JPS5887294A

JPS5887294A - 微小部分表面処理方法及びその装置

Info

Publication number: JPS5887294A
Application number: JP56184698A
Authority: JP
Inventors: Koichi Shimamura; 島村　好一
Original assignee: SONITSUKUSU KK
Current assignee: SONITSUKUSU KK
Priority date: 1981-11-18
Filing date: 1981-11-18
Publication date: 1983-05-25
Also published as: JPS627279B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、メッキ及び逆メッキ、レジスト膜剥離、部分
酸洗い処理、部分脱脂処理等を特定の微小部分域に限定
して行なうようにした微小部分表面処理方法及びその装
置に関する。

一般に、限定された部分を表面処理する場合は、被処理
面を残した他処を１スキングし、所定の処理を行な−う
のが周知であるが、被処理面が極ハて微小でめる場合や
正確且つ多量同時処理を行なうような場合には、マスキ
ングのみでは処理不可能であって、夫々の処理内容に応
じた処置が必要でるる。

例えば、微小部分メッキを行なう方法の一例として、メ
ッキ処理を必要とする部分以外の処に、耐メツキ液性の
メツキレシスト膜を塗布し、次いで通常のメッキ処理を
行なった後このメツキレシスト膜を除去する手段がある
。

この場合、予じめメッキパターンに対応する反転（ネガ
ティブ）パターンが形成された謄写スクリーン等により
、被メッキ面にレジスト膜を印刷するのであるが、この
時印刷位置誤差が極値がでも生じ易い。

殊に、多量生産処理方式の場合＃ｉ、長尺のフープ状素
材に上記手段でレジスト膜を印刷すると、その位童精度
の集積誤差が生じるため、次工程のプレス加工段階では
ブランク（打抜き）形態とメッキ／＜Ｊ−ンがズレると
云う不良品を発生してしまうと云う不都合な問題がめっ
た。

次に逆メツキｔ一部分的に行なう場合について説明する
。

一般に、全面を卑金属等でメッキされた材料がコンタク
ト等に広く応用されているが、この材料−は所謂る１リ
テイン材でろって、銅合金の上面に銅下地をつけ、最終
仕上げとして錫をメッキしである。

一方、ＩＣ等の集積回路素子の発達に伴い、プリント基
板等の実装密度が高くなり、接続用のコンタクトも小さ
くなっているが、錫メッキの場合は接点圧力が約４００
ｇ以上ないと、温度上昇及び電圧降下やノイズ発生等を
生じ信頼性を保持できない。

従つ一１製品のサイズが１９小型になると銅合金、例え
ばリンｉ銅でも充分上記の接点が得られないため、全接
点の利用が望ましい。

然し乍ら、周知の如く全接点の採用は、コスト向で実用
的でないため、プリティン材の錫を一部剥離した後、金
を部分的にメッキすることに１９接点圧力ｔ−１０〜１
００９程置に落すことができる。

このように錫メッキを剥離する際、その剥離部分は極め
て一小且つ正確な位置決めが必要となるが、本発明者の
知る限りに於いては微小部公達メツ千手段は未だ提供さ
れていない。

次に、部分的酸洗い処ｊｌをする場合について説明する
。周知の如く金属の表面にメッキ処ａｔ−７る場合には
、前処理として酸洗い工程が必要でるる。

この時被メッキ材は、その全面積を処理するのが普通で
るるか、メッキ処理部が微小であえ且つ多量処理する場
合には、必ずしも全面積の処ｍｔ−必豐としない。

即ち、連続微小部分メッキ処理をする際、メッキ処理速
度との対応に１９、酸洗い工程も必要面積だけ処理する
方がメツキライン等との生産タクトの同期が計ｎること
、酸洗い乃至メッキ処理設備が小型化になること、更に
処理済の排液処理工程でも鍍洗い面積に比例した後処理
工数と設＠を要するため、部分酸洗いに工すこれらが軽
減される等の利点がろる。

このように部分酸洗い処理が望ましいのにも拘らずやは
り未だこの処理手段及び設備は提供されていない。

又、金栖の表面にメッキ処理をする場合、前処理と峙て
脱脂工程を必要とするが、これも材料の全面′積に挾り
処理することが普通である。

然し乍らメッキ処理部が微小で１１且つ多量処理する場
合には、必ずしも全面積の処ｍを必要としない。

即ち、メッキ速度との対応により、脱脂工程も必要な山
積だけ処理する方のが、メツキラインの生産タクトの同
期が計れる上、メッキ処理設備の小型化が可能となり、
又その工程で発生する排液処理工程も脱脂処理面積に比
例しているから処理装置の負荷も軽減できる。

然るに、現在の処微小部分脱脂の手段及び装置は提供さ
れていない。

本発明は、畝上の諸問題に鑑み成さ扛たもので、その主
目的とする処は、被メッキ物にメッキ「シスト膜を塗布
した後、必要な位置及び特定パターンの微小部分に限定
して正確に且つ連続的にレジスト膜を剥離し、長いフー
プ状の被メッキ材にも集積１差が出ないようにした量産
性に富む微小部分表面処理方法及びその装置の提供にあ
る。

又、本発明の他の目的とする処は、全面を卑金属等でメ
ッキされた、例えばプリティン材の特定微小部分に限定
して、正確に且つ連続的に卑金属メッキ面を剥離する逆
メッキを行ない、その後に貴金属を部分メッキ可能とし
た微小部分表面処理方法及びその＃ｃＩｉの提供にある
。

更に本発明の他の目的とする処理、被−メッキ物の特定
微小部分に限定して酸洗い処理を行ない、処理済部に対
する部分メッキ等他の工程との同期化による生産効率の
向上と、メッキ処理設備全体の小型化及び排液処理装置
の負荷軽減を可能とし。

た微小部分表面処理方法及びその装置の提供ｖｃｈる。

東に又゛、本発明の他の目的とする処は、被メッキ物の
特定微小部分に限定して脱脂処理を行ない、部分メツキ
ラインの生産タクトの同期が計れると共に、メッキ処理
設備全体の小型化及び排液処理装置の負荷軽減を可能と
した微小部分表面処理方法及びその装置の提供にある。

以下に本発明の数実流側を説明するが、先ず第１図に基
づきメツキレシスト膜を部分的に剥離する実施例につい
て説明する。

通常、多量に部分メッキをする場合、メッキ処理の後工
程でプレス加工をするため、メッキ位置とプレス位置と
を合致させる必要がある。

本実施例では、予じめフープ材にブレス位ｖＩＩＬケ決
定するパイロット穴を穿設し、このフープ材にメツキレ
シスト膜を一様に連続塗布した後、後述の手段によりレ
ジスト膜専用の剥離溶剤て以ってレジスト膜を部分的に
溶解除去し、所定の位置をメッキ可能とする。又、後述
の如く剥離溶剤の噴射ノズル及びマスクによシ剥離形状
管決定できる。

伺、パイロット穴をフープ材に加工しない場合には、剥
離溶剤噴射ノズルの位置全数値制御（ｎｕ−−ｍａｒｉ
ｃａｌ　ｃｏｎｔｒｏｌ　）によシ、正確に出し得る。

次に、レジスト膜剥離手段について詳述する。

一般Ｋ、レジス）Ｊｌｌ、セルロースエステル及びエー
テル等を主体とした素材で形成されるものであるから、
ラッカー溶剤で溶解可能である。

然し、一般のアセトン、トルエン、酢酸正ブチル等で代
表されるラッカー溶剤は、蒸発速度が速く、又粘度も低
い。

このため、本実施例では、水又はメッキ液程度の粘性を
有し且つレジスト膜除去後膳出した素材の表面を損なわ
ない液質（例えばｐＨ＝７）の液と、ラッカー溶剤と全
所定比率で混合した液体（以下溶液と云う）を用いる。

以下にレジスト膜剥離装置の具体例について説明する。

予じめレジスト膜を塗布した被メッキ材１と対向して、
溶液噴射装置２を配設してろって、該溶液噴射装置２は
、剥離部を決定する透孔６が穿設され良マスク４と、こ
のマスク４を介して被メッキ材１に溶液を噴射するノズ
ル５と、上記マスク４と合体して密閉空間を形成し且つ
内部にノズル５等を配設した外套管６と、外套管６に連
結した吸気機構７とで構成しである。

上記吸気機構７は、外套管６に連通ずる吸気パイプ８を
介して、吸気したガス内に混入している溶液ヲ分離する
フィルタ９及び吸気ポンプ１０ヲ連結し、更に吸気ポン
プ１０の排気側に活性炭１１ヲ配して、排気中に含有さ
れる揮発した溶液を完全吸収せしめるようにした構成で
ある。

又、前記ノズル５の下端にミキサー１２を連結してオシ
、このミキサー１２の一方の供給口には溶剤調整弁１３
を介して溶剤タンク１４ヲ連結し、前記ラッカー溶剤が
供給されるようにしてろって、ミキサー１２の他方の供
給口に液体調整弁１５ヲ介して液体タンク１６ヲ連結し
、前記水又は粘性付与液体が供給されるようにしである
。

上記ミーキサ−１２では、ラッカー溶剤と水又は粘性付
与液体が供給されて前記溶液を混成し、ここからノズル
５に溶液を加圧供給する。

又、前記外套管６の底部にＦｉ、送液弁１７ｔ−介し混
合液分離タンク１８ｔ一連通してあり、ここに液面制御
等により溶剤と水等全分離する多段構成の分離タンク１
９、及び同２０を連結し、更に、上記混合液分離タンク
１８の＠部には、送水弁２１　を介して水タンク２２ヲ
連結しである。

陶、混合液分離タンク１８及び複数の分離タンク１９　
、２０の溶剤排出部は、前記溶剤タンク１４に接続し、
他方水排出部と前記水タンクｌの送水口は共に前記液タ
ンク１６に接続してろって、夫々溶剤及び水を循環再使
用可能になっている。

ここで、マスク４及びノズル５について説明する。

先ずマスク４は、外套管６の上方開口部・に固着し、こ
の外套管６内を密閉空間と成すものでるりて、そのマス
ク本体ツには、メツキレシスト膜の剥離形態に対応する
形状及び寸法の透孔６を所定位置に任意数穿設しである
。

又、ノズル５は、メツキレシスト膜剥離面麺に対応した
内径の細管状にしてろって、前記ミキサー１２から所定
圧力に加圧された溶液を噴射するものである。

畝上の構成に於いｘ１溶剤タンク１４内の溶剤と液タン
ク１６内の液体とをミキサー１２により混合し、所定粘
度の溶液を生成した後、ノズル５からマスク４を介して
被メッキ材１に噴射する。

上記溶液は、前記した如く所定粘度が付与されているの
で、濡れ性が低く、被メッキ材１のレジスト面とマスク
４０間に形成きれる微少間隙に流れ込む心配は無い、従
って、マスク４の透孔６で決定される微小範囲のみメツ
キレシスト膜が剥離できる。

このようにして剥離処理’ｔｆｉ！ｒませた溶液は、外
套管６内底部に貯まる。ここで溶剤の揮発成分（−ガス
）は、吸気パイプ８′ｆ！：介してフィルタ９に吸引さ
れ、そこでガス中に混合している溶剤を分離する。一方
ガス、自体は、吸気ボンダ１０により活性炭１１を介し
排出されるが一排気中に含まれる揮発した溶剤が活性炭
１１で吸収される結果、環境衛生の保持や火災等の災害
も防止することができる。

又、フィルタ９によシ回収された溶剤社、図示しない回
収器を介して前記外套管６に環流する。

更に、外套管６の底部に貯留した溶液は、送液弁１７の
開弁操作によシ混合液分離タンク１８及び分離タンク１
９　、２０に送られ、溶剤と水等の液体との比重差を利
用して夫々分離し、水等に不溶性の薬品の場合は自然に
分離された溶剤を再利用に供する。

同、送水弁２１の開弁操作により混合液分離タンク１８
に貯留した水ｑｔ−水タンクｎに送給し、ここから液タ
ンク１６に供給する。

以上のようにしてノズル５から噴射された溶液は、被メ
ッキ材１の剥離をした後、余剰の溶液と共に吸気ポンプ
１０で速やかに吸引回収分離され再利用する一方、揮発
ガスも回収清浄化されて排気されるので、極めて効率が
良く、又公害処理上も問題はない。

又、溶剤のみでは粘度が低い処からマスク面とレジスト
面の間に生じるわずかな隙間に流入して剥離形状を損な
うが、本実施例では、溶剤の粘度を高くしてこｒｔｔ−
確実に防止している。

従ってマスク４の透孔３で決定する範囲と、外套管６内
でノズル５から噴射さ扛た溶液や、ガス等ｔＩＪｋ引回
収することと相俟って、微細で正確なパターンの剥離が
可能となる。

上記マスク４は、必要に応じて種々の態様とするもので
ＩＣ１例えば第２図に図示の如く、マスク本体ツに透孔
６とｉスフ４の外部と連通する水平溝２４ｔ−任意数形
成し、外気を外套管６内に導入可能として、ノズル５か
ら噴射された溶液の滞留を防°止し効率と精Ｉｔ高める
ようにすることができる。

この場合、透孔６の下側は傘状に開口したテーパ一部２
５を形成し、又、水平溝２４も透孔６から噴射きれた耐
液柱に対し偶力を作用せしめる位置関係に形成すること
により、液柱を旋回状に成し溶液の拡散防止を図ること
ができる。（第３図参照）更に第４図に図示の如くマス
ク本体３に、外部と連通し且つノズル５と平行方向の縦
溝２５を透孔３の外周に任意数配設することによって、
ノズル５〃・ら噴射さｔ′した溶液柱の外周に、柱状の
気流を形成し、溶液柱の側圧を小さくして、拡散しよう
とする使用済の溶液をこの柱状気流の方に吸い込んだり
、或いは直接触れさせて強制移送排除することができる
。

これによって、透孔３近傍に生じる溶液の淀みによる背
圧発止現象を無くシ、常時新鮮な溶液を高速で噴射可能
ならしめ、連続的な処理を効率曳く行なえる。

次に、逆メッキを部分的に処理する場合について説明す
る。

ＷＪｓ図に於いて、被逆メツキ材ａｉＦｉ、前記した如
く卑金属（例えば錫−３ｎ）メッキ層波が処理されたプ
リティン材である。この錫メッキ層Ｉｔ微小部分的に剥
離する部分逆メッキ装［品は、逆メツキパターン及び寸
法に対応し九透孔５４’を穿設したマスク犯と、このマ
スク犯の装着により密閉される外套管品と、該外套管品
の内部を負圧にする次めの吸引ポンプ３７と、外套管お
内でマスク犯と対向配設され且つ流量調整弁３８ｔ−介
してメインタンク６９に接続されたノズル菊とで構成し
、メインタンク９に苛性ソーダ□ＪａＯＨ）液を主剤と
した電解液を充填しである。

上記ノズル４０は、電源４１に接続したタイマー４２で
制御され、又ノズル４０は一極に接続し、被逆メツキ材
３１　’に十極に接続しである。

一方、外套管品の底部には、用済後のＮａＯＨの電解液
ｔ　ＩＪザーバタンク葛に送るためのバルブ赫を連結し
、又、このリザーバタンク４内にフィルタ４５を配設し
て、電解液中に沈澱する８ｎ　（ＯＨ）　２　ｆ分離せ
しめ、ポンプ恥によシ前記メインタンク３９に電解液を
送給すると共に、このメインタ／り６９にもリザーバタ
ンク葛に環流するリターンパイプ４フヲ設けて、メイン
タンク３９の液レペｋ”一定に保持するようにしである
。

畝上の構成に於いて、ノズル荀及び被逆メツキ材３１に
通電し、加圧されたＮａＯＨ液全ノズル初から逆メツキ
処理部に噴射すると、マスク犯の透孔９で規制された範
囲のみが１ＪａＯＨ液に浸される。

この結果、被逆メツキ材６１（＋極側）では錫が電気分
解され、電解液の中に溶は出すが、電解液のＯＨ−基と
結びついて、Ｅ３ｎ”　”　＋　２０Ｈ−＝　８ｎ　（
ＯＨ）２の反応が生じて白色膠状の水酸化第１錫が沈澱
（換梠丁れば、Ｂｎメッキ層９が剥離）するが、吸引ポ
ンプ５７により外套管品の外部に排除される。

又、被逆メツキ材３１に＃ｉ０２ガスが生じ、ノズル荀
の内面に＃ｉＨ２ガスが多量に発生する。

然し、吸引ポンプｇによって、電解液が速やかに被逆メ
ツキ材３１の表面から排除され、その結果電解液の流速
が速くなり、Ｈ２，Ｏ□のガスは共に電解液によって除
去されるため、逆メツキ効率が充分尚められる。

上記した逆メッキの作用は、タイマー々で所定時間だけ
処理され、必要な部分のみ錫のメンキ膜を剥離する。

このように特定の微小範囲を正確に剥離した恢、微小部
分メッキ手段（例えば特願昭郭年第１２５７８３号、Ｉ
ｌ！！願昭泌年第１３４４９３号、％願昭郭年第１３４
４９４号）により金等の貴金属メッキを処理することに
より、プリティン材の特定部分を高精度で以つで貴金属
メツキナ処理可能となる。

次に、逆メッキの他の実施例について説明する。

これ祉、被逆メツキ材５１の素地金属が銅又は銅合金の
場合、そこにメッキされた錫等の卑金輌メッキ層５２ｔ
−剥離する金属剥離原理、塩化第２鉄及び塩酸等の混合
溶液を主剤としたものである。

部分逆メツキ装置品は、第６図に示す構成でるる。

剥離パターンに対応する透孔ヌが穿設されたマスク団と
、マスクＥ１３を装着することにより密閉される外套管
シと、外套管Ｓに連通し且つ内部を負圧にする吸引ボン
プリと、外套管％内に於いて前記透孔ヌと対応して配設
されたノズル団とから成り、このノズル郭から前記金属
剥離液を加圧噴射するようにしである。

該ノズル扇には、バルブ９及び流量調整弁ωを介して剥
離液タンク６１ヲ連結し、又、′パルプ９Ｆｉタイマー
Ｃによシ制御可能としである。

−−一方繭記外套管おの座部に、は、排液弁６３を介し
てリザーバタンク況に連結し、ノズル郭がら噴射した使
用済の剥離液ヲリザーパタン久蘭に貯留可能としである
。

上記リザーバタンク況は、送液ポン１品を介して前記剥
離液タンク６１に接続し、剥離液をここに環流するよう
にしてあり、又、剥離液タンク６１内の液量會一定値に
保持するためのリターンパイプ６６を、この剥離液タン
ク６１に接続しである。

以上の構成に於いて、前記タイマーＣで設定された一定
時間だけ、ノズル団から金属剥離１１［を噴射すると金
属剥離液φの塩酸（ａＣｌ）が錫（８ｎ）を溶かし、８
ｎＯ１２となる。

この５ｎ０１２が第１鉄イオンを還元し第１鉄イオンと
なるが、この時放出された電子によって錫はイオン化さ
れ金属剥離液中にイオンとなって溶は出す。

このＬうに、錫が急速に溶は出して被逆メツキ材５１の
錫メッキ９社が溶解されるから、マスク５の透孔飄で規
制される範囲内だけ錫が剥離する。

勿論、剥離した部分には前記の如き貴金属の部分メッキ
を処理すれば良い。

狗、リザーバタンク蘭に回収され次剥離液は、定期的に
交換して剥離能力を維持させる。

又、マスク５は、前記したメツキレジス）Ｍ剥離のマス
クと同様Ｑｌｌ様を採ることができる。

次に、微小部分酸洗いについて説明する。

前記した如くメッキの前処理として必要な酸洗い処理の
際、真に必要な部分のみを酸洗い処理した方のが設備的
にも好ましい。本実施例に係る微小部分酸洗い装置は、
前記実施例の部分逆メッキ装置と同じ構成で良い。

但し、金属剥離剤の代シに希硫酸（ＨＣ！１７等の強酸
性液を用いるが、この希硫酸等をノズルからマスクを介
して被メッキ材の特定部分に噴射し、この被メッキ材の
表面を化学的に溶解するので、電源等は不要で多る。

従って、酸洗い処理は、単に温度、時間、強酸性液の流
速等を制御し、又、使用済の液体１末、吸引装置によっ
て強制排除されるから、狭隘な、マスク乃至ノズル閣に
於いても液体が滞留する惧れは全く無く、他めて正確な
微小部分酸洗い処理が連続的に行なえる。

勿論マスクの形１！１は、前記レジスト膜剥離手段と同
じ態様のものｔ用−いることが可能でるる。

以上の１５にして必要な微小部分面積のみを鐵洗いする
乙とで、メツキライン等の生産タクトの周期が計れる上
、メッキ処場設匈が小部化できること、又酸洗い処理装
置全体の負荷が軽減できる等の効果が得られる。

次に、微小部分脱脂について説明する。

仁れも前記した如く、メツ！？前処理として脱脂工程ｔ
６１ｐｅとするが、真に必要な部分のみ脱脂すれに良い
。

この手段としては、前記鄭公達メツΦ装置と同じ装ｗＬ
會用いるが、金属剥離剤の代りに荀性ソーダ（ＮａＯＨ
）’ｌｒ主成分とする電解脱脂Ｗｉを使用する。

この場合は、メッキ等と同様に電源を必要とするが、ノ
ズル及び被メッキ材（被脱脂材）の両電極共極性を特定
せずいづれかを十極又は−極とし、他方をその逆極性と
して電圧を印加すれば良い、。

又、他の手段としては、苛性ンーーダ（ＮａＯＨ）ｔｌ
−主成分とする浸漬脱脂液を用いるものである。

この場合Ｗ１化学的反応を利用した脱脂であるため電源
は不要である。

以上の部分脱脂手段の作用効果は、前記微小部分酸洗い
と同じでらるため、その説明を省略する。

以上の如く、本゛発明によれば、処理パターンに対応し
た透孔が穿設されたマスクと、マスクの装着によシ密閉
可能な外套管と、外套管内に配設し且つマスクに対向す
るノズルと、外套管内金負正にする吸引ポンプ等を具備
し、ノズルにはタンクを連結して、このタンクから、レ
ジメ）Ｊ［剥離用の溶液や一金属剥離剤や、酸洗い処理
液或いは脱脂処理液をノズルに加圧供給する工うにしで
あるから、次の工う３な効果が得られる。

（１）メツキレシスト膜を塗布した被メッキ物の必要な
位置に、マスクの透孔で決定される微小形態のレジスト
膜剥離部を、滲みの無い状態で正確に形成することが可
能てあ夛、又使用横の溶液及びガス等を速やかに強制排
出して、高速で連続的にレジスト膜を剥離し高度の生産
性を得ることができる。

（２）表面を卑金楓等でメッキされた例えばプリティン
材等の必要な位置に、マスクの透孔で決定される微小形
態のメッキ剥離部を正確に形成して、そこに貴金属等他
種のメッキ処理を可能とし、卑金輌メッキ面のうち真に
必要な箇所のみに貴金輌メッキを用いると云う極めて合
理的であり、低廉性に富むものである。

又、使用済の金楓剥離剤やガス等は速やかに強制排除さ
れるから、高度の処理速度で以って連続処理が可能とな
り、生産性が高い。

０）メッキ処理の前工程で酸洗い処理ず°る際、被メッ
キ物の真に一必賛な箇所に、マスクの透孔ア決定される
微小面−槓に亙って酸洗い処理が行なえ、又、使用済の
酸洗い処理篇は強制排除されるので連続処理が可能であ
り、メツキラインの生産タクトの同期が取れる上、メッ
キ設備が小型化となり、且つ排液処理装置の負荷も少な
い。

（４）メッキ処理の前工程で脱脂処理する際、被メッキ
物の真に必要な箇所に、マスクの透孔で決定される微小
面積の脱脂処理が行なえ、使用済の脱脂処理液の強制排
除による連続高速度処理・が可能どなり、メツキライン
の生産タクトの同期が取れるばかりか、メーツキ設備も
小型化となり、且つ排液処理装置の負荷が軽減される。

（５）各処理に際して必要とする設備は、簡素化された
構成であり、耐久性と信頼性を有し且つ廉価に設置及び
維持することが可能である。

【図面の簡単な説明】

各図は本発明の実施例に係るもので、第１図はメツキレ
シスト膜部分剥離装置の構成金示す説明図、第２図は同
上装置に於けるマスクの実施態様金示す要部縦断面図、
第３図は同上マスクの平面図、＠４図は同じく他の実施
態様に係るマスクの要部縦断面図、第５図Ｆｉ部分逆メ
ッキ装置の構成を示す説明図、第６図は部分逆メツキ装
置の他の実施例の構成を示す説明図である。６　、況、５４・・・透・孔４、犯、５５・・・マスク５．４０．５８・・・ノズル６．３６．５６・・・外套管１０　、３７　、５７・・・吸引ポンプ１２・・・ミキ
サー１４・・・溶剤タンク１６・・・液体タンク１８・・・混合液分離タンクｎ・・・水タンク２４・・・水平溝 δ・・・縦溝葛、６４・・・リザーバタンク６９・・・メインタンク６１・・・剥ｍ液タンク

Claims

【特許請求の範囲】

（１）被表面処理材の特定微小面積をマスクで囲繞し被
処理部を決定するマスキング手段と、マスキングにエリ
密閉空間を形成し且つこの密閉空間内に於いて特定微小
面積に対し表面処理液をノズルする手段と、強制排除さ
れた表面処理ａｔ密閉空間内から排出する手段と、密閉
空間から排出された使用済の表面処理液を再生し前記ノ
ズルに環流する手段とから成る微小部分表面処理方法。
（２）表面処理液を噴射するノズル及び、被表面処理材
を夫々所定極性の電極とし、且つ両電極間に直流電圧を
印加して電解表面処理をするようにした仁と會特−とす
る特許請求の範囲第１項記載の微小部分表面処理方法。
（３）被表面処理材はメツキレシスト膜とし、又表面処
理液は例えば、ラッカー溶剤等のレジスト膜剥離溶剤と
し、且つこの溶剤にはこれより高粘度の液体を混合して
所望の粘性を付与し、メツキレシスト膜を特定部分だけ
剥離するようにしたこと１＊微とする特許請求の範囲第
１項記載の微小部分表面処理方法。
（４）被表面処理材は銅又は銅合金の素地に卑金属メッ
キを処理した素材でるり、表面処理液は塩化第２鉄及び
塩酸等の金属剥離電解液とし、上記卑金属を部分的に剥
離するようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の微小部分表面処理方法。
（５）表面処理液は希硫酸等の強酸性液とし、被表面処
理材の特定微小面積を酸洗いするようにしたことｆ：特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の微小部分表面処理
方法。
（６）被表面処理材は表面に卑金属をメッキした例えば
プリティン材等でｌ）、表面処理液は苛性ソーダ等の電
解液とし、上記卑金属を部分的に逆メッキするようにし
たことを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の微小部
分表面処理方法。
（７）表面処理液は苛性ノーダ等を主成分とする電解脱
脂液とし、被表面処理材の特定微小面積を脱脂するよう
にしたことを特徴とする特許請求の範囲ｗ、２項記載の
微小部分表面処理方法。
（８）表面処理ｇは苛性ソーダ等を主剤とし九浸漬脱脂
液とし、被表面処理材の特定微小面積を脱脂するように
したことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の微小
部分表面処理方法。
（９）被処理形態に対応する透孔が穿設されたマスクと
、このマスクの装着により密閉される外套管と、外套管
内にマスクの透孔と対向配設されたノズルと、外套管内
を負圧にする吸引機構とを具備し、且つノズルには表面
処理液が充填され九タンクを連結し、外套管には使用済
の表面処理液を収納する容器を連結し、タンクと該容器
の間には表面処理液を再生してタンクに送給する機構を
介装して成る微小部分表面処理装置。
（１０）　、ノズルと被表面処理材を夫々所定極性の電
極とし、且つ両電極に直流電源を接続して、電解表面処
理を―■能とじ友ことを特徴とする特ｔ’ｉ請求・・範
囲第９項記載の微小部分前（３）処理装置。
（１１）レジスト膜剥離用の溶液を充填するタンクと、
該溶液の粘ｉｔ−高める液体を充填するタンクの両方に
連結されたミキサーを、前記ノズルに接続し次ことを特
徴とする特許請求の範囲第９項記載の微小部分表面処理
装置。
（１２）マスクには、透孔の周縁接線方向に外部と連通
し外気を導入する水平溝を任意数形成し、ノズルから噴
射される液体に尋人外気による偶力を作用せしめるよう
にしたことを特徴とする特許請求の範囲ｗＪ９項又は第
１０項のいづれかに記載した微”小部分表面処理装置。
（１３）マスクには、透孔の近傍にノズルと平行な縦溝
を任意数形成し、透孔近傍に於ける液体の淀みを尋人外
気により強制排除するようにしたこと全特徴とする特許
請求の範囲第９項又は第１０項のいづれかに記載した微
小部分表面処理装置。
（１４）ノズルに接続した表面処理液充填タンクには、
金属剥離電解液を充填し、外套管にはりデーパタンクｔ
ｌ−接続し、このりデーパタンクと前記金属剥離電解液
充填タンクの間に、フィルタ及びポンプ等の再生及び送
給機構を配設したこと全特徴とする特許請求の範囲第１
０項記載の微小部分表面処理装置。
（１５）ノズル及び被表面処理材の両電極間には、電源
及びタイマーを介装し、表面処理用電解液の電解処理作
用を制御するようにしたことを特徴とする特許請求の範
囲第１０項乃至第１４項のいづれかに記載した微小部分
表面処理装置。
（１６）ノズルには、流蓋調節弁及びバルブ等管弁して
表面処理液充填用タンクを連結し、このタンクには塩化
第２鉄及び塩酸等の混合液を主剤とした金属剥離液を充
填し、又外套管にはりデーパタンクを連結し、とのリザ
ーバタンクと前記タンクの間にポンプ等の送給機構を介
装した特許請求の範囲第９項記載の微小部分表面処理装
置。
（１７）ノズルに接続したバルブを、タイマーにより制
御する工うにしたことを特徴とする特許請求の範囲第１
６６項記載微小部分表面処理装置。
（１８）表面処理液充填タンクには、強酸性Ｑ會光填し
、被表面処理材の特定微小面積を酸洗い処理するように
したことを特徴とする特許請求の範囲第１０項及び第１
２項又は第１３項若しくは第１５項のいづれかに記載し
た微小部分表面処理装置。
（１９）表面処理液充填タンクには、苛性ソーダ等を主
成分とする電解脱脂液を充填し、被表面処理材の特定微
小面積を脱脂処理するｊ５１ｃしたこと全特徴とする特
許請求の範囲第１０項及び第１２項又は第１３項若しく
は第１５項のいづれかに記載し次微小部分表面処理装置
。
（２０）表面処理液充填タンクには、苛性ソーダ等を主
成分とする浸漬脱脂液を充填し、被表面処理材の特定微
小面積を脱脂処理するようにしたことを特徴とする特許
請求の範囲第９項及び第１２項又ｔま１Ｉｉ１３項のい
づれかに記載した微小部分表面処理装置。