JPS5879246A - 金属系画像形成方法および金属系画像減力方法 - Google Patents
金属系画像形成方法および金属系画像減力方法Info
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- JPS5879246A JPS5879246A JP56177753A JP17775381A JPS5879246A JP S5879246 A JPS5879246 A JP S5879246A JP 56177753 A JP56177753 A JP 56177753A JP 17775381 A JP17775381 A JP 17775381A JP S5879246 A JPS5879246 A JP S5879246A
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- photosensitive resin
- resin layer
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属系画像の形成方法および減力方法に関する
。
。
従来、網点画像や線画に適した両会形成性材料として超
硬調のリスフィルムが使用されていたが、このリスフィ
ルムの現fIIIは伝染現像によるため、現像処理中の
画像は現像時間と共に拡大成長し、現*?瞬時に停止さ
せることが不可能であって、現像処理を打ちきった直後
にもわずかながらも現像が進行する。従って得られたi
ii*の周辺においてフリンジが表われ、理想的な画質
の画像が得ら−れないという問題があった。上記リスフ
ィルムの欠点を除去し友ものとして、支持体上に、アル
ミニウムを主体とする金属系薄層を設け、誼金属系薄層
の上に感光性樹脂層を設は友金属画僚形成性iiiig
I!形成性材料に網点原稿を用いて露光し、これを3j
1gI!すると感光性樹脂の特性に応じて原稿と明暗が
ほぼ完全に逆転した、または同一の画像が得られ、印刷
版に焼付ける原稿として用いることができる。
硬調のリスフィルムが使用されていたが、このリスフィ
ルムの現fIIIは伝染現像によるため、現像処理中の
画像は現像時間と共に拡大成長し、現*?瞬時に停止さ
せることが不可能であって、現像処理を打ちきった直後
にもわずかながらも現像が進行する。従って得られたi
ii*の周辺においてフリンジが表われ、理想的な画質
の画像が得ら−れないという問題があった。上記リスフ
ィルムの欠点を除去し友ものとして、支持体上に、アル
ミニウムを主体とする金属系薄層を設け、誼金属系薄層
の上に感光性樹脂層を設は友金属画僚形成性iiiig
I!形成性材料に網点原稿を用いて露光し、これを3j
1gI!すると感光性樹脂の特性に応じて原稿と明暗が
ほぼ完全に逆転した、または同一の画像が得られ、印刷
版に焼付ける原稿として用いることができる。
しかし倉から上記公知の金属画像成性材料を時間を要す
るために全体の現像時間が長くかがり、その丸め金属系
画像形成性材料の自動現像機における処理時間が増大し
たり、現像時間増大に伴って、自動現像機の処理槽を大
きなサイズにしなければならず、かつ高価になる等の問
題点かあり九〇本発明は以上のような事情に鑑み成され
えものであり、支持体上にアルカリ性水溶液に可溶な金
属系薄層と、感光性樹脂層とを設けた金属系画像形成性
材料を現像する際または現像処理して得られる金属系画
像を滅カする際に、金属系薄層を鉄イオン1および/ま
たは鋼イオνを含有するアルカ短縮プせることを可能と
したものである。すなわち本発明は、支持体上に、アル
カリ性水溶液に可溶な金属系薄層と、感光性樹脂層と餐
少なくとも設けた金属画像形成性材料へ活性光線により
像露光、現像して金属画像を形成する方法において、金
属系薄層は少なくとも鉄イオンおよび/または銅イオン
を含有するアルカリ性水**で3JgIIすること1*
1徴とする金属画像形成方法および支持体上に、アルカ
リ性水溶液に可溶な金属系薄層と、□感光性樹脂層とを
少なくとも設けた金属画像形成性材料へ活性光線により
像露光を施し九後、現像して得られた金属系画像を減力
す′る方法にシいて、金属系薄層を鉄イオンおよび/ま
たは鋼イオンを含゛有するアルカリ性水溶液で減力する
ことを時機とする金属画像減力方法である0 以下本発明を更に詳細に説明する。
るために全体の現像時間が長くかがり、その丸め金属系
画像形成性材料の自動現像機における処理時間が増大し
たり、現像時間増大に伴って、自動現像機の処理槽を大
きなサイズにしなければならず、かつ高価になる等の問
題点かあり九〇本発明は以上のような事情に鑑み成され
えものであり、支持体上にアルカリ性水溶液に可溶な金
属系薄層と、感光性樹脂層とを設けた金属系画像形成性
材料を現像する際または現像処理して得られる金属系画
像を滅カする際に、金属系薄層を鉄イオン1および/ま
たは鋼イオνを含有するアルカ短縮プせることを可能と
したものである。すなわち本発明は、支持体上に、アル
カリ性水溶液に可溶な金属系薄層と、感光性樹脂層と餐
少なくとも設けた金属画像形成性材料へ活性光線により
像露光、現像して金属画像を形成する方法において、金
属系薄層は少なくとも鉄イオンおよび/または銅イオン
を含有するアルカリ性水**で3JgIIすること1*
1徴とする金属画像形成方法および支持体上に、アルカ
リ性水溶液に可溶な金属系薄層と、□感光性樹脂層とを
少なくとも設けた金属画像形成性材料へ活性光線により
像露光を施し九後、現像して得られた金属系画像を減力
す′る方法にシいて、金属系薄層を鉄イオンおよび/ま
たは鋼イオンを含゛有するアルカリ性水溶液で減力する
ことを時機とする金属画像減力方法である0 以下本発明を更に詳細に説明する。
この発明における金属画像形成性材料を構成する支持体
は、ポリエステル、ポリデofレン、ぼりエチレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリ1化ビニリデン、ポリカーボネート
、酢蒙セル困−スなどの通常使用されている透明なフィ
ルムもしくはシート、またはガラス板などであプ、特に
強度、透明性、寸法安定性などの点からみてポリエチレ
ンテレフタレートフィルムが好ましい0 上記支持体上のアルカリ性水溶液に可溶な金属系薄層は
、アル1=ウム、亜鉛、鉛、スズ、ケイ票、rルマニウ
ム表どの金属ならびに上記金属の合金および藪化物、窒
化物、ホロ化物、炭化物、硫化物、塩類などの金属化合
物からなるものであり、上記金属としては、アルミニウ
ム、アルオニウム鉄合金、金属化合物としては酸化アル
ミニウムが好ましい。
は、ポリエステル、ポリデofレン、ぼりエチレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリ1化ビニリデン、ポリカーボネート
、酢蒙セル困−スなどの通常使用されている透明なフィ
ルムもしくはシート、またはガラス板などであプ、特に
強度、透明性、寸法安定性などの点からみてポリエチレ
ンテレフタレートフィルムが好ましい0 上記支持体上のアルカリ性水溶液に可溶な金属系薄層は
、アル1=ウム、亜鉛、鉛、スズ、ケイ票、rルマニウ
ム表どの金属ならびに上記金属の合金および藪化物、窒
化物、ホロ化物、炭化物、硫化物、塩類などの金属化合
物からなるものであり、上記金属としては、アルミニウ
ム、アルオニウム鉄合金、金属化合物としては酸化アル
ミニウムが好ましい。
上記金属系薄層は、上記支持体上に真空蒸着、スパッタ
リング、高周波イオンシレーティング、メッキなどの通
常の方法にて形成され、金属系薄層の厚みは50〜30
0OA%特にZoo〜1000ムの範囲が好ましい0な
お支持体上に、酸性水溶液に可溶な金属系薄層と、感光
性樹脂層とを設は友金属画倫形成性材料を現像する際に
、金属系薄層を鉄イオンおよび/lたは銅イオンを含有
する酸性水溶液で現像する場合は、蚊イオンを含有しな
い酸性水溶液により現像する場合と比較して、現像時間
がほとんど短縮されない。
リング、高周波イオンシレーティング、メッキなどの通
常の方法にて形成され、金属系薄層の厚みは50〜30
0OA%特にZoo〜1000ムの範囲が好ましい0な
お支持体上に、酸性水溶液に可溶な金属系薄層と、感光
性樹脂層とを設は友金属画倫形成性材料を現像する際に
、金属系薄層を鉄イオンおよび/lたは銅イオンを含有
する酸性水溶液で現像する場合は、蚊イオンを含有しな
い酸性水溶液により現像する場合と比較して、現像時間
がほとんど短縮されない。
本発明において金属系薄層上に形成される感光性樹脂は
、各種の溶剤に可溶力ものであり、シアー戸基、アジド
基、シンナモイル基もしくはアクリ筒イル基を有する感
光性樹脂などである・上記シア・戸基を有する感光性樹
脂としてはノざう、り樹脂のナフトキノン−1,2−ジ
アジr−5−スルホン酸エステル、スルホン化フェノー
ル1111 トN、N−ゾメチルア建ノフェニル=r−
シア・戸ニウム塩との反応生成物が例示され、アジド基
を有する感光性樹脂としては部分けん化−リ酢蒙ビニル
管無水アジドフタル蒙でエステル化し九樹脂、3−(4
−アジドフェノキシ)エタノールのスチレンマレイン酸
エステルが例示され、シンナ毫イル基含有する感光性樹
脂としてはスチレン−無水!レイン酸共重合体と桂皮酸
のエチレンオキシド付加物とのエステル化樹脂が例示さ
れる。
、各種の溶剤に可溶力ものであり、シアー戸基、アジド
基、シンナモイル基もしくはアクリ筒イル基を有する感
光性樹脂などである・上記シア・戸基を有する感光性樹
脂としてはノざう、り樹脂のナフトキノン−1,2−ジ
アジr−5−スルホン酸エステル、スルホン化フェノー
ル1111 トN、N−ゾメチルア建ノフェニル=r−
シア・戸ニウム塩との反応生成物が例示され、アジド基
を有する感光性樹脂としては部分けん化−リ酢蒙ビニル
管無水アジドフタル蒙でエステル化し九樹脂、3−(4
−アジドフェノキシ)エタノールのスチレンマレイン酸
エステルが例示され、シンナ毫イル基含有する感光性樹
脂としてはスチレン−無水!レイン酸共重合体と桂皮酸
のエチレンオキシド付加物とのエステル化樹脂が例示さ
れる。
また上記アクリ隨イ!基を有する感光性樹脂は、カルボ
キシル基、スルホン基、リン酸基、ホスホン酸基および
それらの塩などよp選ばれた一種以上の基含有する高分
子物質、光重合性不飽和化合物、光重合開始剤、フリー
ラジカル発生剤、熱安定剤、増感剤などを配合したもの
であり、上記−を 種以上の基を有する高分子物質としてはメタクリル酸メ
チル・メタクリル酸共重合体、スチレン・メ−り1Jル
酸共重合体、メタクリル醒メチル・メタクリル酸・アク
リル酸−2−エチルヘキシル共重合体表どが挙げられる
。その他の高分子物質としては、スルホン酸基含有の一
すエステルまたはfリア2ド、2−メチル−! −(N
、N−ゾメチルアζ))メチル−1,3−プロパンジオ
ール・テレツタル酸共重合体、ビスーアミノゾロビルピ
ベツVン・アジピン酸・ を−カシc1ラクタム共重合
体などが例示され、共重合性不飽和化合物としてはアン
ルキルアクリ、レート類、2−ヒドロキシアクリレート
類、アンノアルキシアクリレート類、工−テ・・ルアル
キシアクリレート類、グリシジルアクリレート類、ハロ
ゲン化アルキルアクリレート類、多官能アクリレート類
などの単量体、および側鎖にエチレン系不飽和基含有す
る高分子化合物例えばスチレン・無水iレイン酸共重合
体のアリールアルコールによる部分エステル化物、メタ
クリル酸メfk・メタクリル酸共重合体のメタクリル酸
グリシジル付加物iどがあけられ、光重合開始剤として
はペン1戸インアルキルエーテル、ペンψフェノン、々
辷ツースケ)ν、アントラキノンおよびその誘導体、ト
リアリルイー々If、ルニ量体などが例示され、フリー
ラジカル発生剤としてはr−ア之ノフェニルケトン化合
物、回イートリツェ二Allン染料、環状ジケトン化合
物、チオケトン化合物、メルカプタン化合物などが例示
され、熱安定剤としてはハイド胃キノンモノメチルエー
テル、フェノチアジン外どが例示され、増感剤としては
キサンテシ系、アクリジケシ系、シアニジ系、ピッチリ
ン系、クマりン系などの色票が例示される。
キシル基、スルホン基、リン酸基、ホスホン酸基および
それらの塩などよp選ばれた一種以上の基含有する高分
子物質、光重合性不飽和化合物、光重合開始剤、フリー
ラジカル発生剤、熱安定剤、増感剤などを配合したもの
であり、上記−を 種以上の基を有する高分子物質としてはメタクリル酸メ
チル・メタクリル酸共重合体、スチレン・メ−り1Jル
酸共重合体、メタクリル醒メチル・メタクリル酸・アク
リル酸−2−エチルヘキシル共重合体表どが挙げられる
。その他の高分子物質としては、スルホン酸基含有の一
すエステルまたはfリア2ド、2−メチル−! −(N
、N−ゾメチルアζ))メチル−1,3−プロパンジオ
ール・テレツタル酸共重合体、ビスーアミノゾロビルピ
ベツVン・アジピン酸・ を−カシc1ラクタム共重合
体などが例示され、共重合性不飽和化合物としてはアン
ルキルアクリ、レート類、2−ヒドロキシアクリレート
類、アンノアルキシアクリレート類、工−テ・・ルアル
キシアクリレート類、グリシジルアクリレート類、ハロ
ゲン化アルキルアクリレート類、多官能アクリレート類
などの単量体、および側鎖にエチレン系不飽和基含有す
る高分子化合物例えばスチレン・無水iレイン酸共重合
体のアリールアルコールによる部分エステル化物、メタ
クリル酸メfk・メタクリル酸共重合体のメタクリル酸
グリシジル付加物iどがあけられ、光重合開始剤として
はペン1戸インアルキルエーテル、ペンψフェノン、々
辷ツースケ)ν、アントラキノンおよびその誘導体、ト
リアリルイー々If、ルニ量体などが例示され、フリー
ラジカル発生剤としてはr−ア之ノフェニルケトン化合
物、回イートリツェ二Allン染料、環状ジケトン化合
物、チオケトン化合物、メルカプタン化合物などが例示
され、熱安定剤としてはハイド胃キノンモノメチルエー
テル、フェノチアジン外どが例示され、増感剤としては
キサンテシ系、アクリジケシ系、シアニジ系、ピッチリ
ン系、クマりン系などの色票が例示される。
さらに上記感光性樹脂−は、カーボンブラック、酸化鉄
、酸化チタンなどの無機−科、そのほか有機顔料、染料
などの活性光線吸収剤を添加して着色金属画像を形成し
てもより・擾お、上記カーボンブラックなどの活性光線
吸収剤を含有する場合は、感光性樹脂層の活性光m議度
は1.O〜4.0、好ましくはり、S〜3.5である・
上記着色金属imsを形成するには、カーボンブラック
を配合するのが最逼である0上記活性光ll1iI度と
け、波長350〜400nmの紫外光St主とする活性
光me、分光光度針CB立32G型)にて分光透過率を
測定し、最大分光透過率の入射光と透過光との光量比を
対数表示した値である。
、酸化チタンなどの無機−科、そのほか有機顔料、染料
などの活性光線吸収剤を添加して着色金属画像を形成し
てもより・擾お、上記カーボンブラックなどの活性光線
吸収剤を含有する場合は、感光性樹脂層の活性光m議度
は1.O〜4.0、好ましくはり、S〜3.5である・
上記着色金属imsを形成するには、カーボンブラック
を配合するのが最逼である0上記活性光ll1iI度と
け、波長350〜400nmの紫外光St主とする活性
光me、分光光度針CB立32G型)にて分光透過率を
測定し、最大分光透過率の入射光と透過光との光量比を
対数表示した値である。
上記感光性樹脂層の厚みは0.5〜10ミクロンである
ことfIf好ましい。
ことfIf好ましい。
上記金属系薄層と感光性樹脂層との間には、接・着性樹
脂と、活性光!!吸収剤および/または着色剤とからな
る活性光1IIa収層を設けて遮光性を増加させてもよ
い。
脂と、活性光!!吸収剤および/または着色剤とからな
る活性光1IIa収層を設けて遮光性を増加させてもよ
い。
ざらに金属11gI!形成性材料には、必要に応じて各
・層の間は接着層、感光性樹脂層上にカバーフィルム、
保睡層などを設けてもよい。
・層の間は接着層、感光性樹脂層上にカバーフィルム、
保睡層などを設けてもよい。
上記の金属si*形成性材料は、水銀灯、脚・−素アー
ク灯、メタルハラ:4ドツンゾ、キセノンツンゾなどの
各種光源からの活性光線で像露光されたのち、am処理
される0 1A−偉力法としては、金属系薄層を鉄イオンおよび/
または銅イオンを含有するアルカリ土類金属で現像する
が、その際感光性樹脂層と金属系薄層を同一のアルカリ
性水溶液で現像する一液現會法および感光性樹脂層を有
機溶剤または酸性水溶液またはアルカリ性水溶液で現像
し、金属系薄層をアルカリ性水溶液で現像する二液II
愉法のいずれでも行なうことができる。しかしいずれの
方法においても、金属系薄層1に現像するためのアルカ
リ性水溶液には、鉄イオンおよび/lたは鋼イオンを含
有しており、前記イオンを含有しないアルカリ性水溶液
による現像と比較して、現像時間が大幅に短縮される0 現像液中の鉄イオンおよび/ま九は銅イオン社、その価
数に関係なく有効に作用する0現IIwに添加する化合
物としては、塩化第一鉄、塩化第二鉄、リン酸第二鉄、
シュウ駿第二鉄、#IA化第−銅、塩化第二鋼などの無
水物tたは水和物、酸化第一鉄など1挙げることができ
るが、Iw鱗性の良い塩化物が好ましい。現像液中の鉄
イオンおよび/lたは銅イオンの製置は、低くすぎると
現像時間があまり短縮されず、l PPMましく Fi
s PPM以上が良好である。しかし上記の化合物を大
量に現像液に加えると、沈殿が生じ現像時間が長くなる
。したがって現*W中の鉄イオンおよび/lたは銅イオ
ンは600PPM以下好ましくは4QQPPM以下が曳
い。
ク灯、メタルハラ:4ドツンゾ、キセノンツンゾなどの
各種光源からの活性光線で像露光されたのち、am処理
される0 1A−偉力法としては、金属系薄層を鉄イオンおよび/
または銅イオンを含有するアルカリ土類金属で現像する
が、その際感光性樹脂層と金属系薄層を同一のアルカリ
性水溶液で現像する一液現會法および感光性樹脂層を有
機溶剤または酸性水溶液またはアルカリ性水溶液で現像
し、金属系薄層をアルカリ性水溶液で現像する二液II
愉法のいずれでも行なうことができる。しかしいずれの
方法においても、金属系薄層1に現像するためのアルカ
リ性水溶液には、鉄イオンおよび/lたは鋼イオンを含
有しており、前記イオンを含有しないアルカリ性水溶液
による現像と比較して、現像時間が大幅に短縮される0 現像液中の鉄イオンおよび/ま九は銅イオン社、その価
数に関係なく有効に作用する0現IIwに添加する化合
物としては、塩化第一鉄、塩化第二鉄、リン酸第二鉄、
シュウ駿第二鉄、#IA化第−銅、塩化第二鋼などの無
水物tたは水和物、酸化第一鉄など1挙げることができ
るが、Iw鱗性の良い塩化物が好ましい。現像液中の鉄
イオンおよび/lたは銅イオンの製置は、低くすぎると
現像時間があまり短縮されず、l PPMましく Fi
s PPM以上が良好である。しかし上記の化合物を大
量に現像液に加えると、沈殿が生じ現像時間が長くなる
。したがって現*W中の鉄イオンおよび/lたは銅イオ
ンは600PPM以下好ましくは4QQPPM以下が曳
い。
なお二液現像法において、感光性樹脂層がアルカリ土類
金属含有水溶液に不溶性である場合には、感光性樹脂層
を酸性水溶液や有機溶剤で現像し、つぎに金属系薄層管
アルカリ土類金属含有水溶液で現像することが望ましい
。
金属含有水溶液に不溶性である場合には、感光性樹脂層
を酸性水溶液や有機溶剤で現像し、つぎに金属系薄層管
アルカリ土類金属含有水溶液で現像することが望ましい
。
一液現像法で用いられるアルカリ性水溶液としては、鉄
イオンお工び/または銅イオンを含有する・・リチウム
、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム表どの
アルカリ金属の水酸化物および炭蒙塩の水溶液が使用さ
れ、特に好ましいのは、水酸イヒナトリウム、炭蒙ナト
リウム、水酸化カリウム、炭醗カリウムカどの水溶液で
ある。上記現像液の−は、感光性樹脂層の種類、組成お
よび現像速度によって設定されるが、通常9〜14、好
ましくFill−13Jの範囲である。さらに第三リン
酸ナトリウム、アルミン蒙ナトリウムなどのアルカリ性
を呈する熱橋塩類や、亜塩票酸ナトリウム、臭票酸カリ
ウム、日つ葉酸ナトリクムなどの酸化剤を添加すること
ができる〇 二液現像法で感光性樹脂層をアルカリ性水溶液で現像す
る場合の現gI!液としては、上記の−i[11K像法
のアルカリ性水溶液または、鉄イオンおよび/または銅
イオン金含有しないアルカリ性水**が用いられる0ま
九感光性樹脂層管有機溶剤で現像する場合の*[[とし
ては、メチルアルコール、エチルアルコール、インゾロ
fルアルコールナトのアルコール類、メチルエチルケト
ン、アセトン、ジエチルケトンなどのケトン類、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、酢酸アミルなどのエステル類、トリ
クロルエタン、塩化エチレン、テト5り0口zJンなど
のハロダン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどのエーテル類を挙げることができる。また感光
性樹脂層を酸性水溶液でamする場合の゛現像液として
社、塩酸、酢酸、蟻酸、シェラ瞭などの無横隊または有
横酸の水溶液で、−1〜5好ましくrit〜3が望まし
い。上述の如く感光性樹脂層を現像し次のち、金属系薄
層をエツチングするには、前述の一液現像法の現像液管
使用することができる0なお二液現像法において。
イオンお工び/または銅イオンを含有する・・リチウム
、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム表どの
アルカリ金属の水酸化物および炭蒙塩の水溶液が使用さ
れ、特に好ましいのは、水酸イヒナトリウム、炭蒙ナト
リウム、水酸化カリウム、炭醗カリウムカどの水溶液で
ある。上記現像液の−は、感光性樹脂層の種類、組成お
よび現像速度によって設定されるが、通常9〜14、好
ましくFill−13Jの範囲である。さらに第三リン
酸ナトリウム、アルミン蒙ナトリウムなどのアルカリ性
を呈する熱橋塩類や、亜塩票酸ナトリウム、臭票酸カリ
ウム、日つ葉酸ナトリクムなどの酸化剤を添加すること
ができる〇 二液現像法で感光性樹脂層をアルカリ性水溶液で現像す
る場合の現gI!液としては、上記の−i[11K像法
のアルカリ性水溶液または、鉄イオンおよび/または銅
イオン金含有しないアルカリ性水**が用いられる0ま
九感光性樹脂層管有機溶剤で現像する場合の*[[とし
ては、メチルアルコール、エチルアルコール、インゾロ
fルアルコールナトのアルコール類、メチルエチルケト
ン、アセトン、ジエチルケトンなどのケトン類、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、酢酸アミルなどのエステル類、トリ
クロルエタン、塩化エチレン、テト5り0口zJンなど
のハロダン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどのエーテル類を挙げることができる。また感光
性樹脂層を酸性水溶液でamする場合の゛現像液として
社、塩酸、酢酸、蟻酸、シェラ瞭などの無横隊または有
横酸の水溶液で、−1〜5好ましくrit〜3が望まし
い。上述の如く感光性樹脂層を現像し次のち、金属系薄
層をエツチングするには、前述の一液現像法の現像液管
使用することができる0なお二液現像法において。
感光性樹脂層がアルカリ土類金属含有水溶液に不溶であ
る場合は、感光性樹脂層を現像した後の金属系薄層のエ
ツチング液としては、鉄イオンおよび/または銅イオン
を含有したマグネシウム、カルシウム、バリウムなどの
アルカリ土類金属の水酸化物水溶液が挙げられる0この
現像液のPH1j。
る場合は、感光性樹脂層を現像した後の金属系薄層のエ
ツチング液としては、鉄イオンおよび/または銅イオン
を含有したマグネシウム、カルシウム、バリウムなどの
アルカリ土類金属の水酸化物水溶液が挙げられる0この
現像液のPH1j。
金属系薄層の種類、エツチングの形状および現像速度に
よって設定されるが、通常10−14、好壕・・しくけ
11−14である。この現像液にはアルさン駿カルシウ
ムなどのアルカリ土類金属の無機塩や、次亜tl[素像
カルシウム、冒つ素像マグネシウムなどの酸化剤を添加
することカーできる0金属系薄層の現gII#′i、温
度20〜50℃、好ましくは30〜40υ、現像時間2
0〜90秒、好ましくは20〜70秒の条件で行なわれ
る0この金属系薄層の処理条件は少、々過度になっても
問題はないが、処理条件が不足すると細かい画線部に7
リンゾを生じて問題となる0 上記感光性樹脂層および金属系薄層の各現像液には、上
記各層との接触を容易にするために、有機溶剤や界面活
性剤を混合して奄よい・このような有機溶剤としては、
メチルアルコール、エチルアルコール、ベンジルアルコ
ール、エチレングリコール、エチルセルソルブ、エチル
セルソルブなどのアルコール類、モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン、毫ノエチルア建ン、
ジメチルアミン、トリエチルアオン、モノエタノールア
ミン、ジエタノールア建ン、トリエタノ−ルアオンなど
のア建ン類、ア竜トン、メチルエチルケトνなどのケト
ン類などが挙けられ、これら有機溶剤°0混合量egA
stに対してIIs重量重量子以下ましくtisxt−
以下であるofた界m活性剤としては、イオン系、ノニ
オン系の市販品、スリーエム社II)などが挙けられ、
この混合量は現像液に対して5重量−以下、好ましく#
′i2重量−以下である〇 以−上かかる構成よりなる本発明方法を適用すれば、簡
単な操作で金属系薄層の現俸時間が大きく短縮され、全
体の現像時間か大幅に短縮される。
よって設定されるが、通常10−14、好壕・・しくけ
11−14である。この現像液にはアルさン駿カルシウ
ムなどのアルカリ土類金属の無機塩や、次亜tl[素像
カルシウム、冒つ素像マグネシウムなどの酸化剤を添加
することカーできる0金属系薄層の現gII#′i、温
度20〜50℃、好ましくは30〜40υ、現像時間2
0〜90秒、好ましくは20〜70秒の条件で行なわれ
る0この金属系薄層の処理条件は少、々過度になっても
問題はないが、処理条件が不足すると細かい画線部に7
リンゾを生じて問題となる0 上記感光性樹脂層および金属系薄層の各現像液には、上
記各層との接触を容易にするために、有機溶剤や界面活
性剤を混合して奄よい・このような有機溶剤としては、
メチルアルコール、エチルアルコール、ベンジルアルコ
ール、エチレングリコール、エチルセルソルブ、エチル
セルソルブなどのアルコール類、モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン、毫ノエチルア建ン、
ジメチルアミン、トリエチルアオン、モノエタノールア
ミン、ジエタノールア建ン、トリエタノ−ルアオンなど
のア建ン類、ア竜トン、メチルエチルケトνなどのケト
ン類などが挙けられ、これら有機溶剤°0混合量egA
stに対してIIs重量重量子以下ましくtisxt−
以下であるofた界m活性剤としては、イオン系、ノニ
オン系の市販品、スリーエム社II)などが挙けられ、
この混合量は現像液に対して5重量−以下、好ましく#
′i2重量−以下である〇 以−上かかる構成よりなる本発明方法を適用すれば、簡
単な操作で金属系薄層の現俸時間が大きく短縮され、全
体の現像時間か大幅に短縮される。
f&、本発明の方法に従って減力すると、短時間に良好
に減力することができる・ 以下にこの発明の実施例について説明する。
に減力することができる・ 以下にこの発明の実施例について説明する。
実施例!
(1) 金属系画像形成性材料の作成厚さ100ミク
ロンの二軸延伸ポリエチレンテレ7#L/−)フィルム
を支持体とし、その表面を洗浄(乾燥し友のち、抵抗加
熱式の真空蒸着器によりIg−’ Torr程度の真空
下で厚す500χと700′11のアルミニウムを蒸着
した。仁のアル電ニウム蒸着層には、20〜501クロ
ンのピンホールがかなり多くみられ、その光学濃度はそ
れぞれ2.70と3.81であった。なお上記光学濃度
は、大日本スクリーン社製のデンシトメータDM−25
6によって測定したもので、波長範囲280〜7QQn
m(最高感光波長40011Jn)における平均入射光
と平均透過光との光量比を求め対数表示した値であるO 上記アルζニウム蒸着層上に設ける感光性樹脂層の樹脂
溶液の組成は下記第1表のとおりである。
ロンの二軸延伸ポリエチレンテレ7#L/−)フィルム
を支持体とし、その表面を洗浄(乾燥し友のち、抵抗加
熱式の真空蒸着器によりIg−’ Torr程度の真空
下で厚す500χと700′11のアルミニウムを蒸着
した。仁のアル電ニウム蒸着層には、20〜501クロ
ンのピンホールがかなり多くみられ、その光学濃度はそ
れぞれ2.70と3.81であった。なお上記光学濃度
は、大日本スクリーン社製のデンシトメータDM−25
6によって測定したもので、波長範囲280〜7QQn
m(最高感光波長40011Jn)における平均入射光
と平均透過光との光量比を求め対数表示した値であるO 上記アルζニウム蒸着層上に設ける感光性樹脂層の樹脂
溶液の組成は下記第1表のとおりである。
第 1 表
第1表中、高分子物質はメタクリル酸メチル・メタクリ
ル酸・アクリル@−2−エチルヘキシル共重合体Cモル
−W45 : 25 : 30)であり、表中の数字は
重量部を示す。なおり−ボンブラックの分散はペデルン
ル管用いて行なう九〇前記アルiニウム蒸着層上に、第
1表の試料lと試料2のそれぞれの樹脂組成11tlJ
パースコー−によって固形分厚さ3ミクロンに塗布、乾
燥して感光性樹脂層管形成し、さらにその上面に、リバ
ースコータによってポリビニルアルコールC翫105、
Iyし社11) 7 o重量11、/’fr7BA14
G(II−工業製薬社製)3重量部、エチレングリコ−
6,ルモノデチルエーテル7重量部および水920重量
部の保護層組成液を固形分厚さ2Zクロンに塗布、乾燥
して保饅層管形成して、試料1および試料(の金属系1
ffi倫形成性材料を作製したO上記試料1は、表面は
黒色であり、裏面はアルミニウムの金属光沢を示し、表
面と裏面とは明瞭に識別され、またアルン二りム蒸着層
のピンホールは黒色の感光性樹脂層(光学濃度2.70
)によつillぺいされており、さらに試料1の光学濃
度は4以上であつて高い逍光性を有している・試料2F
i、感光性樹脂層がほぼ無色透明であってその表裏両面
はアルz% ニウムの金属光沢を有し、ま九アル2ニウ
ム蒸着層のピンホールは完全には隠ぺいされていなかっ
た。
ル酸・アクリル@−2−エチルヘキシル共重合体Cモル
−W45 : 25 : 30)であり、表中の数字は
重量部を示す。なおり−ボンブラックの分散はペデルン
ル管用いて行なう九〇前記アルiニウム蒸着層上に、第
1表の試料lと試料2のそれぞれの樹脂組成11tlJ
パースコー−によって固形分厚さ3ミクロンに塗布、乾
燥して感光性樹脂層管形成し、さらにその上面に、リバ
ースコータによってポリビニルアルコールC翫105、
Iyし社11) 7 o重量11、/’fr7BA14
G(II−工業製薬社製)3重量部、エチレングリコ−
6,ルモノデチルエーテル7重量部および水920重量
部の保護層組成液を固形分厚さ2Zクロンに塗布、乾燥
して保饅層管形成して、試料1および試料(の金属系1
ffi倫形成性材料を作製したO上記試料1は、表面は
黒色であり、裏面はアルミニウムの金属光沢を示し、表
面と裏面とは明瞭に識別され、またアルン二りム蒸着層
のピンホールは黒色の感光性樹脂層(光学濃度2.70
)によつillぺいされており、さらに試料1の光学濃
度は4以上であつて高い逍光性を有している・試料2F
i、感光性樹脂層がほぼ無色透明であってその表裏両面
はアルz% ニウムの金属光沢を有し、ま九アル2ニウ
ム蒸着層のピンホールは完全には隠ぺいされていなかっ
た。
(b) 露光および現像
前記試料1および試料!O金金属系画形形成性材料、2
1段ステップガイド、5〜essの網点rtso//i
n)細線、文字、独立点1有するテスト用ネガフィルム
を用いて、超高圧水銀灯(sKW70aa)によって試
料1ti15秒、試料!tf1秒それぞれ露光したのち
、水洗して保膜層を除去した。この露光材料を水酸化ナ
トリウム21/1.亜塩票酸ナトリウム3?/l、りン
酸三ナトリウム5?/l、前記第1表に記載の界面活性
剤0.1 tel、塩化第2銅0.7 telからなる
現像液(38℃)K浸漬したのち水洗して一部による現
IIを行な−3え。
1段ステップガイド、5〜essの網点rtso//i
n)細線、文字、独立点1有するテスト用ネガフィルム
を用いて、超高圧水銀灯(sKW70aa)によって試
料1ti15秒、試料!tf1秒それぞれ露光したのち
、水洗して保膜層を除去した。この露光材料を水酸化ナ
トリウム21/1.亜塩票酸ナトリウム3?/l、りン
酸三ナトリウム5?/l、前記第1表に記載の界面活性
剤0.1 tel、塩化第2銅0.7 telからなる
現像液(38℃)K浸漬したのち水洗して一部による現
IIを行な−3え。
試料1では32秒、試料2では49秒で蒸着アル1ニウ
ムが残ることなく良好に現像で11九〇比較例1 実施例1における試料1および試料2の金属系画像形成
性材料を、実施例1の塩化第二銅を含有しない現惨液で
実施例1と同様にして現像したところ、試料IF168
秒、試料2tf99秒を要した。
ムが残ることなく良好に現像で11九〇比較例1 実施例1における試料1および試料2の金属系画像形成
性材料を、実施例1の塩化第二銅を含有しない現惨液で
実施例1と同様にして現像したところ、試料IF168
秒、試料2tf99秒を要した。
実施例2
実施例1における試料lおよび試料2の金属系画像形成
性材料を、塩化第二銅を含有しない実施例1の現像液(
30℃)に試料1は7秒、試料2F19秒浸漬し、水洗
して感光性樹脂層の未露光部分を除去し第1現at行な
う九〇つぎに水酸化カルシウム1.5 tel 、塩化
アルミニウム0.1 tel。
性材料を、塩化第二銅を含有しない実施例1の現像液(
30℃)に試料1は7秒、試料2F19秒浸漬し、水洗
して感光性樹脂層の未露光部分を除去し第1現at行な
う九〇つぎに水酸化カルシウム1.5 tel 、塩化
アルミニウム0.1 tel。
ノくイrンEム−140(第−工業製薬社製)2めり、
トリエタノールアミンlf/l、塩化第二鉄0.’l?
/1からなる第二現像液(38℃)K浸漬し、水洗して
アルミニウム蒸着層の未露光部をエツチングして、二液
現像を行なった0試料1は51秒、試料2は74秒で良
好に現像できた。
トリエタノールアミンlf/l、塩化第二鉄0.’l?
/1からなる第二現像液(38℃)K浸漬し、水洗して
アルミニウム蒸着層の未露光部をエツチングして、二液
現像を行なった0試料1は51秒、試料2は74秒で良
好に現像できた。
前記現像処理後の試料lの黒色゛金属画像形成物は、表
面から見て黒色感光性樹脂のみであってアルミニウムの
金属光沢は全く見られず、また裏面から見てアル1=ク
ム金属光沢のみであって黒色感光性樹脂の着色は全く見
られず、感光性樹脂層とアルミニウム蒸着層のそれぞれ
のサイズは金〈一致してvh九。さらK11e後のフィ
ルムのべ一部にはピンホールがタカく、光学濃度の低下
はまく、ステップガイ「の光学濃度のガンマ値はxol
i&の超硬調1示していた0 また現像処理後の試料!OO色金属画像形成物を、メチ
レンブルーを食む水溶液で染色したのち、その表、裏m
t見たところ、感光性樹脂層とアルミニウム蒸着層のサ
イズは全く一致してい九〇比較例2 実施例IKおける試料1シよび試料2の金属系画像形成
性材料を、実施例2と同様にして感光性樹脂層の未露光
部を除去し、つぎに実施例!の塩化第二鉄を含有しない
第二現gIIIIlに浸漬してアルオニウム層のエツチ
ングを行なうたところ、試料1は重分II秒、試料鵞は
3分17秒を要した0実施例3 実施例1における厚さ500 Aのアル1=りム蒸着層
の上に、無水!レイン酸スチレン系樹脂C商品名フィト
ロン820.三菱モンサン)社11)t。
面から見て黒色感光性樹脂のみであってアルミニウムの
金属光沢は全く見られず、また裏面から見てアル1=ク
ム金属光沢のみであって黒色感光性樹脂の着色は全く見
られず、感光性樹脂層とアルミニウム蒸着層のそれぞれ
のサイズは金〈一致してvh九。さらK11e後のフィ
ルムのべ一部にはピンホールがタカく、光学濃度の低下
はまく、ステップガイ「の光学濃度のガンマ値はxol
i&の超硬調1示していた0 また現像処理後の試料!OO色金属画像形成物を、メチ
レンブルーを食む水溶液で染色したのち、その表、裏m
t見たところ、感光性樹脂層とアルミニウム蒸着層のサ
イズは全く一致してい九〇比較例2 実施例IKおける試料1シよび試料2の金属系画像形成
性材料を、実施例2と同様にして感光性樹脂層の未露光
部を除去し、つぎに実施例!の塩化第二鉄を含有しない
第二現gIIIIlに浸漬してアルオニウム層のエツチ
ングを行なうたところ、試料1は重分II秒、試料鵞は
3分17秒を要した0実施例3 実施例1における厚さ500 Aのアル1=りム蒸着層
の上に、無水!レイン酸スチレン系樹脂C商品名フィト
ロン820.三菱モンサン)社11)t。
重量部、活性光線a収剤(2,2’−4,4’テトラヒ
Vロキシベン1戸フェノン)3重量部、−料C商品冬チ
ャネルブラック、三菱化成工業社11)1重量部、染料
C商品名ニゲ四シシペースLL%BARF社@)0.1
重量部シよびメチルセロンルデtool量部からなる活
性光線吸収層組成液を胃−ル;−タにて固形分厚さ3電
クロンに塗布、乾燥した@この活性光線濃度は1.7で
あうた0この活性光線吸収層上杖、!II施例1第1表
の高分子物質45重量部、トリメチ四−ルゾ四パントリ
アクリレート36重量部、トリアリシイ5ダψ−ルニ量
体8重量部、2−メルカゾトペンψイ電ダを戸−ル3重
量部、ハイPOキノンモノメチルエーテル0.032重
量部およびメタノール368童量部からなる感光性樹脂
組成液をロールシー4にて固形分厚さ11クロンに塗布
、乾燥した0次い”で腋感光性樹脂層上に、実施例!と
同じ保護層組成液vmm形厚さ2zクセンに塗布、乾燥
して金属面11形成性材料を作製した。この金層iir
*形成性材料を実施例1と同じテスト用ネガフィルムを
用いて、超高圧水鎖灯C3鎧、100aa>Kよって1
11秒間露光したのち水洗して保護層を除去した0この
露光材料を実施何重と同様にして感光性樹脂層および活
性光線吸収層を除去し、つぎに実施例!の第2現II液
中の塩化第二鉄の代わD K11ll第二鉄(0,4f
/4 ) tm加し、他は同じ組成からなる現書液、で
アルオニウム蒸着層會エツチングしたところ49秒てあ
った0比較例3 実施例3における金属系画曹形成性材料を、比較例2と
同様にして二11!現lIt行表うたところ、アル2ニ
ウム蒸着層をエツチングするのに2分11秒を要し九〇 実施例4 実施例2で得られた試料1の黒色金属画像の網点部分t
、実施例2の第1現II箪に211秒浸漬したのち水洗
し、つぎに実施例雪の第!現愉筐に49秒浸漬し水洗し
て減力を行なった。その結果、50−の網点部分が40
91の網点に減力され、良好な網点形状であり友。
Vロキシベン1戸フェノン)3重量部、−料C商品冬チ
ャネルブラック、三菱化成工業社11)1重量部、染料
C商品名ニゲ四シシペースLL%BARF社@)0.1
重量部シよびメチルセロンルデtool量部からなる活
性光線吸収層組成液を胃−ル;−タにて固形分厚さ3電
クロンに塗布、乾燥した@この活性光線濃度は1.7で
あうた0この活性光線吸収層上杖、!II施例1第1表
の高分子物質45重量部、トリメチ四−ルゾ四パントリ
アクリレート36重量部、トリアリシイ5ダψ−ルニ量
体8重量部、2−メルカゾトペンψイ電ダを戸−ル3重
量部、ハイPOキノンモノメチルエーテル0.032重
量部およびメタノール368童量部からなる感光性樹脂
組成液をロールシー4にて固形分厚さ11クロンに塗布
、乾燥した0次い”で腋感光性樹脂層上に、実施例!と
同じ保護層組成液vmm形厚さ2zクセンに塗布、乾燥
して金属面11形成性材料を作製した。この金層iir
*形成性材料を実施例1と同じテスト用ネガフィルムを
用いて、超高圧水鎖灯C3鎧、100aa>Kよって1
11秒間露光したのち水洗して保護層を除去した0この
露光材料を実施何重と同様にして感光性樹脂層および活
性光線吸収層を除去し、つぎに実施例!の第2現II液
中の塩化第二鉄の代わD K11ll第二鉄(0,4f
/4 ) tm加し、他は同じ組成からなる現書液、で
アルオニウム蒸着層會エツチングしたところ49秒てあ
った0比較例3 実施例3における金属系画曹形成性材料を、比較例2と
同様にして二11!現lIt行表うたところ、アル2ニ
ウム蒸着層をエツチングするのに2分11秒を要し九〇 実施例4 実施例2で得られた試料1の黒色金属画像の網点部分t
、実施例2の第1現II箪に211秒浸漬したのち水洗
し、つぎに実施例雪の第!現愉筐に49秒浸漬し水洗し
て減力を行なった。その結果、50−の網点部分が40
91の網点に減力され、良好な網点形状であり友。
比較例4
実施例4と同様にして試料1の黒色金属画像の網4部分
を比較例2の第2現像液で減力を行なうたところ1、第
2現俸液の浸漬時間が49秒では、感光性樹脂層よりア
ルオニウム蒸着層のサイズの方がはるかに大きくアルオ
ニウム蒸着層のエツチングが不足していた。さらに第!
1ull液に浸漬し全体で2分4秒浸漬すると、感光性
樹脂層とアル1=ウム蒸着層のサイズが一致し、50−
の網点健′分が4091の網点に減力された。
を比較例2の第2現像液で減力を行なうたところ1、第
2現俸液の浸漬時間が49秒では、感光性樹脂層よりア
ルオニウム蒸着層のサイズの方がはるかに大きくアルオ
ニウム蒸着層のエツチングが不足していた。さらに第!
1ull液に浸漬し全体で2分4秒浸漬すると、感光性
樹脂層とアル1=ウム蒸着層のサイズが一致し、50−
の網点健′分が4091の網点に減力された。
比較例5
実施例IKおける試料1の金属系画俸形成性材料を実施
例2と同様にして第1現gIIを行ない感光性樹脂層を
除去し、つぎにりン酸r8all)ss。
例2と同様にして第1現gIIを行ない感光性樹脂層を
除去し、つぎにりン酸r8all)ss。
t、硝酸r611s)%15j’、水500fカラナ:
68二現像液(38℃)でアルミニウム蒸着層のエツチ
ングを行なったところzes1秒を要し九〇ざらに同様
にして感光性樹脂層tlk去した試料を、上述の第二現
像液に塩化第二鉄f O,43f添加し友水溶11に浸
漬してアルき二☆ム蒸着層のエツチングを行なったとこ
ろ2分29秒tllIシ、エツチング時間は短縮されな
かつ九〇 比較例6 比較例5と同様にして、感光性樹脂層を除去し、つぎに
塩化第二鉄12重量−、クエン酸1貫量−からなる水溶
液(38℃)でアル1−ラム蒸着層のエツチングを行表
うたとζろ3分Iso秒會要した0 実施例S 実施例IKおける試料lおよび試料2の金属系画曹形成
性材料を、実施例1の現会液に塩化第2鉄0.5 f/
I を添加し、実施例1と同様にしてamを行なり九と
ころ、試料1では2I秒、試料雪では45秒で良好にm
sできた。
68二現像液(38℃)でアルミニウム蒸着層のエツチ
ングを行なったところzes1秒を要し九〇ざらに同様
にして感光性樹脂層tlk去した試料を、上述の第二現
像液に塩化第二鉄f O,43f添加し友水溶11に浸
漬してアルき二☆ム蒸着層のエツチングを行なったとこ
ろ2分29秒tllIシ、エツチング時間は短縮されな
かつ九〇 比較例6 比較例5と同様にして、感光性樹脂層を除去し、つぎに
塩化第二鉄12重量−、クエン酸1貫量−からなる水溶
液(38℃)でアル1−ラム蒸着層のエツチングを行表
うたとζろ3分Iso秒會要した0 実施例S 実施例IKおける試料lおよび試料2の金属系画曹形成
性材料を、実施例1の現会液に塩化第2鉄0.5 f/
I を添加し、実施例1と同様にしてamを行なり九と
ころ、試料1では2I秒、試料雪では45秒で良好にm
sできた。
特許出願人 東洋紡績株式会社
凸版印刷株式会社
第1頁の続き
0発 明 者 田口貴雄
千葉市長沼原町942−174
0出 願 人 凸版印刷株式会社
東京都台東区台東1丁目5番1
号
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) 支持体上に、アルカリ性水溶液に可溶な金儂
して金属面gIt−形成する方法において、金属系薄層
を鉄イオンおよび/17’Eは鋼イオンを含有す(2)
感光性樹脂層に活性光m吸収剤および/または着色
剤を含有している特許請求の範囲第1項記載の金−1儂
形成方法。 (3) アルカリ性水溶液に可溶な金属系薄層と、感光
性樹脂層との間に、活性光I/s吸収層シよび/ま九は
着色層を設けた特許請求の範囲第1項記載の金H”?’
va *形成方法・ t(4) 支持体上に、アルカリ性水111f[K可
溶な金属系薄層と、感光性樹脂層とを少なくとも設けた
金^倫形成性材料へ活性光線によりam光を施した後、
現像して得られた金属系画gIIt減カする方法におい
て、金属系薄層を鉄イオンおよび/ま(5)金属系画像
の金属系薄層が、鉄イオンおよび/ま九は銅イオンを含
有するアルカリ性水溶液でll*してある特許請求の範
囲第4項記載の金属ヤtiis減力方法。 (6)感光性樹脂層に活性光線吸収剤および/1(7)
アルカリ性水溶液に可溶な金属系薄層と、感光性樹
脂層との間に、活性光線吸収層および/
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56177753A JPS5879246A (ja) | 1981-11-05 | 1981-11-05 | 金属系画像形成方法および金属系画像減力方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56177753A JPS5879246A (ja) | 1981-11-05 | 1981-11-05 | 金属系画像形成方法および金属系画像減力方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5879246A true JPS5879246A (ja) | 1983-05-13 |
Family
ID=16036518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56177753A Pending JPS5879246A (ja) | 1981-11-05 | 1981-11-05 | 金属系画像形成方法および金属系画像減力方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5879246A (ja) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS48103425A (ja) * | 1972-04-17 | 1973-12-25 | ||
| JPS4915646A (ja) * | 1972-03-30 | 1974-02-12 | ||
| JPS51135641A (en) * | 1975-05-20 | 1976-11-24 | Kimoto & Co Ltd | Photosensitive film |
| JPS5532088A (en) * | 1978-08-30 | 1980-03-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photo mask forming method |
| JPS5629230A (en) * | 1979-08-17 | 1981-03-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive image forming material and image forming method using it |
| JPS56102581A (en) * | 1980-01-17 | 1981-08-17 | Yamatoya Shokai:Kk | Etching solution of copper |
-
1981
- 1981-11-05 JP JP56177753A patent/JPS5879246A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4915646A (ja) * | 1972-03-30 | 1974-02-12 | ||
| JPS48103425A (ja) * | 1972-04-17 | 1973-12-25 | ||
| JPS51135641A (en) * | 1975-05-20 | 1976-11-24 | Kimoto & Co Ltd | Photosensitive film |
| JPS5532088A (en) * | 1978-08-30 | 1980-03-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photo mask forming method |
| JPS5629230A (en) * | 1979-08-17 | 1981-03-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive image forming material and image forming method using it |
| JPS56102581A (en) * | 1980-01-17 | 1981-08-17 | Yamatoya Shokai:Kk | Etching solution of copper |
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