JPS5892487A - 汚染物の水ジェットによる高圧洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は汚染物外表面の水ジェツトによる高圧洗浄装置
に関するものである。

本発明の目的とするところは、汚染物の外表向を高圧の
水ジェツトに！り洗浄するようにして、その汚染処理作
業を安全に、ａ１実に且つ容易に成さしめる洗浄装置ｆ
：提供することにある。

以下、本発明の一実施例を第１図〜第８図に基づき説明
する。（１）は円柱状汚染物で−、その外周ｌ全体に且
つその軸心方向に亘ってフィン（１ａ）等の突起状の構
造を有するものである。（２）は汚染物（１）を収容す
る洗浄ピットで、その上部開口部（２ａ）には、シリン
グ装置（３）　（３１により左右にそれぞれスライドさ
れる一対のスライドカバー（４）（４７が設けられてい
る。なお、（５）（５１は上記スライドカバー（４）　
（４ｆの開位置上方にそれぞれ設けられた固定カバーで
ある。そして、スライドカバー（４）　＜４１と固定カ
バー（５）（５／との摺動部にはシールラバー（６）が
取付けられて洗浄水が外部に飛散しないようにされてい
る。なお、スライドカバー（４）　＜４１はクロスロー
ラガ九ド（７）を介して洗浄ピット（２）の上部開口部
段部（２ｂ）に移動自在に支持されている。（８）は洗
浄ピット（２）内下部に回転自在に支持された円板状支
持板体で、汚染物（１）を載置支持するものでるる。

ま４−　　　　　　　　　即ち、支持板体（８）は、そ
の匠面に設けられた環状支持部（８ａ）を介して複数個
の特殊車輪（９）により洗浄ピット（２）の底面上に支
持さｔ］でいる。なお、叫は支持板体（８）の回転中心
を保持するための軸受である。また、上記支持板体（８
＋　１．ｔ　ｓ往復回転手段（２）により所定角度だけ
往復回転させられるよう構成されている。即ち、支持板
体（８）の外周側面の下部で且つその一部分には外歯（
６）が形成されると共に、該外歯（ロ）に噛合うラック
ｏ３を有するロッド（ロ）がシリンダー装置に）により
往イ（移動自在にされている。従って、シリンダー装置
（至）によりラック四を第５図矢印囚で示すように往復
移動させれば、支持板体（８）は第６図矢印＠（０で示
すように所定角度だけ往復回転する。なお、この所定角
度は後述するリングバイブ（ホ）に設けられる噴射ノズ
ル■の取付ピッチに等しくなるように設定される。更に
、上記支持板体（８）は、間欠回転手段に）により間欠
的に回転移動させられるよう構成されている。即ち、支
持板体（８）の外周側面の上部に且つ所定間隔置きに突
出板（ロ）が複数個取付けられると共に、該突出板＠に
当接する当接板（至）をロッド（１９ａ）先端に有して
上記支持板体（８］を一定方向（Ｑに押出すシリンダー
装置（６）が洗浄ピット（２）床面上に設けられている
。なお、上記当接板−はロッド（１９ａ）引戻し時に支
持板体（８）に引っかからないように、第８図に示すよ
うに、垂直位置（ａ）から水平位置（ｂ）に９０ａ回転
させられる。従って、第６図及び第７図に示すように、
上記シリンダー装置０１により、支持板体（８）は一定
角度ごと間欠的に矢印（ｃ）方向に回転移動される。に
）は汚染物（１）外径よりも大きい内径を有すると共に
汚染物（１）外側面を洗浄するための噴射ノズル（財）
を複数個有するリングパイプで、支持板体（８）上方で
昇降自在にされている。即ち、支持板体（８２の周囲適
当箇所（本実施例においては８箇所）には、回転駆動装
置（２）により回転自在にされたおねじ体（２）が立設
され、また上記リングパイプに）は上記おねじ体−に螺
嵌されためねじ体−により支持されている。ところで、
上記おねじ体に）は汚染物（１１全高よりも長く構成さ
れ、従って回転駆動装置１＠によりおねじ体（２）が回
転されると、第１図矢印の）で示すように、リングパイ
プ■は汚染物（１１全高に亘って昇降される。

なお、上記噴射ノズル■は汚染−物（１）の外径に応じ
て、若しくはフィン（ｌａ）Ｏ取付角度に応じて種々変
更されるため、カップリング（２）を介してリングパイ
プ…に取付けられている。四は高圧水勢をリンクバイブ
に）に供給するためのフレキシブルチューブで、リング
パイプ曽の昇降に追縦できるようにされている。（ホ）
は一方のスライドカバー（４）にシリンダー装置翰を介
して吊持されたノズルヘッダテ、汚染物（１１の上面を
洗浄するための噴射ノズル釦が複数個設けられている。

なお、上記ノズルヘッダ（ホ）は汚染物（１）の半径部
に対応する長さにされており、従って汚染物（１１が支
持板体（８）を介してｌ同転させられることにより、上
面全体が洗浄させられる。（２）はノズルヘッダ（ホ）
に高圧水輪を供給するためのフレキシブルチューブであ
る。轡は洗浄後の汚染物（１）を検査する検査架台で、
汚染物（１１に対応してその全高に亘って昇降自在にさ
れると共に、汚染物（１１に対して接近離間自在にされ
ている。

卵ち、検査架台−は汚染物（１１に対して第５図矢印（
ト）で示すように接近離間自在にされた移動架台−上に
立設された一対のスライドレールＱｌ（ＩＩ＆’）に案
内され、またその昇降は移動架台−上に回転自在に立設
されたおねじ体（至）と検査架台四側に固着されると共
に上記おねじ体に）に螺嵌するめねじ体□□□とにより
成される。そして、上記おねじ体曽は移動架台−上に設
けられた回転駆動装置（至）により回転駆動される。従
って、回転駆動装置（至）により、上記検査架台（至）
は、第１図の矢印（ト）で示すように、汚染物（１１外
側面に沿って昇降される。

次に、汚染物（１）の洗浄手順を説明する。まず、汚染
物（１）を洗浄ピット（２）内の支持板体（８）上にク
レーン（図示せず）により載置する。汚染物（１）が支
持板体（８」上に載置されると、スライドカバー（４）
　（４’）が閉じられ、洗浄ピット（２３内は外部から
完全に密閉される。次に、リングパイプ四を最上位置（
ＩＩ１図実線位置）にさせて、噴射ノズル（ロ）から高
圧ジェット水を噴射させる。そして、支持板体（８）を
所定角度（噴射ノズル四の取付ピッチ）だけ往復１１１
転させると共にリングパイプ員をその往復回転に合わせ
て下降させる。この時、リングパイプ四の士降量と支持
板体（８）の往復回転との関係は、支持板体（８）が矢
印（ロ）方向に回転（往路）した時、リングパイプ■を
一段下げ、そして支持板体（８）が矢印（Ｏ方向に逆回
転（復路）した時、またリングパイプ員を一段下げる。

このように、支持板体＋８１の往路及び復路において、
リングパイプに）を一段づつ下げて汚染物（１）の外側
面全体を高圧ジェット水により洗浄する。そして、リン
グパイプ四による洗浄が終了゛すると、次に汚染物（１
）の上面を洗浄する。まず一方のスライドカバー（４）
に取付けられたノズルヘッダ（至）をシリンダー装置−
により汚染物１１＋の上面上方の所定位置に下降させる
。そして、ノズルヘッダ（ホ）の噴射ノズル（至）から
高圧ジェット水を汚染物（１１上面に向って噴射させる
と共に、支持板体（８］を間欠回転手段−により所定角
度ごとに間欠回転させて、汚染物（１１上面全体を洗浄
する。

そして、上記汚染物（１１の洗浄が終了すると洗浄効果
の検査を行なう。まず、検査架台−を下位置のままで汚
染物（１）外周近くまで前進させて固定する（第６図仮
想線位置）。次に、検査を行ないながら検査架台部を一
定間隔で上昇させ、その位置での検査が終了すると、支
持板体（８）を間欠回転手段（ＩＱにより突出板Ｑηの
１ピッチ分だけ回転させる。

そして、検査を行ないながら検査架台に）を下降させて
その位置での検査が終了すると、再び上記と同じ検査手
順を繰返して汚染物（１）全周面を検査する。上記検査
が完了すると、スライドカバー（４）（４／）を開き、
クレーンにより汚染物（１１を吊上げて次の工程に移送
する。

なお、検査架台に）を昇降させるかわりに８段ステージ
位の架台とし、前進、後進だけ移動させるようにしても
よい。またリングバイブ曽のフレキシブルチューブ（ホ
）はリングパイプ曽の昇降に合わせて、シリンダー装置
などで調整するようにしてもよい。例えば、リングパイ
プ曽が下降する場合、フレキシブルチューブ（ホ）のた
るんだ分だけシリンダー装置で上昇させ、逆にリングパ
イプ四が上昇する場合には、シリンダ１−装置によりフ
レキシブルチューブ四のたるんだ分だけ下降させる。

以りのように、本発明の洗浄装置によれば、汚染物の外
表面全体を高圧水ジェットにより均一に洗浄でき、従っ
て非常に少量の水でしかも汚染物の複雑な外形にかかわ
らず汚染物を安全に、確実に且つ容易に洗浄することが
できる。なお、この洗浄装置はほこり等の付着物を除去
する低圧洗浄ｉζも便用できるものである。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の一実施例を示すもので、第１図は全体断
面図、第２図は同平面図、第８図は第２図υ月−！矢視
断面図、第４図は第８図の盾部拡大図、第５図は第１図
のト」矢視図、第６図は支持板体の平面図、第７図は第
６図のＩＶ−Ｎ矢視し’、ｉ８図は第７図のマー■矢視
図である。 （１）・・・円柱状汚染物、（ｌａ　）・・・フィン、
（２）・・・洗浄ピット、（２ａ）・・・開口部、（２
ｂ）一段部、（３）・・・シリンダー装−１（４１（４
／）・・・スライドカバー、（８）・・・支持板体、（
８ａ）・・・環す゛支持部、（９）・・・特殊車輪、四
・・・往復回転手段、卯・・・外歯、四・・−ラック、
（至）・・・シリンダー装置、に）・・・間欠回転手段
、＠−・・突出板、（７）・・・当接板、Ｑｌｍ・・・
シリンダー装置、に）・・・リングパイプ、四・・・噴
代理人　森本義弘

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、上方にスライドカバーを有する洗浄ビット内に円柱
   状汚染物の支持板体を回転自在に設け、上記汚染物外径
   よりも大きい内径を有すると共に汚染物外側面を洗浄す
   るための噴射ノズルを複数個有するリングパイプを、上
   記支持板体上方で昇降自在に設け、上記スライドカバー
   下面に汚染物上面を洗浄するための噴射ノズルを複数個
   有するノズルヘッダを取付け、且つ上記支持板体を所定
   角度だ叶往復回転させる往復回転平膜と、上記支持板体
   を間欠的に回転させる間欠回転手段とを設叶たことを特
   徴とする汚染物の水ジェツトによる高圧洗浄装置。