JPS5895041U - 軟ｘ線転写マスク - Google Patents

軟ｘ線転写マスク

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Publication number
JPS5895041U
JPS5895041U JP1981188062U JP18806281U JPS5895041U JP S5895041 U JPS5895041 U JP S5895041U JP 1981188062 U JP1981188062 U JP 1981188062U JP 18806281 U JP18806281 U JP 18806281U JP S5895041 U JPS5895041 U JP S5895041U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
soft
transfer mask
ray transfer
ray
resin layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP1981188062U
Other languages
English (en)
Inventor
勝 宮崎
幹雄 市橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS5895041U publication Critical patent/JPS5895041U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例を示す軟Ｘ線マスクの側断面
図、第２図は他の実施例を示す側断面図である。 １・・・・・・有機材料（ポリイミド）、２・・・・・
−３ｉリング、３・・・・・・無機材料（Ａ１）、４・
・・・・・無機材料（ＡＩ）、５・・・・・・Ａｕの微
細パターン群、６・・・・・・軟Ｘ線照射側、７・・・
・・・無機材料（ＡＩ）。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. シリコンウェハー上に樹脂を塗布して乾燥させた樹脂層
    、その上に電子線描画装置により微細に形成されたパタ
    ーンより成る軟Ｘ線転写マスク。
JP1981188062U 1981-12-18 1981-12-18 軟ｘ線転写マスク Pending JPS5895041U (ja)

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JP1981188062U JPS5895041U (ja) 1981-12-18 1981-12-18 軟ｘ線転写マスク

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1981188062U JPS5895041U (ja) 1981-12-18 1981-12-18 軟ｘ線転写マスク

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5895041U true JPS5895041U (ja) 1983-06-28

Family

ID=30102874

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1981188062U Pending JPS5895041U (ja) 1981-12-18 1981-12-18 軟ｘ線転写マスク

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