JPS5880246A - カラ−受像管 - Google Patents
カラ−受像管Info
- Publication number
- JPS5880246A JPS5880246A JP56178371A JP17837181A JPS5880246A JP S5880246 A JPS5880246 A JP S5880246A JP 56178371 A JP56178371 A JP 56178371A JP 17837181 A JP17837181 A JP 17837181A JP S5880246 A JPS5880246 A JP S5880246A
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- JP
- Japan
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- oxide film
- mask
- frame
- electron gun
- color picture
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- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D275/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings
- C07D275/04—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D275/06—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems with hetero atoms directly attached to the ring sulfur atom
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
- H01J29/07—Shadow masks for colour television tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/07—Shadow masks
- H01J2229/0727—Aperture plate
- H01J2229/0733—Aperture plate characterised by the material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/07—Shadow masks
- H01J2229/0727—Aperture plate
- H01J2229/0777—Coatings
- H01J2229/0783—Coatings improving thermal radiation properties
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明はカラー受像管に関し、特にカラー受像管のFe
f主成分とする内装品のシャドウマスク、マスククレ
ーム及びインナーシールドに関すルモのである・ 発明の技術的背景と関II雇 カラー受像管の概略構成を第1−に示す、ガラス外囲器
(11の一端部のネック部(2)−二は例えはインツイ
ン配列の1歇電子銃(3)が配設され、一方この電子銃
(3)に対向する他端部のフェース部(4)には多数の
赤、實及び縁1;区分された螢光鈎(5)が配設されて
いる。そしてこの螢光自(5) C近接して多数のビー
^開孔を有するシャFりマスク(6)が配設される。7
ヤドクマスク46)は係止具(8)を介してフレーム(
7)に取り付けられ、ま・た7ル−ム())には電子銃
(31側に地磁気を層数するためのインナーシールド(
9)が取り付けられている。このような構成のカラー受
像管に於て、電子銃(3)から射出された電子ビーム甑
υは集束、加速され乍ら偏向装置i紳によって偏向され
Vヤドクマスク(6)の開孔を通って螢−yt向(5)
仁射央しカッーWk饋を再現する0以上のカラー受像管
の構成IN雪のうち、シャドウマスク+6)、7レー^
(7J jtびインt−シールド(9)の16を主X分
とすみ部材の表向は管へめ組込1tJc酸化展を施して
おく必要がある。これは各部材t−所定の形状に形成し
た後管組込迄の間の発錆の防止と管組込後を主成分とす
る三つの部材の(jlれかは電入な支障のない幽り酸化
膜’tkさないこともある。この酸化膜はプレス成形後
に酸素を含む雰囲気中で熱処理することによって形成さ
れるが、その表−色は宵黒色を呈することが多いため黒
化膜と称されることもある。ところで上記3つのS材の
うち、7ヤドウマスクは100声m〜200.am (
B厚さの薄板にμオーダーの多数のビー^開孔をエツチ
ングにより穿孔しなければならず、またと−AN孔形成
後感二外囲器の7工−ス円面形状に適応する1Ml′i
k状にプレス成形しなければならないので、素材自体か
らその性*F!向上のために徊々の試みが為されている
。
f主成分とする内装品のシャドウマスク、マスククレ
ーム及びインナーシールドに関すルモのである・ 発明の技術的背景と関II雇 カラー受像管の概略構成を第1−に示す、ガラス外囲器
(11の一端部のネック部(2)−二は例えはインツイ
ン配列の1歇電子銃(3)が配設され、一方この電子銃
(3)に対向する他端部のフェース部(4)には多数の
赤、實及び縁1;区分された螢光鈎(5)が配設されて
いる。そしてこの螢光自(5) C近接して多数のビー
^開孔を有するシャFりマスク(6)が配設される。7
ヤドクマスク46)は係止具(8)を介してフレーム(
7)に取り付けられ、ま・た7ル−ム())には電子銃
(31側に地磁気を層数するためのインナーシールド(
9)が取り付けられている。このような構成のカラー受
像管に於て、電子銃(3)から射出された電子ビーム甑
υは集束、加速され乍ら偏向装置i紳によって偏向され
Vヤドクマスク(6)の開孔を通って螢−yt向(5)
仁射央しカッーWk饋を再現する0以上のカラー受像管
の構成IN雪のうち、シャドウマスク+6)、7レー^
(7J jtびインt−シールド(9)の16を主X分
とすみ部材の表向は管へめ組込1tJc酸化展を施して
おく必要がある。これは各部材t−所定の形状に形成し
た後管組込迄の間の発錆の防止と管組込後を主成分とす
る三つの部材の(jlれかは電入な支障のない幽り酸化
膜’tkさないこともある。この酸化膜はプレス成形後
に酸素を含む雰囲気中で熱処理することによって形成さ
れるが、その表−色は宵黒色を呈することが多いため黒
化膜と称されることもある。ところで上記3つのS材の
うち、7ヤドウマスクは100声m〜200.am (
B厚さの薄板にμオーダーの多数のビー^開孔をエツチ
ングにより穿孔しなければならず、またと−AN孔形成
後感二外囲器の7工−ス円面形状に適応する1Ml′i
k状にプレス成形しなければならないので、素材自体か
らその性*F!向上のために徊々の試みが為されている
。
例えは特公昭51−12391号公報及び特公昭54−
25492号公報の炭素含有1を低減し℃エツチングの
゛央起物によるハレー7Wy防止、特電FkE54−2
6978号公報の低炭素ムtI?ルド鋼で上記ハレー7
Nントプレス成形でのストレッチャーストレイン防止、
特公昭55−243i! 27号公報及び持分56−9
03号公報の結晶瀧を微細化して熱変形防止、特、l1
a8as−62123号公111Jun1mN 5B−
138027のムシキルド鋼やボay添加ムLキルド鋼
によるエツチング性向上とストレッチャーストレイン防
止、特開昭55−692311号公報の81とMn@加
によるプレス成形前の焼純とレベリングの工程省略等々
多くの材料、工8I≦二関する提案がなされている。し
かし乍ら之等の提案は何れも設計通りの寸法のシャドウ
マスクを如何にして効率よく線速するかを目的としたも
ので酸化膜につい工は歳これていない、しかるに之等ν
・tf:成分とする材料の表向に施される酸化J111
は密着性が暴くはがれ易いためと−^細孔の孔詰まり中
電極間スパーク等の管機能に1大な支障tA埋すl11
1jllを有している。特開@5M−62123号会報
等に示薯れているように粗鋼主意コス)の低減化のため
連続鋳造鋼が一般化し、高蟲、質のムシキルド鋼が容易
仁入手でき、エツチング性、プレス成形性は格段に向上
したが、−万ムtが含有されているため酸化膜はよりj
ll!落し易くなる傾向にあり、酸化膜生成条件は#常
a;厳しいコントロールが必要である。之等敵化j[6
:関しては、特開昭54−8963号公報の累材庄成時
の脱酸剤として添加され不1’j jll釣に残存する
81量を003s以下に低減してWs1r性【向上させ
るもの、特開昭55−90033号公報の酸化前に塩素
イオンを介在させてVB署性を同上さセるもの等の試み
があるが、11m1t制御するための条11Fi必要と
したり、また両者とも酸化線の密雲性の同上は鼠められ
るものの未だ充分とは貰えないものであった・発明の目
的 本発明はカラー受像管に円skされるシャドウマスク、
マスクフレーム及びインナー7−ルFのν・を主成分と
するS材の少(とも一つに施される酸化膜の密雲性を向
上せしめ、WR化展の脱落【防止することを目的とする
ものである。
25492号公報の炭素含有1を低減し℃エツチングの
゛央起物によるハレー7Wy防止、特電FkE54−2
6978号公報の低炭素ムtI?ルド鋼で上記ハレー7
Nントプレス成形でのストレッチャーストレイン防止、
特公昭55−243i! 27号公報及び持分56−9
03号公報の結晶瀧を微細化して熱変形防止、特、l1
a8as−62123号公111Jun1mN 5B−
138027のムシキルド鋼やボay添加ムLキルド鋼
によるエツチング性向上とストレッチャーストレイン防
止、特開昭55−692311号公報の81とMn@加
によるプレス成形前の焼純とレベリングの工程省略等々
多くの材料、工8I≦二関する提案がなされている。し
かし乍ら之等の提案は何れも設計通りの寸法のシャドウ
マスクを如何にして効率よく線速するかを目的としたも
ので酸化膜につい工は歳これていない、しかるに之等ν
・tf:成分とする材料の表向に施される酸化J111
は密着性が暴くはがれ易いためと−^細孔の孔詰まり中
電極間スパーク等の管機能に1大な支障tA埋すl11
1jllを有している。特開@5M−62123号会報
等に示薯れているように粗鋼主意コス)の低減化のため
連続鋳造鋼が一般化し、高蟲、質のムシキルド鋼が容易
仁入手でき、エツチング性、プレス成形性は格段に向上
したが、−万ムtが含有されているため酸化膜はよりj
ll!落し易くなる傾向にあり、酸化膜生成条件は#常
a;厳しいコントロールが必要である。之等敵化j[6
:関しては、特開昭54−8963号公報の累材庄成時
の脱酸剤として添加され不1’j jll釣に残存する
81量を003s以下に低減してWs1r性【向上させ
るもの、特開昭55−90033号公報の酸化前に塩素
イオンを介在させてVB署性を同上さセるもの等の試み
があるが、11m1t制御するための条11Fi必要と
したり、また両者とも酸化線の密雲性の同上は鼠められ
るものの未だ充分とは貰えないものであった・発明の目
的 本発明はカラー受像管に円skされるシャドウマスク、
マスクフレーム及びインナー7−ルFのν・を主成分と
するS材の少(とも一つに施される酸化膜の密雲性を向
上せしめ、WR化展の脱落【防止することを目的とする
ものである。
発明のlc賛
本宛期はカラー51−g11#I11に内装された7ヤ
ドウ!′ス!、マスク7レー^及びインナー7−ルドの
1・【主成分とし、その表1ilI:酸化膜が設けられ
た部材が、少(とも81、ムj、Or、但しor≧−H
(At+81)の組成を有することによって酸化膜の密
雲性を同上し酸化−の脱落を防止したものである。
ドウ!′ス!、マスク7レー^及びインナー7−ルドの
1・【主成分とし、その表1ilI:酸化膜が設けられ
た部材が、少(とも81、ムj、Or、但しor≧−H
(At+81)の組成を有することによって酸化膜の密
雲性を同上し酸化−の脱落を防止したものである。
発胡の実施例
本発明のカラー受像管の配1411威自体は第1図に示
すものと同一であるので詳細な説明は省略する。
すものと同一であるので詳細な説明は省略する。
以下鑑:本発明の実施例として、カラー受像管に内装さ
れ為ンヤドウマスク、マスクフレーム及びインナー7−
ルドの1・を主成分とすゐ部材のうちシャドウマスクを
例1:とって詳細に説明する。この実施例に用いたりヤ
ドクマスクの素材自体はエツチング性がよくストレッチ
ャーストレインの発生し難いものを用いた。mち、連続
鋳造法により素材中の不純物中非拳属介在物を極めて少
なくしエツチング性を向上させ、またムZtS加するこ
とにより素材中の窒JIBをム71として同定し、さら
には脱炭アニールにより炭素を低減して素材の降伏点伸
びを消失させ、ストレッチャーストレインの発生tU止
したものt用いた。
れ為ンヤドウマスク、マスクフレーム及びインナー7−
ルドの1・を主成分とすゐ部材のうちシャドウマスクを
例1:とって詳細に説明する。この実施例に用いたりヤ
ドクマスクの素材自体はエツチング性がよくストレッチ
ャーストレインの発生し難いものを用いた。mち、連続
鋳造法により素材中の不純物中非拳属介在物を極めて少
なくしエツチング性を向上させ、またムZtS加するこ
とにより素材中の窒JIBをム71として同定し、さら
には脱炭アニールにより炭素を低減して素材の降伏点伸
びを消失させ、ストレッチャーストレインの発生tU止
したものt用いた。
次にこの素材はif!21V4二示すよう6二、−に感
光剤塗布、1B1:無光、101 @現像、(1)I:
バーニング、(ICI : xツチングの各工程を経て
多数のビーム曲孔が設けられたフラットマスクが得られ
る。そしてフラットマスクの洗浄乾燥及び剪11r飯、
171 : 700℃独り後での脱炭焼鈍、lGlニレ
ベリング、III ニブレス成形による曲−状マスク形
成、(、T1:600℃創振でのH,O又は黴蓋のOt
t−含むcot i’t’lN気中での酸化層形成
工程を経て管内感二組み込まれる。このklNはムを含
;1iTiilLが多いために酸化層がより脱スク中の
各掘組成によっては必らずしもムを含有とめた。
光剤塗布、1B1:無光、101 @現像、(1)I:
バーニング、(ICI : xツチングの各工程を経て
多数のビーム曲孔が設けられたフラットマスクが得られ
る。そしてフラットマスクの洗浄乾燥及び剪11r飯、
171 : 700℃独り後での脱炭焼鈍、lGlニレ
ベリング、III ニブレス成形による曲−状マスク形
成、(、T1:600℃創振でのH,O又は黴蓋のOt
t−含むcot i’t’lN気中での酸化層形成
工程を経て管内感二組み込まれる。このklNはムを含
;1iTiilLが多いために酸化層がより脱スク中の
各掘組成によっては必らずしもムを含有とめた。
第1表にその試験例を示す。
81m 各種組成による酸化igtw着性の試験例第
1表に於て、酸化層の密着性はシヤドウマスク[90度
折り自げて、折り―げ鄭にセロテープを接著し、このセ
ロテープtはがす強制テストの結果を目安とした。第1
表に示す試験例の結果は、試験例)flはl15mの写
真からも明らかなように酸化膜の脱Sは殆んど認められ
ず密着性は良好であった。一方試験例(ハ)はlI41
1の写真からも明らかなように酸化a肌Iラツタが認め
られ密着性は良(ない。
1表に於て、酸化層の密着性はシヤドウマスク[90度
折り自げて、折り―げ鄭にセロテープを接著し、このセ
ロテープtはがす強制テストの結果を目安とした。第1
表に示す試験例の結果は、試験例)flはl15mの写
真からも明らかなように酸化膜の脱Sは殆んど認められ
ず密着性は良好であった。一方試験例(ハ)はlI41
1の写真からも明らかなように酸化a肌Iラツタが認め
られ密着性は良(ない。
次に上記試験例のI)及びiについて、イオンマイクロ
アナライず−によるVヤドクマスクの表向から#自#l
さ万両への各種麹酸の分析を行った。1ss図出来なか
った。しかし乍らCrと(ムA−H1i)の比ζ;於て
相関関係を見出すことができた。即ち、第7図は横軸に
(ムz十s1)量を、縦軸に0rilをとって第2表の
酸化膜の密着性上水すもので、−中O印は嵐好、Δ印は
良、但し一部腕洛有、Xは不良を夫々示す、第7図から
少(とも酸化膜の密着性に向上が認められるのは、I[
1lanで示す、Or≧1(ムt十81)の領域である
ことがわかる。さら1;好適なのはcr≧(ムthat
)の領域で、この領域であれば酸化膜の密着性は良好で
通常の操作取扱いによる限りは酸化膜脱落の恐れは全く
ない。
アナライず−によるVヤドクマスクの表向から#自#l
さ万両への各種麹酸の分析を行った。1ss図出来なか
った。しかし乍らCrと(ムA−H1i)の比ζ;於て
相関関係を見出すことができた。即ち、第7図は横軸に
(ムz十s1)量を、縦軸に0rilをとって第2表の
酸化膜の密着性上水すもので、−中O印は嵐好、Δ印は
良、但し一部腕洛有、Xは不良を夫々示す、第7図から
少(とも酸化膜の密着性に向上が認められるのは、I[
1lanで示す、Or≧1(ムt十81)の領域である
ことがわかる。さら1;好適なのはcr≧(ムthat
)の領域で、この領域であれば酸化膜の密着性は良好で
通常の操作取扱いによる限りは酸化膜脱落の恐れは全く
ない。
さらに素材生成時の脱酸剤として添加され不可避的に残
存する81量d;ついても、従来のように81量の増加
により!cg材が必1以上に硬化する現象は上記条件と
することで、例えば、第2表試験@1ト1で実質的に支
障を及ぼさないことがiimされた。これはOrがクロ
ムカーバイトとしてCを固定しマスク成形性を向上する
機能が寄与しているものと考えられる。
存する81量d;ついても、従来のように81量の増加
により!cg材が必1以上に硬化する現象は上記条件と
することで、例えば、第2表試験@1ト1で実質的に支
障を及ぼさないことがiimされた。これはOrがクロ
ムカーバイトとしてCを固定しマスク成形性を向上する
機能が寄与しているものと考えられる。
発明の効果
以上のように本発明C;よればカラー受源管に内装され
る1・を生成分としその表向に酸化膜が形成される、7
ヤFlスク、マスクフレーム及びインナーシールドのS
材中に含まれる元素のうち% or%ムL及びIiにつ
いて、 Orとカht+ts1)とすることによって酸
化膜の密着at格段に同上させ酸化膜の脱at−防止す
ることができ、その酸化膜形成条件も厳格に制御する必
要はなく極めて安定なものとなる。
る1・を生成分としその表向に酸化膜が形成される、7
ヤFlスク、マスクフレーム及びインナーシールドのS
材中に含まれる元素のうち% or%ムL及びIiにつ
いて、 Orとカht+ts1)とすることによって酸
化膜の密着at格段に同上させ酸化膜の脱at−防止す
ることができ、その酸化膜形成条件も厳格に制御する必
要はなく極めて安定なものとなる。
またOr>’−(At+#i)の範S内に於て、ムtt
過罵3 幽量増加させることも可能である。このことは連゛続鋳
造法により素材中の不純物や非金属介在物を極めて少く
した上に、ムtII加により素材中の電禦會ムtyi
として固定し、さらには脱炭アニールにより炭素を低
減して素材の降伏点伸びを消失させストレッチャースト
レインの発生を防止しエツチング懐の喪好な素材を遍択
できることを意味している・さらにOr≧itムm1l
li)の範8P1櫨二於て、81が相轟量増加しても素
材の機能−;殆んど影醤を与え、ることがない。このこ
とは素材生成時の脱#1剤として添加され不可避的に残
存する81量を意図的に低減させ規定値を越えないよう
にする為のめんどうな操作をする必要がないことを意味
している。
過罵3 幽量増加させることも可能である。このことは連゛続鋳
造法により素材中の不純物や非金属介在物を極めて少く
した上に、ムtII加により素材中の電禦會ムtyi
として固定し、さらには脱炭アニールにより炭素を低
減して素材の降伏点伸びを消失させストレッチャースト
レインの発生を防止しエツチング懐の喪好な素材を遍択
できることを意味している・さらにOr≧itムm1l
li)の範8P1櫨二於て、81が相轟量増加しても素
材の機能−;殆んど影醤を与え、ることがない。このこ
とは素材生成時の脱#1剤として添加され不可避的に残
存する81量を意図的に低減させ規定値を越えないよう
にする為のめんどうな操作をする必要がないことを意味
している。
第1図はカラー受像管の概略構成を示す一部切欠は断i
i1図、IJ2図はシャドウマスクの成形工程6図はン
ヤドクマスク断iio*さ方向の各種元素含有量を示す
特性模式図、187図はOrと(ムt+81)の含有量
の関係を示す特性因である。 (11・・・外吐器 (2)・・・ネック部(
3)・・・IIIE 子M (4)・・・フ
ェース部(5)・、・螢ftff1+ (6
)・・・ンヤドクマスク17)・・・マスクフレーム
(8〕・・・係止具(9)・・・インナーノーヘト a
O・・・偏向装置、ttn・・・電子ビーム 第1図 第2図 第5図 第 6 図
i1図、IJ2図はシャドウマスクの成形工程6図はン
ヤドクマスク断iio*さ方向の各種元素含有量を示す
特性模式図、187図はOrと(ムt+81)の含有量
の関係を示す特性因である。 (11・・・外吐器 (2)・・・ネック部(
3)・・・IIIE 子M (4)・・・フ
ェース部(5)・、・螢ftff1+ (6
)・・・ンヤドクマスク17)・・・マスクフレーム
(8〕・・・係止具(9)・・・インナーノーヘト a
O・・・偏向装置、ttn・・・電子ビーム 第1図 第2図 第5図 第 6 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 外囲器内の一端−6=設けられた電子銃とs ijj記
電子銃感二対向する他端部に設けられた螢光自と、前記
螢党面に近接して設けられフレームに取り付けられた多
数の開孔を有するンヤドウマスクと、前記7ヤドウマス
クに職り付けられた1ンナー7一ルドとを具備するカラ
ー受像管6;おいて、前記フレーム、7ヤドウマスク及
びインナー7−ルドのうち1eを主成分としその表向に
酸化膜が設けられた部材が、少くとも81、ムj、Or
、但しOr〉”=3 (ムt+81)なる組成を含むことを特徴とするカラー
受像管。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56178371A JPS5880246A (ja) | 1981-11-09 | 1981-11-09 | カラ−受像管 |
| US06/438,721 US4558252A (en) | 1981-11-09 | 1982-11-03 | Color cathode ray tube with frame, mask or shield having an oxidized layer |
| DE8282305925T DE3276554D1 (en) | 1981-11-09 | 1982-11-08 | Metal component for a colour cathode ray tube |
| KR8205037A KR860000937B1 (ko) | 1981-11-09 | 1982-11-08 | 컬러 수상관 |
| EP82305925A EP0079738B1 (en) | 1981-11-09 | 1982-11-08 | Metal component for a colour cathode ray tube |
| SG33490A SG33490G (en) | 1981-11-09 | 1990-05-10 | Metal component for a colour cathode ray tube |
| HK801/90A HK80190A (en) | 1981-11-09 | 1990-10-03 | Metal component for a colour cathode ray tube |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56178371A JPS5880246A (ja) | 1981-11-09 | 1981-11-09 | カラ−受像管 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5880246A true JPS5880246A (ja) | 1983-05-14 |
| JPS6367739B2 JPS6367739B2 (ja) | 1988-12-27 |
Family
ID=16047318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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- 1990-10-03 HK HK801/90A patent/HK80190A/en not_active IP Right Cessation
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