JPS5885890A - １−デチア−１−オキサ−３−セフエム誘導体およびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式 〔式中、凡、は水素原子または水酸基、鳥は置換基を有
していてもよい含寵素複素環基を示す、〕で表わされる
新規な１−デチアー１−オキ？−３−セフェム誘導体、
その非毒性塩およびその製造法に関するものである。

上記一般式（Ｉｌのへの置換基を有していてもよい複素
環基は窒素原子の他に酸素原子または硫黄原子を含んで
いてもよい。例えば、１−Ｈ−テトラゾリル、２Ｈ−テ
トラゾリル、１，２．３−チアジアゾリル、１゜３．４
−チアジアゾリル、１，２．４−チアジアゾリル。

１、３．４−オ十すジアゾリル、　　ＩＨ−１，２，３
−）リアゾリル、　　２Ｈ−１，２，３−）リアゾリル
、ＩＨ−１、２，４−トリアシリル、　　４１（−１，
２，４−ドリアゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾチ
アゾリル。

ピリジルおよびそのＮ−オキサイド、ピリミジニルなど
の基があげられる。これらの基の置換基としては、メチ
ル、エチル、プロピルなどの低級アルキル基、カルボキ
シメチル、カルボキシエチルなどのカルボキシ低級アル
キル基、アミノ基、ジメチルアミノエチル、ジメチルア
ミノメチル、ジエチルアミノエチルなどのジ低級アルキ
ルアミノ低級アルキル基、メトキシカルボニルメチル、
メトキシカルボニルエチルなどの低級アルコキシカルボ
ニル低級アルキル基などがあげられる。

一般式（Ｉ）の化合物の非毒性塩としては、ナトリウム
塩、カリウム塩、カルシウム塩、アンモニウム塩、トリ
エチルアミン塩、ジシクロへ牛ジルアミン塩、プロカイ
ン塩などがあげられる。

本発明化合物は特にグラム陰性菌に対し強い抗菌力を有
し、抗菌剤として有層である。

本発明化合物は次に示す方法により合′威することがで
きる。

一般式 〔式中、為および為は前記の定義に同じ〕で表わされる
化合物またはその塩に一般式 で表わされる化合物またはその反応性誘導体を反応させ
ることにより前記一般式（１）の化合物を得ることがで
自る。一般式（Ｉ）の化合物の非毒性塩は通常の造塩反
応により得ることかできる。

上記一般式（ＩＩ）の化合物と一般式圓の化合物の反応
は、通常のアミド化反応において用いられる方法を採用
することができる。すなわち、カルボン酸である一般式
（２）の化合物を用いる場合には９例えば、Ｎ、Ｎ−ジ
シクロへキシルカルボジイミド。

亜りン酸トリアルキルエステル、ポリリン酸エステル、
オキシ塩化リン、オキザリルクロライドなどの縮合剤の
存在下に反応を行なうことが望ましい、また、一般式（
２）の化合物の反応性誘導体を用いる場合９反応性誘導
体としては、酸塩化物、酸臭化物などの酸ハロゲン化物
、対称酸無水物、混合酸無水物、活性エステル、活性酸
アミドがあげられる。

上記一般式（Ｉｆ）の化合物と一般式（至）の化合物ま
たはその反応性誘導体との反応は、不活性溶媒中。

シリル化剤の存−注下または非存在下に一５０℃〜５０
℃の温度で行なうことができる。不活性溶媒としては、
アセトン、テトラヒドロ７ランｅＮｅＮ−ジメチルアセ
トアミド、ジメチル本ルムアミド、ジオキすン、ジクロ
ルメタン、酢酸エチルあるいはこれらの混合溶媒があげ
られる。シ９ル化剤としては、Ｎ、０−ビス０］メチル
シリル）アセタミド、へキナメチレンジシラザン。Ｎ−
トリメチルシリルアセタミドなどがあげら゛れる。

本発明化合物の合成に用いられる一般式（３）の化合物
は１例えば、特開昭５２−１２２３８６号公報、特開昭
５２−１３３９９７号公報、曽開昭５４−３０８８号公
報、ジャーナル・オプΦメディシナル・ケミストリー（
Ｊ、　Ｍａｄ、　Ｃｈｅｗ　）第２２巻第７号第７５７
頁（１９７９）などに示される方法を適宜採用して合成
することができる。

本発明化合物の具体例としては０例えば次に示す化合物
およびそのナト亨つム塩をあげることができる。

７ａ−メトキシ−７１−（Ｄ−２−（６，７−ジハイド
ロ今シー４−オ牛ソー４Ｈ−１−ベンゾビラン−３−カ
ルボキサミド）τ、、２−（４−ハイド四キ、ジフェニ
ル）アセタミド）　−３−（５−（１−メトキシカルボ
ニルメチルテトラゾリル）チオメチル〕−１−デチアー
１−オキす−３−セフェム−４−カルボン酸 ７ｍ−ｚ−トキシー’ＩＩ−（Ｄ−２−（６，７−ジハ
イドロキシー４−オキソ−４Ｈ−１−ベンゾビラン−３
−カルボキサミド）−２−（４−ハイドロキシフェニル
）アセタミド）　−３−［５−（１−カルボキシメチル
テトラゾリル）チオメチル〕−１−デチアーｌ−オ牛ｔ
−３−セフェム−４−カルボン酸 ７ｇ−メトキシ−７メー（Ｄ−２−（６，７−ジハイド
ロキシー４−オキソ−４Ｈ−１−ベンゾビラン−３−カ
ルボキサミド）−２−フェニルアセタミド）−３−［５
−（１−カルボキシメチルテトラゾリル）チオメチル）
−１−デチアー１−オキサー３−セフェム−４−カルボ
ン酸 ７−−メトキシー７ｆｉ　−（Ｄ−２−（７，８−ジハ
イドロ牛シー４−オキソ−４Ｈ−１−ベンゾビラン−３
−カルボキサミド）−２−（４−ハイドロキシフェニル
）アセタミド）　−３−（５−（１−カルボキシメチル
テトラゾリル）チオメチル〕−１−デチアー１−オキサ
−３−セフェム−４−カルボン酸 ７−−メト牛シー７１−　（Ｄ−２−（６，７−ジハイ
ドロキシー４−オキソ−４）１−１−ベンゾビラン−３
−カルボキサミド）−２−フェニルアセタミド］　−３
−（５−（１−メチルテトラゾリル）チオメチル〕−１
−デチアー１−オキサ−３−セフェム−４−カルボン酸 ７−−メトキシー７１−　ＣＤ−２−（６，７−ジＩ−
イドクキシー４−オキソ−４Ｈ−１−ベンゾビラン−３
−カルホキすミド’）−２−（４−ハイドロキシフェニ
ル）アセタミド）　−３−（２−（５−カルボキシメチ
ル−１，３，４−チアジアゾリル）チオメチル〕−１−
デチアー１−オ十す−３−セフェム−４−カルボン酸 ７ｇ−メトキシ−７１−（Ｄ−２−（６，７一ジＩ％イ
ドロキシー４−オキソ−４Ｈ−１−ベンゾビラン−３−
カルボ牛すミド）−２−フェニルアセタミド）−３−（
２−（５−カルボキシメチル−１゜イ ３．４−チアジアゾリル）チナメチル〕−１−デチアー
１−オキｔ−３−セフェム−４−カルプン酸７−−メト
キシー７／　−（Ｄ−２−（７，８−ジハイドロキシー
４−オキソ−４Ｈ−１−ベンゾビラン−３−カルボキサ
ミド）−２−（４−ハイドロキシフェニル）アセタミド
）　−３−（２−（５−カルボキシメチル−１，３，４
−チアジアゾリル）チオメチル〕−１−デチアー１−オ
キす−３−セフェム−４−カルボン酸 ７ｄ−メトキシ−７！　−ＣＤ−２−（６，７−ジハイ
ドロ牛シー４〒オキソ−４Ｈ−１−ベンゾビラン−３−
フルボキサミド）−２−（４−ハイドロキシフェニル）
アセタミド）　−３−（２−（５−メチル−１，３，４
−チアジアゾリル）チオメチル〕−１−デチアー１−オ
牛ナー３−セフェム−４−カルボン酸 ７ｄ−メトキシ−７１−（Ｄ−２−（６，７−ジハイド
ロキシー４−オキソ−４Ｈ−１−ベンゾビラン−３−カ
ルボキサミド）−２−（４−ハイドロキシフェニル）ア
セタミド）−３−（２−（５−カルボキシメチル−１，
３，４−オキサジアゾツル）チオメチル〕−１−デチア
ー１−オキす−３−−に７エムー４−カルボン酸 ７−−メト牛シー’ＩＩ−ＣＤ−２−（６，７−ジハイ
ドロキシー４−オキソ−４Ｈ−１−ベンゾビラン−３−
カルボキサミド）−２−（４−’へイドロキシフェニル
）アセタミド）−３−（５−（１−（２−ジメチルアミ
ノエチル）テトラゾリル）チオメチル）−１−デチアー
１−オキｔ−３−セフェム−４−カルボン酸 次に実施例を示し９本発明をさらに詳しく説明する。

実施例１ ７　ｇ−ｆｉ　）＋９−７７−　（Ｄ−２−（６，？−
ジハイドロ今シー４−オキソー４Ｈ−１−ベンゾビラン
−３−カルボ牛ずミド）−２−（４−へイドロキシフェ
ニル）アセタミド）　−３−（５−（１−メトキシカル
ボニルメチルテトラゾリル）チオメチル）−１−デチア
ー１−オキー？−３−セフェ五−４−カルボン酸 ａ）７−−ベンズアミド−３−（５−（１−カルボキシ
メチルテトラゾリル）チオメチル）−１−デチアー１−
オキサー３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチ
ルエステル アルゴン気ｍ中、’ｙｇ−ベンズアミド−３−クロロメ
チル−１−デチアー１−オキサー３−セフェム−４−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステル６００岬（１，２ミ
リモル）をＮ、Ｎ−ジメチル本ルムア電ド１５ｗ＃ｌＫ
溶解後、１−カルボキシメチルテトラゾール−５−チオ
ールのジー塩酸番ζて酸性とした後、析出する結晶を炉
層。

水洗ｔｘｔ乾燥して７−−ベンズアミドー３−　（５−
（１−カルボキシメチルテトラゾリル）チオメチル〕−
１−デチアー１−オキす−３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル７４７１１ｖを得た。収率
９９−９９６赤外線吸収スペクトル（ｃｓ、−’、ヌジ
四−ル）１７８０．１７２０．１６４Ｏ ＮＭＩＬｘペクト＃（＃、ＣＤＣ＃ｍ）；４１２　（２
Ｈ，ｂｒｓ）、　４．３５　（２Ｈ，ｂｒ＠）４．７５
（１町島）、　　　４．８０　（２１１，ｓ）５．０１
　（ＩＨ，ｓ）、　　７．１５−７．８０　（１°５Ｈ
，ｍ）ｂ）７ｍ−ベンズアミド−３−（５−（１−ジフ
ェニルメトキシカルボニルメチルテトラゾ呼ル）チオメ
チル〕−１−デチアー１−オキナ−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル ７−−ベンズアミドー３−（５−（１−カルボキシメチ
ルテトラゾリル）チオメチル）　−１−デチアー１−オ
キｔ−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル７４７”ｆ＋酢酸エテル５０−に溶かし、ジフ
ェニルジアゾメタンの石油エーテル溶液を液の赤色が滴
えな（なるまで加えた。反応液に酢酸を加え過剰のジフ
ェニルジアゾメタンを分解した後、減圧下に＃１１１を
習去した。残留物を１０％含水シリカゲルクロマトに付
し、ベンゼン−アセトニトリル（１０：１）で溶出し、
薄層りｐマドで峰ノスポット部分を集めて濃縮し、残渣
にベンゼン−エーテル−へ十ナンを加え７ｄ−ベンズア
ミド−３−（５−（１−ジフェニルメト牛ジカルボニル
メチル−テトラゾリル）チオメチル〕−１−デチアー１
−オ牛サー３−セフェム−４−カルボン酸ジダエニルメ
チルエステル７８５”９を得た。

赤外線吸収スペクトル（ｃｌＩ−１，ヌジ■−ル）１７
８０．１７４０，１７１０，１６５０，１６２ＯＮＭＲ
Ｘペク）ル（Ｊ、ＣＤＣ１ａ） ４．１５　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ−１５） ４．３０　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ−１５） ４．４５　（１）１．　ｄ、　Ｊ−１８）４．７０　（
１）１．　ｄ、　Ｊ閣１８）４．９０　（１）１．　ｄ
ｄ、　Ｊ■１．５．８）５．０５　（２Ｈ，ｌ） ５．０６　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ■８） ６．９０　（ＩＨ，ｌ） ６．９５　（１１（、ｓ） ６．８７　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ　−ｇ） ７．１０−７．９０　（２５Ｈ，ｍ） Ｃ）７−−アミノー３−（５−（１−ジフェニルメトキ
シカルボニルメチルテトラゾツル）チオメチル〕−１−
デチアー１−オキす−３−セフェム−４−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル ７−−ベンズアミド−３−（５−（１−ジフェニルメト
キシカルボニルメチルテトラゾツル）チオメチル）−１
−デチアー１−オキナー３−七フエム−４−カルボン酸
ジフェニルメチルエステル５００”ｆ（０，６３ミリモ
ル）を塩化メチレン７．５−に溶解後、アルゴン気流下
−３２℃でビ９９ン２０５１（Ｌ５ｔ９４ｋ＞、五塩化
リンｅ粉末５２５”Ｆ　（１ｓ　ｔ　ｌ　４／ｋ）を加
え。

１５分岡撹拌した後、室温で２．５時間撹拌した。

次いで一３２℃でメタノール１１８ｊｍえ３０分関撹拌
後、室温で１時間撹拌した。減圧下溶媒留夫後、残液に
氷水、酢酸エチルを加え９重曹水にて中和した。酢酸エ
チル層を分波後、水。

飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト９ウムで乾燥した。

減圧下溶媒留去後、残液にエーテルをを加え、７−−ア
ミノー３−（５−（１−ジフェニルメト牛ジカルボニル
メチルテトラゾサル）チオメチル）−１−デチアーｌ−
オ牛ｔ−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチ
ルエステル３１８１１Ｆを得た。収率ニア３９６赤外１
１１吸収スペクトル（Ｃａｌ−’、ヌジ璽−ル）３４０
０．１７８０，１７４０．１７１ＯＮＭ＆Ｘぺ９　）ル
（ａ、ＣＤＣＩｍ）１．７０　（２Ｈ，ｂｒｓ） ４１０　（ＩＨ，ｓ） ４．２０　（２Ｈ，ｓ） ４．５２　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ■３） ４．７０　（ＩＨ，＠） ５．０５　（２Ｈ，ｓ） ６．９０　（ｌＨ０８） ６．９５　（１）１．　ａ） ７．１５−’１７０　（２０８，ｍ） ｄ）７ｍ−（Ｄ−２−（４−メトキシベンジルオ今シカ
ルボキすミド）−２−（４−ハイドロ今ジフェニル）ア
セタミド）　−３−（５−（１−ジフェニルメト牛ジカ
ルボニルメチルテトラゾリル）チオメチル〕−１−デチ
アー１−オ牛す−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェ
ニルメチルエステル ７ｄ−アミノ−３−（５−（１−ジフェニルメトキシカ
ルボニルメチルテトラゾツル）チオメチル〕−１−デチ
アー１−オキ−？−３−セフェムー４−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル３１８Ｍ？　（０，４７ｉ　９４
ル）　＊ｔ　ト９　ヒｙａ７ランｌＯ−に溶解後、アル
ゴン気流下、　Ｄ　−２−（４−メトキシペンジルオキ
シカルホキ量之１／）−２−（４−ハイドロ今ジフェニ
ル）酢酸１８７”１ｆ（０，５６ミ啼モル）、２−エト
キシ−１＜２ｔ（）−キノリンカルボン酸エチルエステ
ル１４　Ｇ”ｌｆ　（０，５６ｔ　９４ル）を室温で加
え一晩撹拌した。減圧下、溶媒を留去した後、ｌＮ−塩
酸１酢酸エチルを加えて分液し、さらに酢酸エチル層を
水９重曹水、水、飽和食塩水の順で洗浄後、無水硫酸す
）９ウムで乾燥した。

減圧下溶媒を留去した０次に残留物を１０４含水シリカ
ゲルクロマトに付し、クロロホルム−酢酸エチル（８：
　２−７　：　３）で溶出し、薄層クロマトでモノスポ
ット部分を集めて濃縮し九残渣に酢酸エチル−エーテル
−（ｆｉ）−ヘキサノを加え、　　７　ｇ−（Ｄ−２−
（４−メト牛シベンジルオキシ力ルポキナミド）−２−
（４−Ｉ−１イドロキシフエニル）アセタミド）−３−
（５−（１−ジフェニルメトキシカルボニルメチルテト
ラゾリル）チオメチル〕−１−デチアーｌ−オキす−３
−々７エムー４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル
２９３”９を得た。

赤外線吸収スペクトル（ａａ、ヌジ四−ル）１７８０．
１７４０，１７２０．１６８ＯＮＭＲスペクトル（Ｊ、
ＤＭ８０−ｄ、）３．７２　（３）１．　ａ）　　　　
　６．８３　（ＩＨ，＠）４．２０　（２Ｈ，ｂｒｓ）
　　　　６．８５　（ＩＨ，ｓ）４．５０　（２Ｈ，ｂ
ｒｓ）　　　　６．９０（２Ｈ，ｄ、Ｊ−９）４．７０
　（ｌ　Ｈ，ｍ）　　　　　７．１５−７．７０（２０
Ｈ，ｍ）４．９６　（２ｉ（、ｓ）　　　　　７．８０
（ＩＨ，ｄ、Ｊ−８）５．１２　（１１（、ｄ、　Ｊ−
８）　　９．１０（１）１．ｄ、Ｊ纏８）５．６２　（
２Ｈ，Ｉ）　　　　　９．４５　（ＩＨ，畠）６．７２
　（２８，ｄ、　Ｊ−８） ｅ、）７ｍ＋−メトキシ−７／　−（Ｄ−２−（４−メ
ト牛シベンジルオ牛シヵルポ今＋ｔド）−２−（４−ハ
イドロキシフェニル）アセタ電トニ３−（５−（１−メ
トキシ力ルポニルメ゛チルテトラゾツル）チオメチル）
−１−デチアーｌ−オキす−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステル ７　ｇ　−（Ｄ−２−（４−メトキシペンジルオキシ力
ルポキｔミド）−２−（４−ハイドロキシフェニル）ア
セタミド−３−（５−（１−ジフェニルメトキシカルボ
ニルメチルテトラゾ１ル）チオメチル〕−１−デチアー
ｌ−オ牛す−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニル
メチルエステル１１２■（０，１ミリモル）をテトラヒ
ドロ７ランーメタノール（２ｓｊ−０，５ｓｊ）に溶解
後、アルゴン気流下−７８℃で２Ｎ−９チウムメト今サ
イドのメタノールｊｌ［４１５μ！およびｔ−ブチルヒ
ポクロライ、）　２０　ａｔ　＊加え４０分間撹拌した
。これに：酢酸４０Ｏｔｄ＊加え、３０分間撹拌した後
、氷水、酢酸エチルを加え９分液した。抽出液を５９６
チオ硫酸ナトリウム水溶液９次いで水、飽和食塩水で洗
浄後。

無水硫酸す）９ウムで乾燥した。減圧下、溶媒留去後、
残渣を１０９６含水シリカゲルクロマトに付し、クロロ
ホルム−酢酸エチル（７：　３）で溶出し、薄層タロマ
ドでモノスポット部分を集めて溶媒を留去して、７ｇ−
メトキシ−７戸−〔Ｄ、−２−（４−メトキシベンジル
オ牛シカさ カルボニルメチルテトラゾリル）チオメチル〕−１−デ
チアー１−オキナー３−セフェム−４−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル４３１１Ｆを得た。

赤外線吸収スペクトル（ｄｌ、ヌジ四−ル）１７８０．
１７５０，１７２０，１７００．１６８ＯＮＭＲスペク
トル（ａ　、　ＣＤＣＩｍ　　）３．５１（３Ｈ，ｓ）
　　　　　　４．２６（ＩＨ，ｄ、Ｊ翼１４）３．７８
（６Ｈ，Ｉ　’）　　　　　　４４０（２Ｈ，ｂｒｓ　
）ａ、９８（ＩＨ，ｄ、Ｊ−１４）　　４．９８（ＩＨ
，ａ）瓢０１（２１−１，ｓ　）　　　　＆６５（２）
１．　ｄ、　Ｊ■８）５．０３（２Ｈ，ｓ）　　　　　
６．８３（２１丸ｄ、Ｊ■９）５．２５（ＩＨ，ｄ、Ｊ
讃８）　　＆８９（ＩＨ，＠）ａｏｌ（ＩＨ，ｄ、Ｊ−
８）　　７．１５−７．５８（ＩＯＨ，ｍ）ｆ）７ｍ−
メトキシ−７β−〔Ｄ−２−アミノ−２−（４−ハイド
ロキシフェニル）アセタミド〕−３−（５−（１−メト
キシカルボニルメチルテトラゾリル）チオメチル）−１
−デチアー１−オキナー３−１フェムー４−カルボン酸
トリプルオロ酢酸塩 ７ｇ−メトキシ−７β−（Ｄ−２−（４−メー（５−（
１−メトキシカルボニルメチルテトラゾリル）チオメチ
ル〕−１−デチアー１−オキｔ−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステル７０岬を無水塩化メ
チレン３−に溶解後、アルゴン気流下、０℃でトリフル
オロ酢酸ｉアニソール（λ５　：　１）５６０ｍを加え
、量温度で２時間撹拌した。減圧下溶媒奮去後、エーテ
ル−（ｎ）−へ牛サン（１：　１）を加えて、７ｇ−メ
トキシ−’ＩＩ−（Ｄ−２−アｔ／−２−（４−へイド
ロキシ７ＪＬニル）アセタ１　Ｆ）−３−（５−（１−
メトキシカルボニルメチルテトラゾリル）チオメチル〕
−１−デチアー１−オキサ−３−セフェム−４−カルボ
ン酸トリプルオロ酢酸塩毫得た。

赤外線吸収スペクトル（ｄｌ、ヌジ嘗−ル）１７７０．
１７５０，１７００，１６６０．１６０５ＮＭ＆ｘぺｌ
　）ル（ａ、ＤＭ８０−ｄ、）３．３６　（３ｉ（、ｓ
） ３．７２　（３１−１，ｓ） ４．１５　（ｌｉ（、ｄ、　Ｊ諺１３）４３５　（ＩＨ
，ｄ、　Ｊ−１３） ４．５０　（２Ｈ，ｂｒｉ） ４．９０　（ＩＨ，ｓ） ５．１２　（ＩＨ，ｓ） ５．４５　（２Ｈ，ｌ） ６．７７　（２鴇ｄ、　Ｊ−９） ７．２５（２川ｄ、　Ｊ寓９） ＆４５　（２［ｂｒｓ） ９．７２　（１）ｆ、　Ｉ） ｇ）７ｇ−メトキシ−’ＩＩ　−（Ｄ−２−（６，７−
ジハイドロキシー４−オキソ−４）１−１−ベンゾビラ
ン−３−カルボ牛′？ミド）−２−（４−ハイドロキシ
フェニル）アセタミド）’−３−［５−（１−メトキシ
カルボニルメチルテトラゾリル）チオメチル〕−１−デ
チアー１−オキサ−３−セフェム−４−カルボン酸 ７ｇ−メトキシ−７に〔Ｄ−２−アミノ−２−（４−ハ
イドロキシフェニル）アセタミド〕−３−（５−（ｔ−
メトキシ力ルポニルナメチｌづルテトラゾリル）チオメ
チル〕−１−デチアー１−オキ−？−３−セフェムー４
−カルボン酸トリフルオロ酢酸塩３０ｍＷ（０，０４８
（９−ｔ−ル）をテトラヒドロフラン１−に懸濁後、室
温撹拌下Ｎ、０−ビス（トリメチルシリル）アセタミド
３５．ｍ（０，１４４リモル）を加えた０次いで０℃に
冷却後、６．７−ジハイド四キシー４−オキソ−４Ｈ−
１−ベンゾビラン−３−カルボニルクロライド１０”ｆ
（０，０４２ｔ９４ル）を加え、同温度で３時間撹拌し
た０反応液を水冷した０、３Ｎ塩酸２０Ｍｄ中に加え、
析出した結晶を炉層し、水洗後乾燥して、７ｇ−メトキ
シ−７β−（１１−２−（６，７−ジ八イドロキシ−４
−オキソ−４１４−１−ベンゾビラン−３−カルボキサ
ミド）−２−（４−ハイドロキシフェニル）アセタミド
）−３−（５−（１−メトキシカルボニルメチルテトラ
ゾリル）チオメチル〕−１−デチアー１−オキｔ−３−
セフェム−４−カルボン酸１８１ｖを得た。収率”、４
７５１５赤外線吸収スペク′トル（ｏａ−’　、ヌジｒ
ル）１７６０．１６５０．１６２Ｏ ＮＭＲｘペクトｋ　（ａ、Ｉ）Ｂ８０−ｄ、）３．４０
（３Ｈ，ｓ）　　　　　５．７２（ＩＨ，ｄ、　Ｊ諺８
）３、？　０（３Ｈ，ｓ）　　　　　６．７２（２Ｈ，
ｄ、　Ｊ票８）４．１５（ＩＨ，ｄ、Ｊ−１２）　　ａ
９９（ＩＨ，８）４．３０（ＩＨ，ｄ、Ｊ閣１８）　　
７．２５（２Ｈ，ｄ、Ｊ−８）４３８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
１２）　　７．４０（ＩＨ，ｓ）４．５２（ＩＨ，ｄ、
Ｊ−１８）　　＆８５（ｌｉ（，５）ＥＬＯ２（ＩＨ，
Ｉ）　　　　　９．４０（ＩＨ，ｂｒｓ）５．４５（２
Ｈ，ｓ）　　　　　　１０．１０（１’Ｈ，ｄ、Ｊ　−
８）抗菌力　ＭＩＣ（μＩ／ｙｄ＞ エシェリヒア−コリ　　ＮＩＨＪ　　　　　　　　　（
１２（Ｅｓｃｈｅｒ、　ｃｏｌｉ） シェード毫ナス会アエルギノザ　　ＩＰ−１７番　　０
．８（Ｐｓｅｕｄ、　ａｅｒｕｇｉｎｏｓａ）クレブシ
ェラ・ニネーモニアエ　　ＭＫ−６く０．０５（Ｋｌｅ
ｂ、　　ｐｎｅｕｍｏｎｉａｅ　）シュードモナス・マ
ルトフィリア　ＢＰ−１２１，５６（Ｐａｅｕｄ、　ｍ
５ｌｔｏｐｈｉｌｉａ）セラチア・マルセッセンス　　
　　Ｂ５−７５　　　＜０．０５（８ｅｒ、　ｍａｒｃ
ｅｓｃｅｎａ） プクテウス・毫ルが二　　　　　　ＩＦ−１４０，４（
Ｐｒｏｔｅｕｓ　ｍｏｒｇａｎｉ　りプ四テウスΦブル
ガリス　　　　　Ｂ−１８０，４（Ｐｒｏｔｅｕｓ　ｖ
ｕｌｇａｒｉｓ）実施例２ ７−−メトキシー７ｌ−（ＤＩ−（６，７−ジハイドロ
キシー４−オキソ−４Ｈ−１−ベンゾビラン−３−カル
ボキサミＰ）−２−（４−ハイド−今ジフェニル）アセ
タミド）　−３−［５−（１−カルボキシメチルテトラ
ゾリル）チオメチル］−１−デチアー１−オキサ−３−
セフェム−４−カルボン酸 ７ｇ−メトキシ−７１−（Ｄ−２−（６，７−ジハイド
ロキシー４−オキソ−４Ｈ−１−ベンゾビラン−３−カ
ルボキサ這ド）−２−（４−ハイドロキシ７エニル）ア
セタミド）−３−（５−（１−メトキシカルボニルメチ
ルテトラゾリル）チオメチル〕−１−デチアー１−オキ
ｔ−３−セフェム−４−カルボン酸２１”１ｌ（０，０
２８ｉリモル）をメタノール９００μｌに溶解後、　０
℃で０．１Ｎ−水酸化ナト９ウム８５４μ！加え９間温
度で１．５時間撹拌した。反応液をＩＮ−塩酸で中和し
た後、溶媒を習去した。残渣に水を加え、ＩＮ−塩酸に
て酸性にした後、析出する結晶を炉層し。

水洗後乾燥し、７ｇ−メト牛シー７ＩＩ−ＣＤ−２−（
６，７−ジハイドロキシー４−オキソ−４Ｈ−１−ベン
ゾビラン−３−カルボキサミド）−２−（４−ハイドロ
キシフェニル）アセタミド〕−３−（５−（１−カルボ
今ジメチルテトラゾリル）チオメチル〕−１−デチアー
１−オキす−３−セフェム−４−カルボン酸１１ｊｌｌ
ｆＧＩＩた。

収率：５３９６ 赤外１１ｍ吸収スペクトル（ｅｌｌ、ヌン曹−ル）１７
７０．１６６０，１６２０．１６１ＯＮＭルスペクトル
（ａ、ＤＭ８０　　ｄｓ　）３．３６（３Ｈ，ｓ）　　
　　　６．９９（ＩＨ，ｓ）４．１８−４４２（４ｉ（
、ｆｎ）　　　７．２４（２Ｈ，ｄ、Ｊ−８）５．００
（２Ｈ，Ｉ）　　　　　７．４２（ＩＨ，ｓ）５．０５
（ＩＨ，ｍ）　　　　　＆８５（ＩＨ，ｓ）５．７２（
ｉｔ（、ｄ、Ｊ−８）　　９．３５（１鴇ｌ）収γ２（
２）１．　ｄ、　Ｊ禦８）　　ＩＱ、１５（ＩＨ，ｄ、
Ｊ聰８）抗菌力　ＭＩＣ（μｆ／−） エシェリヒア・コリ　　ＮＩＨＪ　　　　　　　　　　
Ｏ，２（Ｅｓｃｈｅｒ、　ｃｏｌｉ　） シェードモナス・アエルギノーザ　　ＩＰ−１７４１，
５６（Ｐｓｅｕｄ、　ａｅｒｕｇｉｎｏｓａ　）クレブ
シェラ・ニエーモニアエ　　ｇＫ−６く０．０５（Ｋｌ
ｅｂ、　　ｐｎｅｕｍｏｎｉａｅ）シェードモナス・マ
ルトフイリア　Ｈｐ−１ｚ　　、ａ、ｔａ（Ｐｓｅｕｄ
、　ｍａｌｔｏｐｈ目１ｔａ）セラチア・マルセッセン
ス　　　　ＢＳ−’１５　　く０．０５（ｄｅｒ、　ｍ
ａｒｃｅｓｃｅｎｓ） プロテウス會モルガニ　　　　　　ＥＰ−１４０，８（
Ｐｒｏｔｅｕ＠ｍｏｒｇｍｎｉｉ　）プロテウス・ブル
ガリス　　　　　Ｅ−１８０，８（Ｐｒｏｔｅｓｔ　ｖ
ｕｌｇａｒｔｉ）特許出願人 工−ザイ株式金社

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 〔式中、札は水素原子または水酸基、〜言置換基を有し
   ていてもよい含窒素複素環基を示す、〕で表わされるｌ
   −デチアー１−オ牛す−３−セフェム誘導体およびその
   非毒性塩
2. （２）一般式 〔式中、ル、は水素原子または水酸基、几−よ置換基を
   有していてもよい含窒素複素環基を示す、〕で表わされ
   る化合物またはその塩に一般式で表わされる化合物また
   はその反応性誘導体を反応させることを特徴とする。一
   般式 〔式中、Ｒ１および鵬の定義は前記に同じ〕で表わされ
   る化合物またはその非毒性塩の製造法