層後、前記の感光性エレメント
の場合と同様にして、ネガマスクを通して像的に露光し
。
現像し、さらに加熱処理および活性光の露光をすること
によっても前記と同様に%性の優れ九保鰻被膜が得られ
る。
によっても前記と同様に%性の優れ九保鰻被膜が得られ
る。
このように本発明になる感光性樹脂組成物ま九は感光性
エレメントを用いて形成される被膜は優れ良化学的、物
理的特性を有すること布ら。
エレメントを用いて形成される被膜は優れ良化学的、物
理的特性を有すること布ら。
印刷板材料、グラスチックレリーフ用等にも用いられる
。
。
次に本発明の実施例を示す、ここに示す実施例は本発明
の実1#Am様を示す本のであり、これKよって限定さ
れる本のではない。
の実1#Am様を示す本のであり、これKよって限定さ
れる本のではない。
実施例中及び比較例中の1部」は重量部を示す。
実施例1
a) ウレタンジアクリレート化合物の合成トルエン(
溶剤) 1200部B 1,6−ヘキサンジ
オール 472部(8醋)C2−ヒドロキシエチル
アク 928部(8当量)リレート トルエン(溶剤) 95部 孤 メタノール(停止剤)32部 上記Aを温度計、攪拌装置、冷却管、窒素ガス導入管及
び滴下器のつい友、加熱及び冷却の可能な容積的51の
反応器に加え攪拌しながら60℃に昇温した。反応温度
を55〜65℃に保ちながら約3時間で均一にBを滴下
した。B滴下後、55〜65℃の温度で約2時間保ち。
溶剤) 1200部B 1,6−ヘキサンジ
オール 472部(8醋)C2−ヒドロキシエチル
アク 928部(8当量)リレート トルエン(溶剤) 95部 孤 メタノール(停止剤)32部 上記Aを温度計、攪拌装置、冷却管、窒素ガス導入管及
び滴下器のつい友、加熱及び冷却の可能な容積的51の
反応器に加え攪拌しながら60℃に昇温した。反応温度
を55〜65℃に保ちながら約3時間で均一にBを滴下
した。B滴下後、55〜65℃の温度で約2時間保ち。
その後55〜65℃の温度でCを約3時間で均一に滴下
した。C滴下後、約5時間かけて徐々に反応温度を80
℃まで昇温した。その後温度を60℃に下げ、Dを加え
約1時間攪拌を続け′た。このようにして不揮発分70
重量−のウレタンジアクリレート化合物の溶液(1)を
得た。
した。C滴下後、約5時間かけて徐々に反応温度を80
℃まで昇温した。その後温度を60℃に下げ、Dを加え
約1時間攪拌を続け′た。このようにして不揮発分70
重量−のウレタンジアクリレート化合物の溶液(1)を
得た。
b)感光性エレメントの製造
上記方法で得られ九ウレタンジアクリレート化合物の溶
液(1170部(不揮発分としては49部)。
液(1170部(不揮発分としては49部)。
メタクリル酸メチル・メタクリル酸・テトラヒドロフル
フリルメタクリレート(78/2/20重量比)共重合
物(分子量約15万、ガラス転移温度95℃)47部。
フリルメタクリレート(78/2/20重量比)共重合
物(分子量約15万、ガラス転移温度95℃)47部。
ベンゾフェノン 5部。
p−メトキシフェノール 0.1部。
クリスタルバイオレット 0.1部。
メチルエチルケトン 80部。
上記の配合で感光性樹脂組成物の溶液を調整し、厚さ約
50μmのポリイミドフィルム上に塗布し、wlll−
t’20分、80℃で10分、105℃で5分乾燥し、
感光性樹脂組成物の層の厚さが約60μmの感光性エレ
メントを得た。
50μmのポリイミドフィルム上に塗布し、wlll−
t’20分、80℃で10分、105℃で5分乾燥し、
感光性樹脂組成物の層の厚さが約60μmの感光性エレ
メントを得た。
C) 半田マスクの形成
基材厚さ1.6閣、鋼箔厚さ18μmのガラスエポキシ
銅張積層板を偉的にエツチングすることによシ第1図に
示す鋼パターンを有する試験基板6枚を得九。1は銅パ
ターン部分、2は基材の層重部分を示し、数字の単位は
篩である。
銅張積層板を偉的にエツチングすることによシ第1図に
示す鋼パターンを有する試験基板6枚を得九。1は銅パ
ターン部分、2は基材の層重部分を示し、数字の単位は
篩である。
この試験基板上に上記b)で得喪感光性エレメントを曙
童業■製A−500型常圧ラミネータを用い、積層した
。積層後、支持体フィルムのポリイミドフィルムを剥離
し、第2図に示す試験用ネガマスクを用い■オーク製作
所製フェニックス3000型露光機を使用し+ 400
mJ /camで露光した。3はネガマスクの不透明
部分、4はネガマスクの透明部分を示し数字の単位は■
である。露光後30分放置したのち、1,1.1−トリ
フルルエタンを用いて20℃で90秒間スプレー現現像
た。現儂後80℃で1部分間加熱乾燥し、東芝電材■製
紫外線照射装置を使用し2.5J151會で照射し九。
童業■製A−500型常圧ラミネータを用い、積層した
。積層後、支持体フィルムのポリイミドフィルムを剥離
し、第2図に示す試験用ネガマスクを用い■オーク製作
所製フェニックス3000型露光機を使用し+ 400
mJ /camで露光した。3はネガマスクの不透明
部分、4はネガマスクの透明部分を示し数字の単位は■
である。露光後30分放置したのち、1,1.1−トリ
フルルエタンを用いて20℃で90秒間スプレー現現像
た。現儂後80℃で1部分間加熱乾燥し、東芝電材■製
紫外線照射装置を使用し2.5J151會で照射し九。
その後150℃で30分間加熱処理した。
このようにして保護被膜を形成し九6枚の試験基板のう
ち4枚をそれぞれ25℃のイングロパノール、トルエン
、トリクレン又は10La[酸水溶液にそれぞれ10分
間浸漬し九が形成した保唖被膜には何の変化も認められ
なかった。
ち4枚をそれぞれ25℃のイングロパノール、トルエン
、トリクレン又は10La[酸水溶液にそれぞれ10分
間浸漬し九が形成した保唖被膜には何の変化も認められ
なかった。
他の1枚について255〜265℃の半田浴に30秒間
浸漬したが保護被膜は安定でめシ。
浸漬したが保護被膜は安定でめシ。
クラックの発生および基板からの剥離は認められず、半
田マスクとして十分用い得ることがわかつ友。
田マスクとして十分用い得ることがわかつ友。
更に残り1枚の試験基板につ込て、aジン系フラックス
A−226(タムラ化研■製)を用いて、255〜26
5℃の半田浴で3秒間半田付処理をし九のち、MIL−
8TD−202E107D条件B(−65℃、30分間
=常温5分以内2125℃、30分間)、50サイクル
の冷熱衝撃試験を行なったが、保護被膜にクラックの発
生はなく長期間の信頼性が非常に優れていることがわか
った。
A−226(タムラ化研■製)を用いて、255〜26
5℃の半田浴で3秒間半田付処理をし九のち、MIL−
8TD−202E107D条件B(−65℃、30分間
=常温5分以内2125℃、30分間)、50サイクル
の冷熱衝撃試験を行なったが、保護被膜にクラックの発
生はなく長期間の信頼性が非常に優れていることがわか
った。
実施例2
a) ウレタンジアクリレート化合物の合成A LD
I−Mloo(リジ 1696部(16当量)ンジイソ
シアナート) トルエン 800部 ジ2ウリン酸ジーn−プ 1部 チルスズ(触媒) B 1,4−シ/ aへ’tfンジ 360部(5
MMa)メタノール 2−ヒドロキシエチルア 348部(3M)クリレー
ト メチルエチルケトン(溶520i1S 剤) C2−ヒドロキシエチルア 928部(8M)クリレ
ート トルエン(溶剤)80部 p−メトキシフェノール 0.3部(熱重合防止剤
) D エタノール(停止剤) 23部 実施例1−m)と同様にして上記配合でウレタンジアク
リレート化合物の溶液を得九。その後。
I−Mloo(リジ 1696部(16当量)ンジイソ
シアナート) トルエン 800部 ジ2ウリン酸ジーn−プ 1部 チルスズ(触媒) B 1,4−シ/ aへ’tfンジ 360部(5
MMa)メタノール 2−ヒドロキシエチルア 348部(3M)クリレー
ト メチルエチルケトン(溶520i1S 剤) C2−ヒドロキシエチルア 928部(8M)クリレ
ート トルエン(溶剤)80部 p−メトキシフェノール 0.3部(熱重合防止剤
) D エタノール(停止剤) 23部 実施例1−m)と同様にして上記配合でウレタンジアク
リレート化合物の溶液を得九。その後。
減圧乾燥して粘稠なウレタンジアクリレート化合物(組
を得た。
を得た。
b) 感光性エレメントの製造
上記方法で得られ九ウレタンジアクリレート化合物(組
40部。
40部。
メタクリル酸メチル・アクリル酸メチル・2−とドロ中
ジエチルメタクリレートφアクリロニトリル(80/1
015部6重量比)共重合物(分子量約lO万、ガラス
転移温度約90℃)57部。
ジエチルメタクリレートφアクリロニトリル(80/1
015部6重量比)共重合物(分子量約lO万、ガラス
転移温度約90℃)57部。
ベンゾフェノン 27部。
ミヒラーケトン 0.3部。
p−メトキシフェノール 0.1部。
ビクトリアピュアブルー O,OS部。
メチルエチルケト780部。
トルエン 40部。
第3図に示す装置を用いて上記配合の感光性樹脂組成物
の溶液10を25μm厚さのポリエチレンテレフタレー
トフィルム16上に均一に塗布し80〜100℃の熱風
対流式乾燥機11で約10分間乾燥した。感光性樹脂組
成物の層の乾燥後の厚さは約100μmでめった。感光
性樹脂組成物の層の上には、更に第3図のようにして厚
さ約25μmのポリエチレンフィルム17をカバーフィ
ルムとして張り合わせた。
の溶液10を25μm厚さのポリエチレンテレフタレー
トフィルム16上に均一に塗布し80〜100℃の熱風
対流式乾燥機11で約10分間乾燥した。感光性樹脂組
成物の層の乾燥後の厚さは約100μmでめった。感光
性樹脂組成物の層の上には、更に第3図のようにして厚
さ約25μmのポリエチレンフィルム17をカバーフィ
ルムとして張り合わせた。
第3図において、5はポリエチレンテレフタレートフィ
ルム〈シ出しロール、6,7.8はロール、9はナイフ
、12社ポリエチレンフィルム〈シ出しロール、13.
14はロール、15は感光性エレメント巻き取シロール
である。
ルム〈シ出しロール、6,7.8はロール、9はナイフ
、12社ポリエチレンフィルム〈シ出しロール、13.
14はロール、15は感光性エレメント巻き取シロール
である。
C)半田マスクの形成
上記で得られた感光性エレメントを、第1図に示す鋼パ
ターン(銅厚さ約70μm)の形成された試験用印刷配
線板(ガラスエポキシ基板。
ターン(銅厚さ約70μm)の形成された試験用印刷配
線板(ガラスエポキシ基板。
厚さ1,6■)上に日立化成工業■製真空ラミネータ(
真空度3911111(g、ラミネート温度100℃、
う2ネ一トスピード’1m1分)を用い、加熱加圧積層
した。積層後60℃で5分間加熱し。
真空度3911111(g、ラミネート温度100℃、
う2ネ一トスピード’1m1分)を用い、加熱加圧積層
した。積層後60℃で5分間加熱し。
室温で3時間放置し友後、実施例1−C)と同様に第2
図に示した試験用ネガマスクを通して156 mJ 7
cm−で露光した。
図に示した試験用ネガマスクを通して156 mJ 7
cm−で露光した。
露光後80℃で5分間加熱し、室温で20分゛関放置し
九のち、支持体フィルムを剥離し、1゜1、1− )
IJジクロルタンを用い、20℃で150秒間スプレー
現像した。
九のち、支持体フィルムを剥離し、1゜1、1− )
IJジクロルタンを用い、20℃で150秒間スプレー
現像した。
現像後80℃で10分間加熱乾燥し、 & OJ /c
tm”紫外IIs照射し、130℃で2時間加熱処理し
た。
tm”紫外IIs照射し、130℃で2時間加熱処理し
た。
このようにして保護被膜を形成した試験基板について実
施例1−c)と同様にして25℃のイソプロパツール、
トルエン、トリクレン又は10慢塩酸水溶液で10分間
浸漬試験したが。
施例1−c)と同様にして25℃のイソプロパツール、
トルエン、トリクレン又は10慢塩酸水溶液で10分間
浸漬試験したが。
形成し要保護被膜には何の変化も認められなかった。
t7t255〜265℃の半田浴で30秒間浸漬試験し
友が問題なく、耐熱性に優れてい喪。
友が問題なく、耐熱性に優れてい喪。
さらに実施例1−c)と同様の半田付処理後。
MIL−8TD−202E 107D条件B、50サ
イクルの冷熱衝撃試験でも形成され九被膜にクラックの
発生は認められなかった。
イクルの冷熱衝撃試験でも形成され九被膜にクラックの
発生は認められなかった。
実施例3
実施例2−1)で得られ九ウレタンジアクリレート化合
物(1)60部。
物(1)60部。
メタクリル酸メチル・メタクリル酸(98部2重量比)
共重合物(分子量約10万、ガラス転移温度約105℃
) 37部。
共重合物(分子量約10万、ガラス転移温度約105℃
) 37部。
ベンゾフェノン 2.7部。
ミヒラーケトン 0.3部。
p−メトキシフェノール 0.1部。
ビクトリアピュアブルー 0.02部。
メチルエチルケトン 60部。
トルエン 70部。
上記配合の感光性樹脂組成物の溶液を用い、実施例2−
b)と同様に第3図に示す装置を使用して感光性樹脂組
成物の層の厚さ約80μmの感光性エレメントを得た。
b)と同様に第3図に示す装置を使用して感光性樹脂組
成物の層の厚さ約80μmの感光性エレメントを得た。
この感光性エレメントを第1図に示す鋼パターン(鋼厚
さ約50μm)の形成された試験用印刷配線板上に実施
例2−C)と同様にして減圧下で積層した。さらに実施
例2−C)と同様の処理を行なって該試験基板上に偉的
な保1被膜を形成し九。形成された保護被膜は、25℃
のインプロパツール、トルエン、トリクレン、メチルエ
チルケトン、1〇−塩酸水溶液又は1011101l水
溶液に対する10分間の浸漬試験で何ら問題な(,25
5〜265℃半田浴に対する30秒間浸漬試験でのクラ
ックの発生、基材からの剥離はなく耐熱性に優れてい友
。さらに実施例1−C)と同様の半田付処理後、MIL
−8TD−202E107D条件B、50サイクルあ冷
熱衝撃試験でもり2ツクの発生はなかつ友。
さ約50μm)の形成された試験用印刷配線板上に実施
例2−C)と同様にして減圧下で積層した。さらに実施
例2−C)と同様の処理を行なって該試験基板上に偉的
な保1被膜を形成し九。形成された保護被膜は、25℃
のインプロパツール、トルエン、トリクレン、メチルエ
チルケトン、1〇−塩酸水溶液又は1011101l水
溶液に対する10分間の浸漬試験で何ら問題な(,25
5〜265℃半田浴に対する30秒間浸漬試験でのクラ
ックの発生、基材からの剥離はなく耐熱性に優れてい友
。さらに実施例1−C)と同様の半田付処理後、MIL
−8TD−202E107D条件B、50サイクルあ冷
熱衝撃試験でもり2ツクの発生はなかつ友。
比較例1
実施例2−b)のウレタンジアクリレート化合物(n)
にかえてトリメチロールプロパントリアクリレートを用
い、他は実施例2−b)及び実施例2−C)と同様の操
作を行なった。最終的に得られた保護被膜は、255〜
265℃の半田浴に対する30秒間の浸漬試験で一部基
板からの剥離が認められ喪。さらに実施例1−c)と同
様の半田付処理後MIL−8TD−202E 107
D条件Bでの冷熱衝撃試験で5サイクル以内にクラック
が発生し友。
にかえてトリメチロールプロパントリアクリレートを用
い、他は実施例2−b)及び実施例2−C)と同様の操
作を行なった。最終的に得られた保護被膜は、255〜
265℃の半田浴に対する30秒間の浸漬試験で一部基
板からの剥離が認められ喪。さらに実施例1−c)と同
様の半田付処理後MIL−8TD−202E 107
D条件Bでの冷熱衝撃試験で5サイクル以内にクラック
が発生し友。
比較例2
実施例3のウレタンジアクリレート化合物(If)60
部にかえて、ペンタエリスリトールトリアクリレート2
0部及びビスフェノール人のジー(3−アクリルオキシ
−2−ヒドロキシプロピル)エステル40部を用い、他
は実施例3と同様の操作を行なった。最終的に得られた
保護被膜は実施例−1−c)と同様の半田付処理後MI
L−8TD−202E 107D条件Bでの冷熱衝撃
試験で5サイクル以内にクラックが発生した。ま九、1
0チ塩酸水溶液に対する10分間浸漬試験で保護被膜の
一部に基板からの浮きが認められた。
部にかえて、ペンタエリスリトールトリアクリレート2
0部及びビスフェノール人のジー(3−アクリルオキシ
−2−ヒドロキシプロピル)エステル40部を用い、他
は実施例3と同様の操作を行なった。最終的に得られた
保護被膜は実施例−1−c)と同様の半田付処理後MI
L−8TD−202E 107D条件Bでの冷熱衝撃
試験で5サイクル以内にクラックが発生した。ま九、1
0チ塩酸水溶液に対する10分間浸漬試験で保護被膜の
一部に基板からの浮きが認められた。
比較例3
トリメチロールプロバントゝリアク17L/−ト30部
。
。
ポリプロピレングリコール(平均分子量100G)ジア
クリレート 10部。
クリレート 10部。
メタクリル酸メチル・メタクリル酸嘩テトラヒドロフル
フリルメタクリレ−)(78/2/20重量比)共重合
物(分子量約1,5万、ガラス転移温度約95℃) 5
0部。
フリルメタクリレ−)(78/2/20重量比)共重合
物(分子量約1,5万、ガラス転移温度約95℃) 5
0部。
ベンゾフェノン 2.7部。
ミヒラーケトン 0.3部。
p−メトキシフェノール α5部。
メチルエチルケトン 200部。
上記配合の感光性樹脂組成物の溶液を用い、他は実施例
3と同様の操作を行なった。最終的に得られ九保護被膜
は、耐溶剤性及び耐熱−性に優れてい喪が、実施例1−
c)と同様の半田付処理後MIL−8TD−202E
107D条件B”t’O冷熱衝撃試験でlOプサイル以
内にり2ツクが発生した。
3と同様の操作を行なった。最終的に得られ九保護被膜
は、耐溶剤性及び耐熱−性に優れてい喪が、実施例1−
c)と同様の半田付処理後MIL−8TD−202E
107D条件B”t’O冷熱衝撃試験でlOプサイル以
内にり2ツクが発生した。
実施例4
a)ウレタンジアクリレート化合物の合成。
A LDI−M100′(リジン 1696部(16
醋)ジイソシアナート) トルエン(溶剤) 1200部B トリエチ
レングリコール 100部(2′MIk)・E夏巳
!’7キシエチルア 696部(6当量)C2−1
=ドHJ? シブaビル 1040部(8fi)アク
リレート トルエン°(溶剤) 190部ヒドロキノン
0.4部 (熱重合防止剤) D メタノール(停止剤) 32部実施例1−a)
と同様にして上記配合でウレタンジアクリレート化合物
の溶液を得九。その後。
醋)ジイソシアナート) トルエン(溶剤) 1200部B トリエチ
レングリコール 100部(2′MIk)・E夏巳
!’7キシエチルア 696部(6当量)C2−1
=ドHJ? シブaビル 1040部(8fi)アク
リレート トルエン°(溶剤) 190部ヒドロキノン
0.4部 (熱重合防止剤) D メタノール(停止剤) 32部実施例1−a)
と同様にして上記配合でウレタンジアクリレート化合物
の溶液を得九。その後。
減圧乾燥して粘稠なウレタンジアクリレート化合物(釦
を得た。
を得た。
b)感光性エレメントの製造及び半田マスクの形成
上記方法で得られたウレタンジアクリレート化合物(1
)60部。
)60部。
メタクリル酸メチル・メタクリル酸・トリブロモフェニ
ルアクリレート(38/2/60重1比)共重合物(分
子量約12万、ガラス転移温度約120℃、ブロム含量
37重量係)37部。
ルアクリレート(38/2/60重1比)共重合物(分
子量約12万、ガラス転移温度約120℃、ブロム含量
37重量係)37部。
ベンゾフェノン 27部。
4.4′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン0.
3部。
3部。
2.2′−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチル
フェノール)0.3部。
フェノール)0.3部。
ビクトリアピュアブルー へ02部。
メチルエチルケトン 100部。
トルエン 50部。
上記配合の感光性樹脂組成物の溶液を用い。
他は実施例2−b)、及び実施例2−C)と同様の操作
を行なつ九。最終的に得られ九保護被膜はイソプロパツ
ール、トルエン、トリクレン、又は101G塩酸水溶液
に対する10分間浸漬試験で何ら問題なく、ま九255
〜265℃の半田浴に30秒間浸漬し九が、剥離、クラ
ックなどの変化は認められなかった。さらに実施例1−
C)と同様の半田付処理後MIL−8TD−202E1
07D条件B、50サイクルの冷熱衝撃試験でもクラッ
クの発生はなかつ喪。また1日立化成■製印刷配線基板
MCL−E−68(UL難燃グレード94V−0)の0
.8■厚基材上に上記と同様の操作で全面に保護被膜を
形成し九。
を行なつ九。最終的に得られ九保護被膜はイソプロパツ
ール、トルエン、トリクレン、又は101G塩酸水溶液
に対する10分間浸漬試験で何ら問題なく、ま九255
〜265℃の半田浴に30秒間浸漬し九が、剥離、クラ
ックなどの変化は認められなかった。さらに実施例1−
C)と同様の半田付処理後MIL−8TD−202E1
07D条件B、50サイクルの冷熱衝撃試験でもクラッ
クの発生はなかつ喪。また1日立化成■製印刷配線基板
MCL−E−68(UL難燃グレード94V−0)の0
.8■厚基材上に上記と同様の操作で全面に保護被膜を
形成し九。
このものはULの94V−1規格を満足した。
実施例5 ′
a) ウレタンジアクリレート化合物の合成A LD
I−Mloo(リジ 1696部(16当量)ンジイ
ソシアナート) トルエン(溶剤) 1000部ジラウリン酸ジ
ーn−プ 1部 チルスズ(触媒) B エチレングリコール 310部(10醋)C2
−ヒドロキシエチル 696部(611)アクリ
レート トルエン(溶剤) 150部 ヒトcI中ノン 0.3部(熱重合防止剤
) 、D メタノール(停止剤) 32部!J−施例
1−1)と同様にして上記配合でウレタンジアクリレー
ト化合物の溶液を得た。その後。
I−Mloo(リジ 1696部(16当量)ンジイ
ソシアナート) トルエン(溶剤) 1000部ジラウリン酸ジ
ーn−プ 1部 チルスズ(触媒) B エチレングリコール 310部(10醋)C2
−ヒドロキシエチル 696部(611)アクリ
レート トルエン(溶剤) 150部 ヒトcI中ノン 0.3部(熱重合防止剤
) 、D メタノール(停止剤) 32部!J−施例
1−1)と同様にして上記配合でウレタンジアクリレー
ト化合物の溶液を得た。その後。
減圧乾燥して粘稠なウレタンジアクリレート化合物(転
)を得た。
)を得た。
b)感光性エレメントの製造及び半田マ不りの形成
上記方法で得られたウレタンジアクリレート化合物(j
/) 50部。
/) 50部。
メタクリル酸メチル・アクリル酸メチルΦアクリル酸・
テトラヒドロフルフリルメタクリレート・)177”ロ
モフェニルアクIJL/−)(40/23/2/10/
25重量比)共重合物(分子量約8万、ガラス転移温度
約75℃、ブロム含量15重量慢) 47部。
テトラヒドロフルフリルメタクリレート・)177”ロ
モフェニルアクIJL/−)(40/23/2/10/
25重量比)共重合物(分子量約8万、ガラス転移温度
約75℃、ブロム含量15重量慢) 47部。
4−り四ルペン\シフエノン 6部。
ミヒラケトン 0.1部。
42′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフ
ェノール)0.5部。
ェノール)0.5部。
ビクトリアピュアーブルー 0.02部。
メチルエチルケトン 100部。
トルエン 50部。
上記配合の感光性樹脂組成物の溶液を用い。
他は実施例2−b)、及び実施例2−C)と同様の操作
を行なつ九。最終的に得られ要保護被膜はィソグロパノ
ール、トルエン、トリクレン、又は10%塩酸水溶液に
対する10分間浸漬試験で何ら問題なくまた255〜2
65℃の半田浴に30秒間浸漬したが、剥離、クラッタ
などの変化は認められなかった。さらに実施例1−C)
と同様の半田付処理後MIL−8TD−202E107
D条件B、50サイクルの冷熱衝撃試験でもクシツクの
発生はなかった。また9日立化成■製印刷配線板MCL
−B−68の1.6■厚基材上に上記と同様の操作で全
面に保護被膜を形成した。このものはULの94V−1
規格を満足した。
を行なつ九。最終的に得られ要保護被膜はィソグロパノ
ール、トルエン、トリクレン、又は10%塩酸水溶液に
対する10分間浸漬試験で何ら問題なくまた255〜2
65℃の半田浴に30秒間浸漬したが、剥離、クラッタ
などの変化は認められなかった。さらに実施例1−C)
と同様の半田付処理後MIL−8TD−202E107
D条件B、50サイクルの冷熱衝撃試験でもクシツクの
発生はなかった。また9日立化成■製印刷配線板MCL
−B−68の1.6■厚基材上に上記と同様の操作で全
面に保護被膜を形成した。このものはULの94V−1
規格を満足した。
実施例6
実施例5−艷の感光性樹脂組成物の溶液にさらに三酸化
アンチモン1部を加えた他は実施例5−b)と同様の操
作を行なった。最終的に得られた保護被膜の耐溶剤性、
耐熱性、及び耐冷熱衝撃性は実施例5−b)と同様の結
果で良好であつ九。また。
アンチモン1部を加えた他は実施例5−b)と同様の操
作を行なった。最終的に得られた保護被膜の耐溶剤性、
耐熱性、及び耐冷熱衝撃性は実施例5−b)と同様の結
果で良好であつ九。また。
日立化成■製印刷配線基板MCL−E−68のt/3m
厚基材上基材上と同様の操作で全面に保護被膜を形成し
た。このものはULの94V−0規格を満足した。
厚基材上基材上と同様の操作で全面に保護被膜を形成し
た。このものはULの94V−0規格を満足した。
実施例7
a)ウレタンジメタクリレート化合物の合成A LD
I−Mloo(リジ 1696部(16当量)ンジイ
ノシアナート) トルエン(溶剤3 1000部 ・B1,4−I
/タンジオール 270部(6醋)トルエン(溶
剤) 280部 実施例ト4)と同様にして、上記ウレタンジメタクリレ
ート化合物の溶液を得た。その後。
I−Mloo(リジ 1696部(16当量)ンジイ
ノシアナート) トルエン(溶剤3 1000部 ・B1,4−I
/タンジオール 270部(6醋)トルエン(溶
剤) 280部 実施例ト4)と同様にして、上記ウレタンジメタクリレ
ート化合物の溶液を得た。その後。
減圧乾燥して粘稠なウレタンジメタクリレート化合物(
■を得た。
■を得た。
b)感光性エレメントの製造及び半田マスクの形成
上記方法で得られたウレタンジメタクリレート化合物間
40部。
40部。
メタクリル酸メチル・メタクリル酸Φテトラヒドロフル
フリルメタクリレート・アクリロニトリル・トリブロモ
フェニルアクリレート(43/2/2015/30重量
比)共重合物(分子量約15万、ガラス転移温度約10
0″C,ブロム含量18重量嘔) 57部、。
フリルメタクリレート・アクリロニトリル・トリブロモ
フェニルアクリレート(43/2/2015/30重量
比)共重合物(分子量約15万、ガラス転移温度約10
0″C,ブロム含量18重量嘔) 57部、。
ベンゾフェノン 27部。
ミヒラケトン 0.3部。
p−メトキシフェノール 0.05部。
ビクトリアピュアブルー 0.05部。
トルエン 150部。
上記配合の感光性樹脂組成物の溶液を用い他′は実施例
2−b)及び実施例2−C)と同様の操作を行なつ九。
2−b)及び実施例2−C)と同様の操作を行なつ九。
最終的に得iれた保護被膜はイソ7’oパノール、トル
エン、トリクレン5110嘔塩酸水溶液に対する10分
間浸漬試験で何ら問題なく、マた255〜265℃の半
田浴に30秒間浸漬したが、剥離、クラックなどの変化
は認められなかつ九。さらに実施例1−C)と同様の半
田付処理後MIL−8TD−202E’107D条件B
、50サイクルの冷熱衝撃試験でもクランクの発生はな
かった。また9日立化成■製印刷配線基板MCL−E−
68の1.6■厚基材上に上記と同様の操作で全面に保
賎被膜を形成した。このものはULの94V−1規格を
満足した。
エン、トリクレン5110嘔塩酸水溶液に対する10分
間浸漬試験で何ら問題なく、マた255〜265℃の半
田浴に30秒間浸漬したが、剥離、クラックなどの変化
は認められなかつ九。さらに実施例1−C)と同様の半
田付処理後MIL−8TD−202E’107D条件B
、50サイクルの冷熱衝撃試験でもクランクの発生はな
かった。また9日立化成■製印刷配線基板MCL−E−
68の1.6■厚基材上に上記と同様の操作で全面に保
賎被膜を形成した。このものはULの94V−1規格を
満足した。
実施例8
1) ウレタンジアクリレート化合物の合成トルエン(
溶剤) 1000部ジラウリン酸ジーn−プ
1部 チルスズ(触媒) テトラエチレングリコール 291部(3醋)メチ
ルエチルケトン(溶剤) 200部C2−ヒドロキ
シエチルア 1160部(10当量)クリレート トルエン(溶剤) 200部 p−メトキシフェノール 0.2部(熱重合防止
剤) D メタノール 32部 実施例ト1)と同様にして上記配合でウレタンジアクリ
レート化合物の溶液を得た。その後。
溶剤) 1000部ジラウリン酸ジーn−プ
1部 チルスズ(触媒) テトラエチレングリコール 291部(3醋)メチ
ルエチルケトン(溶剤) 200部C2−ヒドロキ
シエチルア 1160部(10当量)クリレート トルエン(溶剤) 200部 p−メトキシフェノール 0.2部(熱重合防止
剤) D メタノール 32部 実施例ト1)と同様にして上記配合でウレタンジアクリ
レート化合物の溶液を得た。その後。
減圧乾燥して粘稠なウレタンジアクリレート化合物(■
を得九。
を得九。
b) 感光性エレメントの製造
上記方法で得られたウレタンジアクリレート(2)47
部。
部。
メタクリル酸メチル・アクリル酸メチル・アクリル!!
−テトラヒドロフルフリルメタクリレート・2−ヒドロ
中ジエチルメタクリレート・トリブロモフェニルアクリ
レ−) (43/10/21515/35重量比)共重
合物(分子量約15万、ガラス転移温度約90℃、ブロ
ム含量22重量−) 50部。
−テトラヒドロフルフリルメタクリレート・2−ヒドロ
中ジエチルメタクリレート・トリブロモフェニルアクリ
レ−) (43/10/21515/35重量比)共重
合物(分子量約15万、ガラス転移温度約90℃、ブロ
ム含量22重量−) 50部。
ベンゾフェノン 27部。
ミヒラーケトン 0.3部。
p−メトキシフェノール 0.05部。
ビクトリアピュアブルー 0.02部。
KAYAMERPA−2(El 本化薬#I) 、 9
ン酸基を含有する2価のアクリレート)0.1部。
ン酸基を含有する2価のアクリレート)0.1部。
メチルエチルケトン 50部。
トルエン 100部。
上記配合の感光性樹脂組成物の溶液を用い。
実施例2−b)と同様に第3図に示す装置を使用して感
光性樹脂組成物の層の厚さ約50μmの感光性エレメン
トを得た。
光性樹脂組成物の層の厚さ約50μmの感光性エレメン
トを得た。
C)半田マスクの形成
上記で得九感光性エレメントを、第1図に示す鋼パター
ン(鋼厚さ約184ffl)の形成され九試験用印刷配
線板上に実施例2−C)と同様にして減圧下で積層した
。積層後室温で3時間放置し、実施例1−c)と同様に
第2図に示す試験用ネガマスクを通して200 mJ/
cyy+1で露光した。
ン(鋼厚さ約184ffl)の形成され九試験用印刷配
線板上に実施例2−C)と同様にして減圧下で積層した
。積層後室温で3時間放置し、実施例1−c)と同様に
第2図に示す試験用ネガマスクを通して200 mJ/
cyy+1で露光した。
露光後80℃で5分間加熱し、室温で20分間放冷した
のち、支持体フィルムを剥離し、1,1.1−トリフル
ルエタンを用い、20℃で70秒間スプレー現像し九。
のち、支持体フィルムを剥離し、1,1.1−トリフル
ルエタンを用い、20℃で70秒間スプレー現像し九。
現像後80℃で30分間加熱乾燥し、さらに120℃で
30分間、150℃で30分間加熱し念。室温で10分
分散放冷後10 J /cns”で紫外線照射し、さら
に130℃で2時間加熱処理し良。
30分間、150℃で30分間加熱し念。室温で10分
分散放冷後10 J /cns”で紫外線照射し、さら
に130℃で2時間加熱処理し良。
このようにして保護被膜を形成し九試験基板について実
施例1−C)と同様にして、25℃のインプロパツール
、トルエン、トリクレン又ハ1〇−塩酸水溶液に対する
10分間浸漬試験をし九が、何ら問題なかった。また2
55〜265℃の半田浴に対する30秒間浸漬試験でも
保護被膜の剥離はなく耐熱性は良好で6つ九。さらに実
施例1−C)と伺様の半田付処理後MIL−8TD−2
02E 107D条件B、50サイクルの冷熱衝撃試
験でもクラックは発生しなかつえ。
施例1−C)と同様にして、25℃のインプロパツール
、トルエン、トリクレン又ハ1〇−塩酸水溶液に対する
10分間浸漬試験をし九が、何ら問題なかった。また2
55〜265℃の半田浴に対する30秒間浸漬試験でも
保護被膜の剥離はなく耐熱性は良好で6つ九。さらに実
施例1−C)と伺様の半田付処理後MIL−8TD−2
02E 107D条件B、50サイクルの冷熱衝撃試
験でもクラックは発生しなかつえ。
クロスオツド試験でも保護被膜の剥離はなく。
密着性が優れていた。また9日立化成■製印刷配線基板
MCL−E−68のo、s■厚厚材材上上記と同様の操
作で全面に保護被膜を形成し喪。
MCL−E−68のo、s■厚厚材材上上記と同様の操
作で全面に保護被膜を形成し喪。
このものはULの94V−1規格を満足し良。
比較例4
実施例1−1)のLDI−Mloo(リジンジイソシア
ナー)>1696部(16当量)にかえて。
ナー)>1696部(16当量)にかえて。
ヘキサメチレンジイソシアナート1344部(16当量
)を用い九他は実施例ト4)と同様にしてウレタンジア
クリレート化合物を合成し良。
)を用い九他は実施例ト4)と同様にしてウレタンジア
クリレート化合物を合成し良。
生成シたウレタンジアクリレート化合物■は反応溶剤の
トルエンには不溶で生成とともにワックス状に分離しえ
。得られたウレタンジアクリレート化合物(至)はメチ
ルエチルケトン、1,1.1−)リクロルエタンには難
溶で、アセトン、りooホルムには溶解した。
。
トルエンには不溶で生成とともにワックス状に分離しえ
。得られたウレタンジアクリレート化合物(至)はメチ
ルエチルケトン、1,1.1−)リクロルエタンには難
溶で、アセトン、りooホルムには溶解した。
。
得うれたウレタンジアクリレート化合物(至)50部。
実施例1−b)で用い九共重合物 47部。
ベンゾフェノン 27部。
電ヒラーケトン 0.3部。
p−メトキシフェノール O,OS部。
ビクトリアピュアブルー 0.02部。
アセトン 50部。
クロロホルム 100部。
上記配合の感光性樹脂組成物の溶液を、実施例2−b)
と同様に第3図に示す装置を使用してポリエチレンテレ
フタレートフィルム上に塗布シ、熱風乾燥したが、溶剤
乾燥と同時にウレタンジアクリレート化合物(至)と共
重合物が相分離し、好ましい感光性エレメントは得られ
なかつ九。さらに実施例2゛〜夾施例8で用いた共重合
物を使用してみ九が上記と同様に相溶性が悪く、好まし
い感光極エレメントは得られなかった。
と同様に第3図に示す装置を使用してポリエチレンテレ
フタレートフィルム上に塗布シ、熱風乾燥したが、溶剤
乾燥と同時にウレタンジアクリレート化合物(至)と共
重合物が相分離し、好ましい感光性エレメントは得られ
なかつ九。さらに実施例2゛〜夾施例8で用いた共重合
物を使用してみ九が上記と同様に相溶性が悪く、好まし
い感光極エレメントは得られなかった。
、 以上、実施例で詳細に説明し九様に本警明になる感
光性樹脂組成物を用いて得られる感光性エレメントは、
耐熱性、耐冷熱衝撃性及び耐溶剤性の優れ九保嫂被膜を
形成し、形成され要保護被膜は長期の信頼性を要求され
る半田マスクに好適である。
光性樹脂組成物を用いて得られる感光性エレメントは、
耐熱性、耐冷熱衝撃性及び耐溶剤性の優れ九保嫂被膜を
形成し、形成され要保護被膜は長期の信頼性を要求され
る半田マスクに好適である。
崗、上記は本発明になる感光性樹脂組成物および感光性
エレメントの一実施例にすぎず、当然。
エレメントの一実施例にすぎず、当然。
本発明の精神を逸脱しない範囲で種々の変形及び使用方
法が可能である。
法が可能である。
第1図は実施例で用い九試験基板の鋼パターンを示す図
、第2図は実施例で用い九試験用ネガマスクを示す図お
よび第3図は実施例で用いた感光性エレメントの製造装
置の略図である。 符号の説明 1・・・銅パターン部分 2・・・基材の露出部分 3・・・ネガマスクの不透明部分 4・・・ネガ青スクの透明部分 5・・・ポリエチレンテレフタレートフィルムくり出し
ロール 6.7.8・・・p−ル 9・・・ナイフ 10・・・感光性樹脂組成物の溶液 11・・・乾燥機 12・・・ポリエチレンフィルム<flしロール13.
14・・・ロール 15・・・感光性エレメント巻き取シロール16・・・
ポリエチレンテレフタレートフィルム17・・・ポリエ
チレンフイルム 第1図 蒐 Z 図
、第2図は実施例で用い九試験用ネガマスクを示す図お
よび第3図は実施例で用いた感光性エレメントの製造装
置の略図である。 符号の説明 1・・・銅パターン部分 2・・・基材の露出部分 3・・・ネガマスクの不透明部分 4・・・ネガ青スクの透明部分 5・・・ポリエチレンテレフタレートフィルムくり出し
ロール 6.7.8・・・p−ル 9・・・ナイフ 10・・・感光性樹脂組成物の溶液 11・・・乾燥機 12・・・ポリエチレンフィルム<flしロール13.
14・・・ロール 15・・・感光性エレメント巻き取シロール16・・・
ポリエチレンテレフタレートフィルム17・・・ポリエ
チレンフイルム 第1図 蒐 Z 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 14a) 、 (イ)リジンジイソシアナート、(ロ)
2価アルコール及び(ハ)2価アルコールのアクリル酸
モノエステル又はメタアクリル酸モノエステルを反応さ
せて得られるウレタンジアクリレート化合物又はウレタ
ンジメタクリレート化合物20〜75重量部 (b) ガラス転移温度が約40−150℃の線状^
分子化合物20〜75重量部 ならびに (C) 活性光によシ遊離2シカ卆を生成する増感剤
又は(及び)増感剤系 を含有してなる感光性樹脂組成物。 2 線状高分子化合物がビニル系共重合線状高分子化合
物である特許請求の範囲第1項記載の感光性樹脂組成物
。 龜 線状高分子化合物が40重量嗟までのブロム原子を
含有、する線状高分子化合物である特許請求の範囲第1
項又は第2項記載の感光性樹脂組成物。 表 線状^分子化合物が共重合組成として5〜65重量
嗟のトリブロモフェニルアクリレート又はトリブロモフ
ェニルメタアクリレートを含有する線状高分子化合物で
ある特許請求の範囲第1項、第2項又は第3項記載の感
光性樹脂組成物ヶ 翫 (ロ)及び(ハ)の2価アルコールが1〜23個の
炭素原子を含む2価アルコールである特許請求の範囲第
1項、第2項、第3項又祉第4項記載の感光性樹脂組成
物。 & (ロ)の2価アルコールが、1,4−ブタンジオー
ル、1,3−ブタンジオール、1.5−ベンタンジオー
ル、L6−ヘキサンジオールおよび1.4−シクロヘキ
サンジメタツールからなる群から選ばれた2価アルコー
ルである特許請求の範囲第1項、第2項、第3項、第4
項又は第5項記載の感光性樹脂組成物。 7.2価アルコールのアクリル酸モノエステル又はメタ
アクリル酸モノエステルがとドロキシエチルアクリレー
ト、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロ
ピルアクリレートおよびヒドロキシエチルメタクリレー
トからなる群から選ばれ良化合物である特許請求の範囲
第1項、第2項、第3項、第4項。 第5項又は第6項記載の感光性樹脂組成物。 & ウレタンジアクリレート化合物又はウレタンジメタ
クリレート化合物が1×10 〜t5X10−’当量/
?のアクリロイル基又はメタアクリロイル基を含むウレ
タンジアクリレート化合物又はウレタンジメタアクリレ
ート化合物である特許請求の範囲第1項、第2項、第3
項、第4項、第5項、第6項又は第7項記載の感光性樹
脂組成物。 9.5重量−までの三酸化アンチモンを含有する9%許
請求の範囲第1項、第2項、第3項。 第4項、第5項、第6項、第7項又は第8項記載の感光
性樹脂組成物。 1α(1)(イ)リジンジイソシアナート、(ロ)2価
アルコール及び(ハ)2価アルコールのアクリル酸モノ
エステル又はメタアクリル酸モノエステルを反応させて
得られるウレタンジアクリレート化合物又はウレタンジ
メタクリレート化合物20〜75重量部 (b) ガラス転移温度が約40〜150℃の線状高
分子化合物20〜75重量部 ならびK (C) 活性光により遊離ラジカルを生成する増感剤
又は(及び)増感剤系を含有する感光性樹脂組成物の層
と該層を支持する支持体フィルムからなる感光性エレメ
ント。 11、線状高分子化合物がビニル系共重合融状高分子化
合物である特許請求の範囲第10項記載の感光性エレメ
ント。 11 $I状嵩高分子化合物40重量−までのブロム
原子を含有する線状高分子化合物である特 1
許請求の範囲第10項又は第11項記載の感光性エレメ
ント。 11 線状高分子化合物が共重合組成として5〜65重
量−のトリブロモフェニルアクリレート又はトリブロモ
フェニルメタアクリレートを含有する線状高分子化合物
である特許請求の範囲第10項、第11項又は第12項
記載の感光性エレメント。 14、(ロ)及び(ハ)の2価アルコールが1〜23個
の炭素原子を含む2価アルコールである特許請求の範囲
第10項、第11項、第12項又は第13項記載の感光
性エレメント。 11 (W)の2価アルコールが、1.4−ブタンジ
オール、1,3−ブタンジオール、1.5−ベンタンジ
オール、l、6−ヘキサンジオールおよび1.4−シク
ロヘキサンジメタツールからなる群から選ばれた2価ア
ルコールである特許請求の範囲第10項、第11項、第
12項、第13項又は第14項記載の感光性エレメント
。 16、 2価アルスールのアクリル酸モノエステル又は
メタアクリル酸モノエステルがとドロキシエチルアクリ
レート、ヒドロ中ジエチルメタクリレート、ヒドロキシ
プロピルアクリレート及びヒドロキシエチルメタクリレ
ートからなる群から選ばれ良化合物である特許請求の範
囲第10項、第11項、第12項、第13項、第14項
又は第15項記載の感光性エレメント。 17、 ウレタンジアクリレート化合物又はウレタン
ジメタクリレート化合物が1×1O−1−45X10”
−” 当量/?のアクリロイル基又はメタアクリロイル
基を含む化合物である特許請求の範囲第10項、第11
項、第12項。 第13項、第14項、第15項又は第16項記載の感光
性エレメント。 1& 感光性樹脂組成物が5重量gbtでの三酸化アン
チモンを含有する特許請求の範囲第10項、第11項、
、第12項、第13項、第14項、第15項、第16項
又は第17項記載の感光性エレメント。 19、剥離可能なカバーフィルムを感光性樹脂組成物の
層上に積層してなる特許請求の範囲第10項、第11項
、第12項、第13項、第14項、第15項、第16項
、第17項又は第18項記載の感光性エレメント。 2α 感光性樹脂組成物の層が20〜200μmの厚さ
である特許請求の範囲第10項、第11項、第12項、
第13項、第14項、第15項、第16項、第17項、
第18項又は第19項記載の感光性エレメント。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17399481A JPS5875148A (ja) | 1981-10-29 | 1981-10-29 | 感光性樹脂組成物および感光性エレメント |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17399481A JPS5875148A (ja) | 1981-10-29 | 1981-10-29 | 感光性樹脂組成物および感光性エレメント |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5875148A true JPS5875148A (ja) | 1983-05-06 |
Family
ID=15970784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17399481A Pending JPS5875148A (ja) | 1981-10-29 | 1981-10-29 | 感光性樹脂組成物および感光性エレメント |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5875148A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4732788A (en) * | 1985-07-05 | 1988-03-22 | Akzo Nv | Process for coating substrate and an aqueous coating composition based on a cationic binder |
-
1981
- 1981-10-29 JP JP17399481A patent/JPS5875148A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4732788A (en) * | 1985-07-05 | 1988-03-22 | Akzo Nv | Process for coating substrate and an aqueous coating composition based on a cationic binder |
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