JPS5896872A - 真空蒸着部 - Google Patents
真空蒸着部Info
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- JPS5896872A JPS5896872A JP19448881A JP19448881A JPS5896872A JP S5896872 A JPS5896872 A JP S5896872A JP 19448881 A JP19448881 A JP 19448881A JP 19448881 A JP19448881 A JP 19448881A JP S5896872 A JPS5896872 A JP S5896872A
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- heating
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、例オば鋼帯に亜鉛メッキを施すだめの連続真
空蒸着装置において、蒸着速度の応答性が早く、メッキ
性能の良い蒸着炉に関する。
空蒸着装置において、蒸着速度の応答性が早く、メッキ
性能の良い蒸着炉に関する。
銅帯に連続的に亜鉛メッキ皮膜を形成する方法として、
従来の溶融亜鉛浴法や電気メツキ法の外に、片面のみの
メッキに対する有利性から真空蒸着メッキ法が注目され
ている。従来の蒸着炉の形式は第1図に示すように、炉
の下部から加熱する形式のものである。
従来の溶融亜鉛浴法や電気メツキ法の外に、片面のみの
メッキに対する有利性から真空蒸着メッキ法が注目され
ている。従来の蒸着炉の形式は第1図に示すように、炉
の下部から加熱する形式のものである。
第1図において、1は真空雰囲気中に収容された炉体で
、この内部に溶融亜鉛7が保持されている。天井3の一
部に開口部6があり、ヒンジ5の回りに回転駆動される
7ヤツター4で覆われている。炉の下方に加熱源のヒー
タ8が設置され、炉体1とヒータ8は共に保温材9で覆
われている。
、この内部に溶融亜鉛7が保持されている。天井3の一
部に開口部6があり、ヒンジ5の回りに回転駆動される
7ヤツター4で覆われている。炉の下方に加熱源のヒー
タ8が設置され、炉体1とヒータ8は共に保温材9で覆
われている。
蒸着時にはシャッター4が開いており、溶融亜鉛7はヒ
ータ8によって炉体1の底板を通して加熱され、蒸発し
て開口部6を通って蒸着炉の上方を走行する銅帯10に
メッキされる。溶融亜鉛は、供給ダクト2から蒸発量と
同じ量が連続的に供給される。
ータ8によって炉体1の底板を通して加熱され、蒸発し
て開口部6を通って蒸着炉の上方を走行する銅帯10に
メッキされる。溶融亜鉛は、供給ダクト2から蒸発量と
同じ量が連続的に供給される。
このような従来の蒸着部では下記のような欠点があった
。
。
(1) メッキプロセスラインでは、例えば供給され
る銅帯の厚みが変わった場合、鋼帯如メッキすべき隼す
なわち単位面積あたりの目付量を瞬間的に変化させたい
ことがあるが、従来の形式の蒸着炉では、蒸着炉内の溶
融亜鉛及び炉体自身の熱容量が大きいために加熱源の加
熱量を瞬間的に変化させても亜鉛の蒸発速度の応答が遅
く、整定するまでに規格外の目付置をもった製品が大量
にできてし捷うという欠点がある。例オはライン速度3
Q m/1111、目付量70f/rr? のライン
で計画している蒸着炉では整定するまでに6分間程度か
かると予想され、この間に180mの製品が規格外とな
ってしまう。
る銅帯の厚みが変わった場合、鋼帯如メッキすべき隼す
なわち単位面積あたりの目付量を瞬間的に変化させたい
ことがあるが、従来の形式の蒸着炉では、蒸着炉内の溶
融亜鉛及び炉体自身の熱容量が大きいために加熱源の加
熱量を瞬間的に変化させても亜鉛の蒸発速度の応答が遅
く、整定するまでに規格外の目付置をもった製品が大量
にできてし捷うという欠点がある。例オはライン速度3
Q m/1111、目付量70f/rr? のライン
で計画している蒸着炉では整定するまでに6分間程度か
かると予想され、この間に180mの製品が規格外とな
ってしまう。
(2) 下部から加熱されるため、亜鉛浴の下部で沸
騰によって気泡が生じそれが液中を上方へ昇って液面か
ら出ていき、この時、液が飛散するいわゆるスプラッシ
ュが起こる。又、液面には酸化皮膜が形成されやすく、
膜ができていると、その下方に気泡がたまりある程度以
上の大きさになると膜を瞬間的に破壊するためスプラッ
シュが大きくなる。スプラッシュが起こると銅帯に液滴
がついて製品不良となる恐れがある。
騰によって気泡が生じそれが液中を上方へ昇って液面か
ら出ていき、この時、液が飛散するいわゆるスプラッシ
ュが起こる。又、液面には酸化皮膜が形成されやすく、
膜ができていると、その下方に気泡がたまりある程度以
上の大きさになると膜を瞬間的に破壊するためスプラッ
シュが大きくなる。スプラッシュが起こると銅帯に液滴
がついて製品不良となる恐れがある。
本発明は前記欠点を解決し、応答速度の早い加熱方法を
実現するために為されたものでその要旨とするところは
加熱源のヒータを炉内の溶融亜鉛の上方に設置し、かつ
亜鉛浴中にカーボンのブロックを浮遊させたことを特徴
とする蒸着炉であり、応答性が早くかつスプラッシュを
防止した蒸着炉を実現することができるものである。
実現するために為されたものでその要旨とするところは
加熱源のヒータを炉内の溶融亜鉛の上方に設置し、かつ
亜鉛浴中にカーボンのブロックを浮遊させたことを特徴
とする蒸着炉であり、応答性が早くかつスプラッシュを
防止した蒸着炉を実現することができるものである。
以下、本発明を第2図〜第6図に示した実施態様につい
て詳述する。
て詳述する。
実施例1゜
第2図に本発明の蒸着炉の一実施例を示す。
第2図において加熱源のヒータ8は炉内の溶融亜鉛7の
上方に設置され、亜鉛浴中にカーボンブロック11が浮
遊している。その他は第1図に示した従来の構造と同一
であるので説明を省略する。
上方に設置され、亜鉛浴中にカーボンブロック11が浮
遊している。その他は第1図に示した従来の構造と同一
であるので説明を省略する。
第2図において、シャッター4が開で、蒸着炉上方に銅
帯10が例えば図中右方に走行している状態のとき、溶
融亜鉛7は上方のヒータ8から直接加熱され、あるいは
カーボンブロック11を介して加熱され蒸発して開口部
6を通して鋼帯10にメッキされる。
帯10が例えば図中右方に走行している状態のとき、溶
融亜鉛7は上方のヒータ8から直接加熱され、あるいは
カーボンブロック11を介して加熱され蒸発して開口部
6を通して鋼帯10にメッキされる。
このような構成であるので、以下の効果が奏される。
■ 上方から単に加熱すると溶融亜鉛の表面の熱吸収率
は約0.1と非常に小さいため直接、上方から輻射加熱
する方法はヒータの温度が高温になりすぎるため実現困
難であるが、カーボンのブロックを液中に浮遊させると
、カーボンの表面の熱吸収率は約1.0と大きいため全
体的な熱吸収率を向上させることができるので上方から
加熱する方法が実現できる。
は約0.1と非常に小さいため直接、上方から輻射加熱
する方法はヒータの温度が高温になりすぎるため実現困
難であるが、カーボンのブロックを液中に浮遊させると
、カーボンの表面の熱吸収率は約1.0と大きいため全
体的な熱吸収率を向上させることができるので上方から
加熱する方法が実現できる。
■ 本発明によれば亜鉛は上方から加熱されるために表
面層から蒸発してゆくので、加熱源からの加熱量の変化
に速やかに応答する。すなわち整定するまでの時間が非
常に短くなるため規格外の製品の発生が少くなる。
面層から蒸発してゆくので、加熱源からの加熱量の変化
に速やかに応答する。すなわち整定するまでの時間が非
常に短くなるため規格外の製品の発生が少くなる。
■ 同時に、カーボンブロックは還元力があるため、亜
鉛液面の酸化膜の形成を抑えるので、スプラッシュがお
こりにくくなり、製品への液滴の付着が防止される。
鉛液面の酸化膜の形成を抑えるので、スプラッシュがお
こりにくくなり、製品への液滴の付着が防止される。
■ 従来の方法では亜鉛浴面550℃、炉底板600℃
程度になるため炉底に鋼板を使用した場合は腐食速度が
非常に大きく、工業的に利用するためには鋼板ではなく
セラミックにする必要があったが、本発明によれば、亜
鉛浴面も炉底もほぼ同温の550℃になるため鋼板が使
用できるので炉体製造費が廉価で済む。
程度になるため炉底に鋼板を使用した場合は腐食速度が
非常に大きく、工業的に利用するためには鋼板ではなく
セラミックにする必要があったが、本発明によれば、亜
鉛浴面も炉底もほぼ同温の550℃になるため鋼板が使
用できるので炉体製造費が廉価で済む。
実施例■。
第3図に実施例■を示す。第3図において、加熱源のヒ
ータ8は炉内の溶融亜鉛7の上方に設置され、亜鉛浴中
に、表面にカーボン12をコーティングした亜鉛より比
重の小さい物質でできたブロック11が浮遊している。
ータ8は炉内の溶融亜鉛7の上方に設置され、亜鉛浴中
に、表面にカーボン12をコーティングした亜鉛より比
重の小さい物質でできたブロック11が浮遊している。
その他は第1図に示した従来の構造と同一である。
これにより実施例Iと同じ作用、及び効果■〜■を有す
る。
る。
実施例■。
第4図に実施例■を示す。第4図において、加熱源のヒ
ータ8は炉内の溶融亜鉛7の上方に設置され、亜鉛浴中
にカーボンベレット11が浮遊している。その他は第1
図に示した従来の構造と同一である。
ータ8は炉内の溶融亜鉛7の上方に設置され、亜鉛浴中
にカーボンベレット11が浮遊している。その他は第1
図に示した従来の構造と同一である。
これにより実施例■と同じ作用及び、効果■〜(りを有
し、更に、 ■ 単位面積あたりの蒸発レートに浴温には一定の関係
があり、全体の蒸発量が一定のときベレットを浮かべる
と蒸発面積が減少して浴温か十昇する。この関係を利用
して、浴中に浮かべるペレットの数を操作することによ
って容易に希望する浴温を得ることができる。
し、更に、 ■ 単位面積あたりの蒸発レートに浴温には一定の関係
があり、全体の蒸発量が一定のときベレットを浮かべる
と蒸発面積が減少して浴温か十昇する。この関係を利用
して、浴中に浮かべるペレットの数を操作することによ
って容易に希望する浴温を得ることができる。
効果を奏する。
実施例■。
第5図に実施例■を示す。第5図(A)において加熱源
のヒータ8は炉内の浴融亜鉛上方に設置され、亜鉛浴中
にカーボンの井桁11(第5図(B)は井桁の平面図で
ある)が浮遊している。
のヒータ8は炉内の浴融亜鉛上方に設置され、亜鉛浴中
にカーボンの井桁11(第5図(B)は井桁の平面図で
ある)が浮遊している。
その他は第1図に示した従来の構造と同一である。
これにより実施例Iと同じ作用及び、効果以外に更に、
■ カーボン井桁の表面積が大きいため、カーボンと溶
融亜鉛との間の熱伝達が向上する。
融亜鉛との間の熱伝達が向上する。
効果を奏する。
実施例V。
1、構造
第6図に実施例■を示す。第6図において加熱源のヒー
タ8は炉内の溶融亜鉛7の上方に設置され、亜鉛浴中に
、比重が亜鉛より小さくノ・ニカム状の、あるいは多く
の孔のあいたブロック11が浮遊している。その他は第
1図に示した従来の構造と同一である。
タ8は炉内の溶融亜鉛7の上方に設置され、亜鉛浴中に
、比重が亜鉛より小さくノ・ニカム状の、あるいは多く
の孔のあいたブロック11が浮遊している。その他は第
1図に示した従来の構造と同一である。
第7図、第8図はブロック11の形状の例を示し、(A
)は側面図、(B)は平面図である。
)は側面図、(B)は平面図である。
以上、説明した本発明の真空蒸着部の構成によって奏さ
れる効果をまとめると以下のようになる。
れる効果をまとめると以下のようになる。
■ 上方から単に加熱すると溶融亜鉛の表面の吸収率は
約0.1と非常に小さいため、直接上方から輻射加熱す
る方法は、ヒータの温度が高温になりすぎるため、実現
困難であるが、・・ニカム状の、あるいは多くの孔のあ
いたカーボンのブロックを液中に浮遊させると、キャビ
ティ効果によってブロック表面のみかけの黒度(熱の吸
収率と結果的には同じ)が大きくなり、形状を適切に選
べば吸収率を1.0に近くすることができ、これによっ
て全体的に熱吸収率を向上させることができるので上方
からの加熱する方法が採用できる。
約0.1と非常に小さいため、直接上方から輻射加熱す
る方法は、ヒータの温度が高温になりすぎるため、実現
困難であるが、・・ニカム状の、あるいは多くの孔のあ
いたカーボンのブロックを液中に浮遊させると、キャビ
ティ効果によってブロック表面のみかけの黒度(熱の吸
収率と結果的には同じ)が大きくなり、形状を適切に選
べば吸収率を1.0に近くすることができ、これによっ
て全体的に熱吸収率を向上させることができるので上方
からの加熱する方法が採用できる。
■ 本発明によれば亜鉛は上方から加熱されるために表
面層から蒸発してゆくので、加熱源からの加熱量の変化
に速やか如応答する。例えばライン速度30 m/mi
n、 目付量70v/扉のラインで整定時間は60秒〜
1分程度である。すなわち整定する壕での時間が非常に
短くなるため規格外の製品の発生が少くなる■ 単位面
積あたりの蒸発レートと浴温如は一定の関係があり、全
体の蒸発量が一定のときブロックを浮かべると蒸発面積
が減少するだめ浴温か上昇してしまうが、本発明は一定
の蒸発面積を保持して浴温か必要以上に上昇するのを防
ぎながら、見かけの吸収率を向上させることができる。
面層から蒸発してゆくので、加熱源からの加熱量の変化
に速やか如応答する。例えばライン速度30 m/mi
n、 目付量70v/扉のラインで整定時間は60秒〜
1分程度である。すなわち整定する壕での時間が非常に
短くなるため規格外の製品の発生が少くなる■ 単位面
積あたりの蒸発レートと浴温如は一定の関係があり、全
体の蒸発量が一定のときブロックを浮かべると蒸発面積
が減少するだめ浴温か上昇してしまうが、本発明は一定
の蒸発面積を保持して浴温か必要以上に上昇するのを防
ぎながら、見かけの吸収率を向上させることができる。
■ 従来の方法では亜鉛浴面550℃、炉底板600℃
程度になるため炉底に鋼板を使用した場合は腐食速度
が非常に大きく、工業的に利用するためには鋼板では無
くセラミックにする必要があったが、本発明による方法
では亜鉛浴面も炉底もほぼ同温の550℃になるため鋼
板が使用できるので廉価で済む。
程度になるため炉底に鋼板を使用した場合は腐食速度
が非常に大きく、工業的に利用するためには鋼板では無
くセラミックにする必要があったが、本発明による方法
では亜鉛浴面も炉底もほぼ同温の550℃になるため鋼
板が使用できるので廉価で済む。
第1図は従来の真空蒸着部の構成を示す図、第2図〜第
6図は本発明の真空蒸着部の実施態様を示す図、第7,
8図は、第2図〜第6図以外のカーボンブロックの形状
を示す図である。 復代理人 内 1) 明 復代理人 萩 原 亮 − 第1図 第2 図 0−4 矛3 図 ソ′ 牙4 図 り /8−5図 −710 /1−6 図 オフ 図 オ8図
6図は本発明の真空蒸着部の実施態様を示す図、第7,
8図は、第2図〜第6図以外のカーボンブロックの形状
を示す図である。 復代理人 内 1) 明 復代理人 萩 原 亮 − 第1図 第2 図 0−4 矛3 図 ソ′ 牙4 図 り /8−5図 −710 /1−6 図 オフ 図 オ8図
Claims (1)
- 真空蒸着部において、炉内上方に加熱源ヒータを設置し
、浴中にはカーボンのブロックを浮遊させてなることを
特徴とする真空蒸着部
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19448881A JPS5896872A (ja) | 1981-12-04 | 1981-12-04 | 真空蒸着部 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19448881A JPS5896872A (ja) | 1981-12-04 | 1981-12-04 | 真空蒸着部 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5896872A true JPS5896872A (ja) | 1983-06-09 |
| JPH0144784B2 JPH0144784B2 (ja) | 1989-09-29 |
Family
ID=16325359
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19448881A Granted JPS5896872A (ja) | 1981-12-04 | 1981-12-04 | 真空蒸着部 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5896872A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017001910A1 (en) * | 2015-06-29 | 2017-01-05 | Flisom Ag | Evaporation crucible with floater |
| CN109518136A (zh) * | 2019-01-24 | 2019-03-26 | 成都京东方光电科技有限公司 | 蒸镀结构、蒸镀系统及蒸镀结构的使用方法 |
| CN113846294A (zh) * | 2020-06-26 | 2021-12-28 | 三星显示有限公司 | 显示装置的制造装置 |
-
1981
- 1981-12-04 JP JP19448881A patent/JPS5896872A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017001910A1 (en) * | 2015-06-29 | 2017-01-05 | Flisom Ag | Evaporation crucible with floater |
| CN109518136A (zh) * | 2019-01-24 | 2019-03-26 | 成都京东方光电科技有限公司 | 蒸镀结构、蒸镀系统及蒸镀结构的使用方法 |
| WO2020151495A1 (zh) * | 2019-01-24 | 2020-07-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀结构、蒸镀装置、蒸镀系统及蒸镀结构的使用方法 |
| CN113846294A (zh) * | 2020-06-26 | 2021-12-28 | 三星显示有限公司 | 显示装置的制造装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0144784B2 (ja) | 1989-09-29 |
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