JPS6367739B2 - - Google Patents
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- JPS6367739B2 JPS6367739B2 JP56178371A JP17837181A JPS6367739B2 JP S6367739 B2 JPS6367739 B2 JP S6367739B2 JP 56178371 A JP56178371 A JP 56178371A JP 17837181 A JP17837181 A JP 17837181A JP S6367739 B2 JPS6367739 B2 JP S6367739B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide film
- shadow mask
- adhesion
- picture tube
- color picture
- Prior art date
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D275/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings
- C07D275/04—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D275/06—Heterocyclic compounds containing 1,2-thiazole or hydrogenated 1,2-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems with hetero atoms directly attached to the ring sulfur atom
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
- H01J29/07—Shadow masks for colour television tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/07—Shadow masks
- H01J2229/0727—Aperture plate
- H01J2229/0733—Aperture plate characterised by the material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/07—Shadow masks
- H01J2229/0727—Aperture plate
- H01J2229/0777—Coatings
- H01J2229/0783—Coatings improving thermal radiation properties
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Description
発明の技術分野
本発明はカラー受像管に関し、特にカラー受像
管のFeを主成分とする内装品のシヤドウマスク、
マスクフレーム及びインナーシールドに関するも
のである。 発明の技術的背景と問題点 カラー受像管の概略構成を第１図に示す。ガラ
ス外囲器１の一端部のネツク部２には例えばイン
ライン配列の複数電子銃３が配設され、一方この
電子銃３に対する他端部のフエース部４には多数
の赤、青及び緑に区分された螢光面５が配設され
ている。そしてこの螢光面５に近接して多数のビ
ーム開孔を有するシヤドウマスク６が配設され
る。シヤドウマスク６は係止具８を介してフレー
ム７に取り付けられ、またフレーム７には電子銃
３側に地磁気を遮蔽するためのインナーシールド
９が取り付けられている。このような構成のカラ
ー受像管に於て、電子銃３から射出された電子ビ
ーム１１は集束、加速され乍ら偏向装置１０によ
つて偏向されシヤドウマスク６の開孔を通つて螢
光面５に射突しカラー映像を再現する。以上のカ
ラー受像管の構成要素のうち、シヤドウマスク
６、フレーム７及びインナーシールド９のFeを
主成分とする部材の表面は管への組込前に酸化膜
を施しておく必要がある。これは各部材を所定の
形状に形成した後管組込迄の間の発錆の防止と管
組込後の動作時の放熱効果及び電子ビーム反射の
軽減等に有効な為である。但し管種によつては上
記Feを主成分とする三つの部材の何れかは重大
な支障のない限り酸化膜を施さないこともある。
この酸化膜はプレス成形後に酸素を含む雰囲気中
で熱処理することによつて形成されるが、その表
面色は青黒色を呈することが多いため黒化膜と称
されることもある。ところで上記３つの部材のう
ち、シヤドウマスクは100μm〜200μmの厚さの薄
板にμオーダーの多数のビーム開孔をエツチング
により穿孔しなければならず、またビーム開孔形
成後に外囲器のフエース内面形状に適応する曲面
状にプレス成形しなければならないので、素材自
体からその性能向上のために種々の試みが為され
ている。 例えば特公昭51−12391号公報及び特公昭54−
25492号公報の炭素含有量を低減してエツチング
の突起物によるハレーシヨン防止、特公昭54−
26978号公報の低炭素Alキルド鋼で上記ハレーシ
ヨンとプレス成形でのストレツチヤーストレイン
防止、特公昭55−24227号公報及び特公56−903号
公報の結晶粒を微細化して熱変形防止、特開昭55
−62123号公報及び特開昭55−138027号公報のAl
キルド鋼やボロン添加Alキルド鋼によるエツチ
ング性向上とストレツチヤーストレイン防止、特
開昭55−69238号公報のSiとMn添加によるプレス
成形前の焼鈍とレベリングの工程省略等々多くの
材料、工程に関する提案がなされている。しかし
乍ら之等の提案は何れも設計通りの寸法のシヤド
ウマスクを如何にして効率よく製造するかを目的
としたもので酸化膜については触れられていな
い。しかるに之等Feを主成分とする材料の表面
に施される酸化膜は密着性が悪くはがれ易いため
ビーム開孔の孔詰まりや電極間スパーク等の管機
能に重大な支障を及ぼす難点を有している。特開
昭55−62123号公報等に示されているように粗鋼
生産コストの低減化のため連続鋳造が一般化し、
高品質のAlキルド鋼が容易に入手でき、エツチ
ング性、プレス成形性は格段に向上したが、一方
Alが含有されているため酸化膜はより脱落し易
くなる傾向にあり、酸化膜生成条件は非常に厳し
いコントロールが必要である。之等酸化膜に関し
ては、特開昭54−8963号公報の素材生成時の脱酸
剤として添加され不可避的に残存するSi量を0.03
％以下に低減して密着性を向上させるもの、特開
昭55−90033号公報の酸化前に塩素イオンを介在
させて密着性を向上させるもの等の試みがある
が、Si量を制御するための条件を必要としたり、
また両者とも酸化膜の密着性の向上は認められる
ものの未だ充分とは言えないものであつた。 発明の目的 本発明はカラー受像管に内装されるシヤドウマ
スク、マスクフレーム及びインナーシールドの
Feを主成分とする部材の少くとも一つに施され
る酸化膜の密着性を向上せしめ、酸化膜の脱落を
防止することを目的とするものである。 発明の概要 本発明はカラー受像管に内装されたシヤドウマ
スク、マスクフレーム及びインナーシールドの
Feを主成分とし、その表面に酸化膜が設けられ
た部材が、少くともSi、Al、Cr、但しCr≧１／３ （Al＋Si）の組成を有することによつて酸化膜の
密着性を向上し酸化膜の脱落を防止したものであ
る。 発明の実施例 本発明のカラー受像管の配置構成自体は第１図
に示すものと同一であるので詳細な説明は省略す
る。 以下に本発明の実施例として、カラー受像管に
内装されるシヤドウマスク、マスクフレーム及び
インナーシールドのFeを主成分とする部材のう
ちシヤドウマスクを例にとつて詳細に説明する。
この実施例に用いたシヤドウマスクの素材自体は
エツチング性がよくストレツチヤーストレインの
発生し難いものを用いた。即ち、連続鋳造法によ
り素材中の不純物や非金属介在物を極めて少なく
しエツチング性を向上させ、またAlを添加する
ことにより素材中の窒素をAlNとして固定し、
さらには脱炭アニールにより炭素を低減して素材
の降伏点伸びを消失させ、ストレツチヤーストレ
インの発生を防止したものを用いた。 次にこの素材は第２図に示すように、(A)：感光
剤塗布、(B)：露光、(C)：現像、(D)：バーニング、
(E)：エツチングの各工程を経て多数のビーム開孔
が設けられたフラツトマスクが得られる。そして
フラツトマスクの洗浄乾燥及び剪断後、(F)：700
℃前後での脱炭焼鈍、(G)：レベリング、(H)：プレ
ス成形による曲面状マスク形成、(J)：600℃前後
でのH2O又は微量のO2を含むCO2―N2雰囲気中
での酸化膜形成工程を経て管内に組み込まれる。
この素材はAl含有量が多いために酸化膜がより
脱落し易くなる傾向があるが、本発明者等は種々
試験考察の結果この酸化膜の脱落傾向はシヤドウ
マスク中の各種組成によつては必らずしもAl含
有量だけに依存するのではなく、さらにCrの含
有量も酸化膜の密着性向上に関与することをまず
つきとめた。 第１表にその試験例を示す。
管のFeを主成分とする内装品のシヤドウマスク、
マスクフレーム及びインナーシールドに関するも
のである。 発明の技術的背景と問題点 カラー受像管の概略構成を第１図に示す。ガラ
ス外囲器１の一端部のネツク部２には例えばイン
ライン配列の複数電子銃３が配設され、一方この
電子銃３に対する他端部のフエース部４には多数
の赤、青及び緑に区分された螢光面５が配設され
ている。そしてこの螢光面５に近接して多数のビ
ーム開孔を有するシヤドウマスク６が配設され
る。シヤドウマスク６は係止具８を介してフレー
ム７に取り付けられ、またフレーム７には電子銃
３側に地磁気を遮蔽するためのインナーシールド
９が取り付けられている。このような構成のカラ
ー受像管に於て、電子銃３から射出された電子ビ
ーム１１は集束、加速され乍ら偏向装置１０によ
つて偏向されシヤドウマスク６の開孔を通つて螢
光面５に射突しカラー映像を再現する。以上のカ
ラー受像管の構成要素のうち、シヤドウマスク
６、フレーム７及びインナーシールド９のFeを
主成分とする部材の表面は管への組込前に酸化膜
を施しておく必要がある。これは各部材を所定の
形状に形成した後管組込迄の間の発錆の防止と管
組込後の動作時の放熱効果及び電子ビーム反射の
軽減等に有効な為である。但し管種によつては上
記Feを主成分とする三つの部材の何れかは重大
な支障のない限り酸化膜を施さないこともある。
この酸化膜はプレス成形後に酸素を含む雰囲気中
で熱処理することによつて形成されるが、その表
面色は青黒色を呈することが多いため黒化膜と称
されることもある。ところで上記３つの部材のう
ち、シヤドウマスクは100μm〜200μmの厚さの薄
板にμオーダーの多数のビーム開孔をエツチング
により穿孔しなければならず、またビーム開孔形
成後に外囲器のフエース内面形状に適応する曲面
状にプレス成形しなければならないので、素材自
体からその性能向上のために種々の試みが為され
ている。 例えば特公昭51−12391号公報及び特公昭54−
25492号公報の炭素含有量を低減してエツチング
の突起物によるハレーシヨン防止、特公昭54−
26978号公報の低炭素Alキルド鋼で上記ハレーシ
ヨンとプレス成形でのストレツチヤーストレイン
防止、特公昭55−24227号公報及び特公56−903号
公報の結晶粒を微細化して熱変形防止、特開昭55
−62123号公報及び特開昭55−138027号公報のAl
キルド鋼やボロン添加Alキルド鋼によるエツチ
ング性向上とストレツチヤーストレイン防止、特
開昭55−69238号公報のSiとMn添加によるプレス
成形前の焼鈍とレベリングの工程省略等々多くの
材料、工程に関する提案がなされている。しかし
乍ら之等の提案は何れも設計通りの寸法のシヤド
ウマスクを如何にして効率よく製造するかを目的
としたもので酸化膜については触れられていな
い。しかるに之等Feを主成分とする材料の表面
に施される酸化膜は密着性が悪くはがれ易いため
ビーム開孔の孔詰まりや電極間スパーク等の管機
能に重大な支障を及ぼす難点を有している。特開
昭55−62123号公報等に示されているように粗鋼
生産コストの低減化のため連続鋳造が一般化し、
高品質のAlキルド鋼が容易に入手でき、エツチ
ング性、プレス成形性は格段に向上したが、一方
Alが含有されているため酸化膜はより脱落し易
くなる傾向にあり、酸化膜生成条件は非常に厳し
いコントロールが必要である。之等酸化膜に関し
ては、特開昭54−8963号公報の素材生成時の脱酸
剤として添加され不可避的に残存するSi量を0.03
％以下に低減して密着性を向上させるもの、特開
昭55−90033号公報の酸化前に塩素イオンを介在
させて密着性を向上させるもの等の試みがある
が、Si量を制御するための条件を必要としたり、
また両者とも酸化膜の密着性の向上は認められる
ものの未だ充分とは言えないものであつた。 発明の目的 本発明はカラー受像管に内装されるシヤドウマ
スク、マスクフレーム及びインナーシールドの
Feを主成分とする部材の少くとも一つに施され
る酸化膜の密着性を向上せしめ、酸化膜の脱落を
防止することを目的とするものである。 発明の概要 本発明はカラー受像管に内装されたシヤドウマ
スク、マスクフレーム及びインナーシールドの
Feを主成分とし、その表面に酸化膜が設けられ
た部材が、少くともSi、Al、Cr、但しCr≧１／３ （Al＋Si）の組成を有することによつて酸化膜の
密着性を向上し酸化膜の脱落を防止したものであ
る。 発明の実施例 本発明のカラー受像管の配置構成自体は第１図
に示すものと同一であるので詳細な説明は省略す
る。 以下に本発明の実施例として、カラー受像管に
内装されるシヤドウマスク、マスクフレーム及び
インナーシールドのFeを主成分とする部材のう
ちシヤドウマスクを例にとつて詳細に説明する。
この実施例に用いたシヤドウマスクの素材自体は
エツチング性がよくストレツチヤーストレインの
発生し難いものを用いた。即ち、連続鋳造法によ
り素材中の不純物や非金属介在物を極めて少なく
しエツチング性を向上させ、またAlを添加する
ことにより素材中の窒素をAlNとして固定し、
さらには脱炭アニールにより炭素を低減して素材
の降伏点伸びを消失させ、ストレツチヤーストレ
インの発生を防止したものを用いた。 次にこの素材は第２図に示すように、(A)：感光
剤塗布、(B)：露光、(C)：現像、(D)：バーニング、
(E)：エツチングの各工程を経て多数のビーム開孔
が設けられたフラツトマスクが得られる。そして
フラツトマスクの洗浄乾燥及び剪断後、(F)：700
℃前後での脱炭焼鈍、(G)：レベリング、(H)：プレ
ス成形による曲面状マスク形成、(J)：600℃前後
でのH2O又は微量のO2を含むCO2―N2雰囲気中
での酸化膜形成工程を経て管内に組み込まれる。
この素材はAl含有量が多いために酸化膜がより
脱落し易くなる傾向があるが、本発明者等は種々
試験考察の結果この酸化膜の脱落傾向はシヤドウ
マスク中の各種組成によつては必らずしもAl含
有量だけに依存するのではなく、さらにCrの含
有量も酸化膜の密着性向上に関与することをまず
つきとめた。 第１表にその試験例を示す。
【表】
第１表に於て、酸化膜の密着性はシヤドウマス
クを90度折り曲げて、折り曲げ部にセロテープを
接着し、このセロテープをはがす強制テストの結
果を目安とした。第１表に示す試験例の結果は、
試験例(イ)は第３図の写真からも明らかなように酸
化膜の脱落は殆んど認められず密着性は良好であ
つた。一方試験例(ハ)は第４図の写真からも明らか
なように酸化膜にクラツクが認められ密着性は良
くない。 次に上記試験例の(イ)及び(ハ)について、イオンマ
イクロアナライザーによるシヤドウマスクの表面
から断面深さ方向への各種組成の分折を行つた。
第５図及び第６図はその結果を示す模式図で、横
軸は左から右へシヤドウマスクの断面方向深さ(d)
を、縦軸は対数目盛で検出強度(i)を示し、第５図
は第１表の試験例(イ)を第６図は同じく試験例(ハ)を
夫々示す。第５図及び第６図に於て、酸化膜表面
からシヤドウマスク本体との境界部（Ｘ）地点迄
Cr(12)、Al（13）及びSi（14）は漸次増加し、（Ｘ）
地点近傍で極大値を示し、（Ｘ）地点以降のシヤ
ドウマスク本体中はほぼ一定の傾向を示すのに対
し、Fe（15）、Mn（16）等は全断面にわたつてほ
ぼ一定しているのが特徴的である。即ち第５図及
び第６図からCr、Al及びSiが酸化膜の密着性に
関与しているものと考えられる。そこで次に之等
Cr、Al及びSiについてその組成比を種々に変化
させた試験例を第２表に示す。試験方法は第１表
のものと同様である。
クを90度折り曲げて、折り曲げ部にセロテープを
接着し、このセロテープをはがす強制テストの結
果を目安とした。第１表に示す試験例の結果は、
試験例(イ)は第３図の写真からも明らかなように酸
化膜の脱落は殆んど認められず密着性は良好であ
つた。一方試験例(ハ)は第４図の写真からも明らか
なように酸化膜にクラツクが認められ密着性は良
くない。 次に上記試験例の(イ)及び(ハ)について、イオンマ
イクロアナライザーによるシヤドウマスクの表面
から断面深さ方向への各種組成の分折を行つた。
第５図及び第６図はその結果を示す模式図で、横
軸は左から右へシヤドウマスクの断面方向深さ(d)
を、縦軸は対数目盛で検出強度(i)を示し、第５図
は第１表の試験例(イ)を第６図は同じく試験例(ハ)を
夫々示す。第５図及び第６図に於て、酸化膜表面
からシヤドウマスク本体との境界部（Ｘ）地点迄
Cr(12)、Al（13）及びSi（14）は漸次増加し、（Ｘ）
地点近傍で極大値を示し、（Ｘ）地点以降のシヤ
ドウマスク本体中はほぼ一定の傾向を示すのに対
し、Fe（15）、Mn（16）等は全断面にわたつてほ
ぼ一定しているのが特徴的である。即ち第５図及
び第６図からCr、Al及びSiが酸化膜の密着性に
関与しているものと考えられる。そこで次に之等
Cr、Al及びSiについてその組成比を種々に変化
させた試験例を第２表に示す。試験方法は第１表
のものと同様である。
【表】
【表】
第２表の結果からCr、Al及びSiについて夫々
単独では酸化膜密着性との相関関係をつかむこと
は出来なかつた。しかし乍らCrと（Al＋Si）の
比に於て相関関係を見出すことができた。即ち、
第７図は横軸に（Al＋Si）量を、縦軸にCr量を
とつて第２表の酸化膜の密着性を示すもので、図
中〇印は良好、△印は良、但し一部脱落有、Ｘは
不良を夫々示す。第７図から少くとも酸化膜の密
着性に向上が認められるのは、直線１７で示す。
Cr≧１／３（Al＋Si）の領域であることがわかる。 さらに好適なのはCr≧（Al＋Si）の領域で、ころ
領域であれば酸化膜の密着性は良好で通常の操作
取扱いによる限りは酸化膜脱落の恐れは全くな
い。 さらに素材生成時の脱酸剤として添加され不可
避的に残存するSi量についても、従来のようにSi
量の増加によつて素材が必要以上に硬化する現象
は上記条件とすることで、例えば、第２表試験例
（ト）で実質的に支障を及ぼさないことが確認さ
れた。これはCrがクロムカーバイトとしてＣを
固定しマスク成形性を向上する機能が寄与してい
るものと考えられる。 発明の効果 以上のように本発明によればカラー受像管に内
装されるFeを主成分としその表面に酸化膜が形
成されるシヤドウマスク、マスクフレーム及びイ
ンナーシルドの部材中に含まれる元素のうち、
Cr、Al及びSiについて、Cr≧１／３（Al＋Si）とす ることによつて酸化膜の密着性を格段に向上させ
酸化膜の脱落を防止することができ、その酸化膜
形成条件も厳格に制御する必要はなく極めて安定
なものとなる。 またCr≧１／３（Al＋Si）の範囲内に於て、Alを 適当量増加させることも可能である。このことは
連続鋳造法により素材中の不純物や非金属介在物
を極めて少くした上に、Al添加により素材中の
窒素をAlNとして固定し、さらには脱炭アニー
ルにより炭素を低減して素材の降伏点伸びを消失
させストレツチヤーストレインの発生を防止しエ
ツチング性の良好な素材を選択できることを意味
している。さらにCr≧１／３（Al＋Si）の範囲内に 於て、Siが相当量増加しても素材の機能に殆んど
影響を与えることがない。このことは素材生成時
の脱酸剤として添加され不可避的に残存するSi量
を意図的に低減させ規定値を越えないようにする
為のめんどうな操作をする必要がないことを意味
している。
単独では酸化膜密着性との相関関係をつかむこと
は出来なかつた。しかし乍らCrと（Al＋Si）の
比に於て相関関係を見出すことができた。即ち、
第７図は横軸に（Al＋Si）量を、縦軸にCr量を
とつて第２表の酸化膜の密着性を示すもので、図
中〇印は良好、△印は良、但し一部脱落有、Ｘは
不良を夫々示す。第７図から少くとも酸化膜の密
着性に向上が認められるのは、直線１７で示す。
Cr≧１／３（Al＋Si）の領域であることがわかる。 さらに好適なのはCr≧（Al＋Si）の領域で、ころ
領域であれば酸化膜の密着性は良好で通常の操作
取扱いによる限りは酸化膜脱落の恐れは全くな
い。 さらに素材生成時の脱酸剤として添加され不可
避的に残存するSi量についても、従来のようにSi
量の増加によつて素材が必要以上に硬化する現象
は上記条件とすることで、例えば、第２表試験例
（ト）で実質的に支障を及ぼさないことが確認さ
れた。これはCrがクロムカーバイトとしてＣを
固定しマスク成形性を向上する機能が寄与してい
るものと考えられる。 発明の効果 以上のように本発明によればカラー受像管に内
装されるFeを主成分としその表面に酸化膜が形
成されるシヤドウマスク、マスクフレーム及びイ
ンナーシルドの部材中に含まれる元素のうち、
Cr、Al及びSiについて、Cr≧１／３（Al＋Si）とす ることによつて酸化膜の密着性を格段に向上させ
酸化膜の脱落を防止することができ、その酸化膜
形成条件も厳格に制御する必要はなく極めて安定
なものとなる。 またCr≧１／３（Al＋Si）の範囲内に於て、Alを 適当量増加させることも可能である。このことは
連続鋳造法により素材中の不純物や非金属介在物
を極めて少くした上に、Al添加により素材中の
窒素をAlNとして固定し、さらには脱炭アニー
ルにより炭素を低減して素材の降伏点伸びを消失
させストレツチヤーストレインの発生を防止しエ
ツチング性の良好な素材を選択できることを意味
している。さらにCr≧１／３（Al＋Si）の範囲内に 於て、Siが相当量増加しても素材の機能に殆んど
影響を与えることがない。このことは素材生成時
の脱酸剤として添加され不可避的に残存するSi量
を意図的に低減させ規定値を越えないようにする
為のめんどうな操作をする必要がないことを意味
している。
第１図はカラー受像管の概略構成を示す一部切
欠け断面図、第２図はシヤドウマスクの成形工程
を説明するための工程図、第３図及び第４図は酸
化膜の脱落状態を示す金属組織の顕微鏡写真、第
５図及び第６図はシヤドウマスク断面深さ方向の
各種元素含有量を示す特性模式図、第７図はCr
と（Al＋Si）の含有量の関係を示す特性図であ
る。 １…外囲器、２…ネツク部、３…電子銃、４…
フエース部、５…螢光面、６…シヤドウマスク、
７…マスクフレーム、８…係止具、９…インナー
シールド、１０…偏向装置、１１…電子ビーム。
欠け断面図、第２図はシヤドウマスクの成形工程
を説明するための工程図、第３図及び第４図は酸
化膜の脱落状態を示す金属組織の顕微鏡写真、第
５図及び第６図はシヤドウマスク断面深さ方向の
各種元素含有量を示す特性模式図、第７図はCr
と（Al＋Si）の含有量の関係を示す特性図であ
る。 １…外囲器、２…ネツク部、３…電子銃、４…
フエース部、５…螢光面、６…シヤドウマスク、
７…マスクフレーム、８…係止具、９…インナー
シールド、１０…偏向装置、１１…電子ビーム。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 外囲器内の一端部に設けられた電子銃と、前
記電子銃に対向する他端部に設けられた螢光面
と、前記螢光面に近接して設けられフレームに取
り付けられた多数の開孔を有するシヤドウマスク
と、前記シヤドウマスクに取り付けられたインナ
ーシールドとを具備するカラー受像管において、
前記フレーム、シヤドウマスク及びインナーシー
ルドのうちFeを主成分としその表面に酸化膜が
設けられた部材が、少くともSi、Al、Cr、但し
Cr≧１／３（Al＋Si）なる組成を含むことを特徴と するカラー受像管。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56178371A JPS5880246A (ja) | 1981-11-09 | 1981-11-09 | カラ−受像管 |
| US06/438,721 US4558252A (en) | 1981-11-09 | 1982-11-03 | Color cathode ray tube with frame, mask or shield having an oxidized layer |
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|---|---|---|---|---|
| JPH0415403A (ja) * | 1990-05-10 | 1992-01-20 | Toshinori Nanjo | 高熱による塵芥焼却装置 |
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