JPS5892220A - 二段ロ−デイング機構 - Google Patents

二段ロ−デイング機構

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Publication number
JPS5892220A
JPS5892220A JP56190371A JP19037181A JPS5892220A JP S5892220 A JPS5892220 A JP S5892220A JP 56190371 A JP56190371 A JP 56190371A JP 19037181 A JP19037181 A JP 19037181A JP S5892220 A JPS5892220 A JP S5892220A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
loading mechanism
basket
furnace
loading
core tube
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP56190371A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuo Uoochi
魚落 泰雄
Haruo Shimoda
下田 春夫
Mamoru Maeda
守 前田
Mikio Takagi
幹夫 高木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP56190371A priority Critical patent/JPS5892220A/ja
Publication of JPS5892220A publication Critical patent/JPS5892220A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/30Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
    • H10P72/33Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H10P72/3312Vertical transfer of a batch of workpieces

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (1)発明の技術分野 本発明は拡散熱処理炉などにおけるローディング(装填
)機構に係わり、特に縦型炉に適用しうる二段ローディ
ング機構に関する。
(2)技術の背景 半導体製造プロセスにおいて、製品の品質や歩留りに重
大な影響をおよぼす工程として、拡散や酸化などいわゆ
る加熱炉を用いて行う熱工程があげられる。かかる熱工
程において、特に注意しなければならないことは、反応
ガスの濃度の均一性や炉内温度分布の均一性、さらにゴ
ミ、塵埃による汚染などの問題である。このために、加
熱炉自体はもとより、その付帯設備も含めて種々の改善
がなされている現状であり、例えばウェハのセット方法
に工夫をなす一方で、各種の自動化が進められている。
加熱炉自体に関しては、一般に横型の加熱炉が用いられ
、また炉芯管には石英ガラスが使用されており、一方炉
内へのウェハの出し入れはボートを使用し、このボート
を、例えば引出し棒を用いて炉芯管内を滑らせるように
移動させて行なっている。
しかし、かかるボートを移動させる際には、ボートと炉
芯管との接触抵抗が高まって機械的に炉芯管を傷つけ、
塵埃を発生させる原因となり、また石英ガラスに特有の
いわゆる失透現象と相まって、より一層塵埃とくにシリ
コンを含む石英粉を散乱させることになり、その対策が
望まれているところである。
(3)従来技術と問題点 従来、横型の加熱炉においては、例えばボートに走行用
車輪を設けて接触抵抗を減する方法が試みられているが
、これによっても十分な防塵は達成されていない。また
例えば第1図に示すように横型に代えて縦型炉を用いる
装置が提案されている。同図において、1は縦型の加熱
炉、2は炉芯管であるが、この炉芯管2の下方にローデ
ィング機構3を設け、このローディング機構3に接続し
てキャップ4およびバスケットステージ5を設けた構成
とし、前記バスケットステージ5にウェハを収納したバ
スケット6を搭載した後、モータ7の駆動によりローデ
ィング機構3が上方に移動し、図中点線で示す位置にバ
スケット6がセントされるようになっている。かかる縦
型炉を用いることにより、ウェハを炉芯管2に非接触状
態で出し入れすることが可能になり、前述した機械的に
発生する塵埃は防止し得るものの、この方法では、ロー
ディング機構3を含めたクリーンベンチ付近のスペース
(高さ)を比較的大にとらざるを得ないので、天井高さ
からの制約を受け、加熱炉1の有効長さが制限されるこ
ととなり、生産性の点で問題が大きいものとなっている
(4)発明の目的 本発明は上記従来技術の欠点に鑑み、縦型炉において、
ローディング機構のストロークを可及的に短くし得る二
段ローディング機構の実現を目的とし、これにより塵埃
の発生が予防され、かつ、加熱炉の有効長さを可及的に
大にすることが可能になる。
(5)発明の構成 本発明は上面にバスケットを搭載したキャップを炉芯管
の下端にローディングする機構と、前記バスケットを炉
芯管中央にローディングする機構との組合せから成り、
かつ、双方のローディング機構を縦型炉下方に並列に設
けたことを特徴とする。
(6)発明の実施例 以下、本発明の実施例を添付図面を参照して説明する。
第2図は本発明にかかる二段ローディング機構を示す模
式図である。同図において、11は縦型の加熱炉、12
は炉芯管であり、この加熱炉11の下方に第1のローデ
ィング機構13と第2のローディング機構14の組合せ
から成る二段ローディング機構が配設される。ここで、
第1のローディング機構13には炉芯管12を封止する
ためのキャップ15が設けられ、キャップ15はまた第
2のローディング機構14に設けた支柱16と滑動可能
に組合わされている。前記支柱16はキャップ15の移
動の案内となり、かつ、バスケット18を炉中央にロー
ディングするための支柱となるが、その上方部分が一部
炉芯管内へ挿し込まれるように配設されており、またそ
の上端にはつめ部】7が設けられ、このつめ部17が回
転してバスケット18を引掛けることができるように、
第2のローディング機構14には支柱16の回転機構も
設けられている。
かかる機構により、キャンプ15の上面にバスケットス
テージ19とウェハを収納したバスケット18を載せた
後、まず第1のモータ20を駆動して第1のローディン
グ機構13を作動し、キャップ15をバスケット18ご
と炉芯管12の下端にローディングする。次いで、第2
のモータ21を駆動して第2のローディング機構14を
作動すると、支柱16が回転してつめ部17がバスケッ
ト18と係合するようになり、続いて支柱16が上方へ
移動し、バスケット18は炉中央ヘローディングされる
。所定の熱処理などが終了した後は、前記ローディング
動作とはまったく逆の動作が行われ、まず第2のローデ
ィング機構14が作動してバスケット18が炉中を下降
し、炉の下端にあるキャンプ15上にローディングされ
、続いて第1のローディング機構13が動作してキャッ
プ15がバスケット18ごと図に示す最初の位置、すな
わちバスケラ)18を取り出せる位置までローディング
される。
(7)発明の詳細 な説明したように、本発明の二段ローディング機構は、
縦型炉の下方に並列に設けた二つのローディング機構の
組合せから成り、これによりローディングのストローク
、すなわちクリーンベンチ付近の高さがかなり短縮され
、縦型炉の空間の有効利用が可能になる。また、縦型炉
を利用し得る利点は、バスケットを炉と非接触状態で炉
芯管へ出し入れすることができるため、機械的な塵埃の
発生は防止され、かつ、石英ガラスの失透現象によって
生ずる塵埃も具合よく炉外へ排出することが可能となり
、製品の信頼性と歩留り向上に寄与するところ大である
【図面の簡単な説明】
第1図は従来技術の縦型炉のローディング機構を示す模
式図、第2図は本発明にかかる立て型炉のローディング
機構を示す模式図である。 1.11−m−加熱炉、2.12−炉芯管、3−・ロー
ディング機構、4.15−・−キャップ、5、19−−
バスケットステージ、6.18−バスケット、7−モー
タ、13−第1のローディング機構、14− 第2のロ
ーディング機構、16・・・支柱、17一つめ部、20
〜第1のモータ、21−第2のモータ 第1図     第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 上面にバスケットを搭載したキャップを炉芯管の下端に
    ローディングする第1の機構と、前記バスケットを炉芯
    管中央にローディングする第2の機構との組合せから成
    り、かつ、双方のローディング機構を縦型炉下方に並列
    に配設したことを特徴とする二段ローディング機構。
JP56190371A 1981-11-27 1981-11-27 二段ロ−デイング機構 Pending JPS5892220A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56190371A JPS5892220A (ja) 1981-11-27 1981-11-27 二段ロ−デイング機構

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56190371A JPS5892220A (ja) 1981-11-27 1981-11-27 二段ロ−デイング機構

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5892220A true JPS5892220A (ja) 1983-06-01

Family

ID=16257059

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56190371A Pending JPS5892220A (ja) 1981-11-27 1981-11-27 二段ロ−デイング機構

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JP (1) JPS5892220A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60111037U (ja) * 1983-12-28 1985-07-27 株式会社 デンコ− 縦形半導体熱処理炉
US9410742B2 (en) 2014-09-08 2016-08-09 Tokyo Electron Limited High capacity magnetic annealing system and method of operating

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60111037U (ja) * 1983-12-28 1985-07-27 株式会社 デンコ− 縦形半導体熱処理炉
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