JPS59100143A - 合成樹脂製品のプラズマ処理装置 - Google Patents
合成樹脂製品のプラズマ処理装置Info
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- JPS59100143A JPS59100143A JP21016882A JP21016882A JPS59100143A JP S59100143 A JPS59100143 A JP S59100143A JP 21016882 A JP21016882 A JP 21016882A JP 21016882 A JP21016882 A JP 21016882A JP S59100143 A JPS59100143 A JP S59100143A
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- Japan
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- plasma
- reaction chamber
- treated
- pipe
- shower
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はポリプロピレン、ポリエチレン等の合成樹脂か
ら成る製品の表面を改質する1こめにプラズマ処理を施
す装置に関するものである。
ら成る製品の表面を改質する1こめにプラズマ処理を施
す装置に関するものである。
近年、自動車部品を始めとする各fi[f部品が@賦化
や意匠性向上の目的で樹脂化されてきているが、比較的
安価なポリプロピレン、ポリエチレン等ポリオレフィン
系合成樹脂は塗膜との密着性が悪く塗装が困嬌であると
いう欠点を有している。そのため塗膜との密着性の悪い
被塗装物表面をグロー放電、コロナ放電あるいはラジオ
波、マイクロ波等によってプラズマ化されrこ処理ガス
にさらし、表面を酸化(極性基の導入)あるいはエツチ
ング(アンカー効果の向上)することにより製品表面を
改質し、塗膜との密着性を向上させるプラズマ表面処理
が従来から行なわ第1ている。この場合、処理効果を向
上させるために反応室内を真空状態にする必要がある1
こめ製品はバッチ処理されるのが普通であるが、近年、
耐熱性、生産性等を要求される合成樹脂製品の処理を行
なう場合には、プラズマ発生炉と反応室が分離されjコ
マイクロ波方式等のプラズマ処理装置が多く用いられる
ようになった。
や意匠性向上の目的で樹脂化されてきているが、比較的
安価なポリプロピレン、ポリエチレン等ポリオレフィン
系合成樹脂は塗膜との密着性が悪く塗装が困嬌であると
いう欠点を有している。そのため塗膜との密着性の悪い
被塗装物表面をグロー放電、コロナ放電あるいはラジオ
波、マイクロ波等によってプラズマ化されrこ処理ガス
にさらし、表面を酸化(極性基の導入)あるいはエツチ
ング(アンカー効果の向上)することにより製品表面を
改質し、塗膜との密着性を向上させるプラズマ表面処理
が従来から行なわ第1ている。この場合、処理効果を向
上させるために反応室内を真空状態にする必要がある1
こめ製品はバッチ処理されるのが普通であるが、近年、
耐熱性、生産性等を要求される合成樹脂製品の処理を行
なう場合には、プラズマ発生炉と反応室が分離されjコ
マイクロ波方式等のプラズマ処理装置が多く用いられる
ようになった。
このプラズマ処理装置では反応室とは別(こ設はら11
F、−ブー1ズマ尤生炉で酸素カス等の処理カスがプラ
スでiiされ、輸送管を1腎で反応室:こ送られる。
F、−ブー1ズマ尤生炉で酸素カス等の処理カスがプラ
スでiiされ、輸送管を1腎で反応室:こ送られる。
そして、反応室内ではプラズマ(励起カス)がツヤ・7
−管に。1′リシヤワ−拡散させらオ正、合成!””’
j 旧製品の表面に作用′+るのであるが、この〉ヤー
ノー管とし5では石英カラス等からなるべ゛イブ状の長
胴に、その長子方向に治って多数の小孔がルニ成3’1
1f、7ものが−・般的に[車用されている。1し、か
し2、この種のシャワー管をfjjejえf二反応室1
’1に複数の製品ま1こは1個でも大型て3Iパ、)〈
が1復■1な製品を・収d(−で処理」”る場合;こは
、4ぐ品” l& ”小、「411部i′\゛I−(こ
51:壬)で処1ψ効果が双・−〇、特に、製品に問よ
、f1且つノー)・・ノー着′から離′I′Lfこ部位
−Cは1−分な君工ψ効果が得ら1’L (ごくい。
−管に。1′リシヤワ−拡散させらオ正、合成!””’
j 旧製品の表面に作用′+るのであるが、この〉ヤー
ノー管とし5では石英カラス等からなるべ゛イブ状の長
胴に、その長子方向に治って多数の小孔がルニ成3’1
1f、7ものが−・般的に[車用されている。1し、か
し2、この種のシャワー管をfjjejえf二反応室1
’1に複数の製品ま1こは1個でも大型て3Iパ、)〈
が1復■1な製品を・収d(−で処理」”る場合;こは
、4ぐ品” l& ”小、「411部i′\゛I−(こ
51:壬)で処1ψ効果が双・−〇、特に、製品に問よ
、f1且つノー)・・ノー着′から離′I′Lfこ部位
−Cは1−分な君工ψ効果が得ら1’L (ごくい。
本発明はこのような従来の処理装置1イの欠点を1打消
し、反応室内の被処理物が処理される・\き処理スペー
スのすへてにおいで十分な処3寸!効果か得ら第1−る
プラズマ処理2施を提供することを「1的としてなされ
fこものであ0、その要旨とするところは、11J述の
。[うンこプラズマ発生炉と輸送管と反応室とを倫えf
、1ブラズ7処理装置においで、反L〔5、Yに複4文
のンヤソーゞ庁に力[驕−゛C少/:j−(とも1本の
1白′冴を配設したことにある1、シA′ワ−′8はイ
η−東とμ羽〕冒・−輸送管(、″、接読し1、ニパ・
イブ状の長胴しこ4%手方向に沿って一多数の小孔を)
1つ成してなるものであるか、直Cヤは少/1くとも開
1−1☆iA: I)’!’Iの一定長さが頁内である
管体を、その開L1ろご反11jL1 ■内の処理スペ
ースのうちシャワー者からり(出さオ)るゾ′!ズ−′
の遡j達しにくシ)空間に向(−fて酊1.設し、イ(
u1瑞を輸送上(・−接a 1−11こもの−こ、3)
る。。
し、反応室内の被処理物が処理される・\き処理スペー
スのすへてにおいで十分な処3寸!効果か得ら第1−る
プラズマ処理2施を提供することを「1的としてなされ
fこものであ0、その要旨とするところは、11J述の
。[うンこプラズマ発生炉と輸送管と反応室とを倫えf
、1ブラズ7処理装置においで、反L〔5、Yに複4文
のンヤソーゞ庁に力[驕−゛C少/:j−(とも1本の
1白′冴を配設したことにある1、シA′ワ−′8はイ
η−東とμ羽〕冒・−輸送管(、″、接読し1、ニパ・
イブ状の長胴しこ4%手方向に沿って一多数の小孔を)
1つ成してなるものであるか、直Cヤは少/1くとも開
1−1☆iA: I)’!’Iの一定長さが頁内である
管体を、その開L1ろご反11jL1 ■内の処理スペ
ースのうちシャワー者からり(出さオ)るゾ′!ズ−′
の遡j達しにくシ)空間に向(−fて酊1.設し、イ(
u1瑞を輸送上(・−接a 1−11こもの−こ、3)
る。。
シャワー管は1安)こ具体的な−Jこ1・、シミ例−(
′/J〈−r =r”1に、被処理′、イ・夕がシャワ
ー管に五匿し、でいる場合(・=は広い語jλ責(こわ
−こ−って一部分な]゛ラスフシ匹j甲・5・行、’(
1,N qζIるもので渉)るb狐遠い被処理物を処理
〒1−るには適さないもので6′f)るのに対し、面上
は逆に広い1百1積を処理“4−るの(こは適さないが
、遠い鼓・肌理物にも十分なプラズマ処理2施−4−4
ヒカをイ]し、かつプラスマLυ拡故に明瞭な方向′[
4[を酊するものであるflめ、これら両者を組合わせ
ることに」−って反チ1:、室内の処理スペースの4手
)らゆる部分に均一にプラズマを行き渡らせることが可
能となり、複数の製品を・−・度(こ処理する場合でも
、まfコ、大型て複雑、な)1つ状の一製品を処理する
曜7合−Cも製品の全表面におい゛こ一十分な処理効果
が得ら:t1、t’:li分的(こ塗膜との1ヤ1ζ着
・I・![か不十分な部分が生ずることを回辞すること
ができる。
′/J〈−r =r”1に、被処理′、イ・夕がシャワ
ー管に五匿し、でいる場合(・=は広い語jλ責(こわ
−こ−って一部分な]゛ラスフシ匹j甲・5・行、’(
1,N qζIるもので渉)るb狐遠い被処理物を処理
〒1−るには適さないもので6′f)るのに対し、面上
は逆に広い1百1積を処理“4−るの(こは適さないが
、遠い鼓・肌理物にも十分なプラズマ処理2施−4−4
ヒカをイ]し、かつプラスマLυ拡故に明瞭な方向′[
4[を酊するものであるflめ、これら両者を組合わせ
ることに」−って反チ1:、室内の処理スペースの4手
)らゆる部分に均一にプラズマを行き渡らせることが可
能となり、複数の製品を・−・度(こ処理する場合でも
、まfコ、大型て複雑、な)1つ状の一製品を処理する
曜7合−Cも製品の全表面におい゛こ一十分な処理効果
が得ら:t1、t’:li分的(こ塗膜との1ヤ1ζ着
・I・![か不十分な部分が生ずることを回辞すること
ができる。
以−ド、不発r+B )実施(+ll イア6図+11
11j基、 )、7p、 i+ll +を説明する3、 g4y、 1図(こむいて−2はプラズマ発生に)j
Cあり、醒−1、ホーベ11h・l:、送ら′tする酸
素ろ・マ・イクロ彼イ引hQ:幾6から・り波管8を・
経て供給、3才するマイシロ波によつでフ→ス\′化し
、その結果伏(ら:t”−tr、ニフ→スマ、−を八′
、l)1、励起ti’2÷、を輸送管10を経で反1仏
室〕2・\(1(給」る。反ha1、室12は第2図か
ら明らか4.i′ように両端が閉j二・られL1円1笥
状のステンレスffflU・AB器であって、この反応
室12には真空外14を介して直空ポ〜−り“16が接
銑さ1li1でいる。
11j基、 )、7p、 i+ll +を説明する3、 g4y、 1図(こむいて−2はプラズマ発生に)j
Cあり、醒−1、ホーベ11h・l:、送ら′tする酸
素ろ・マ・イクロ彼イ引hQ:幾6から・り波管8を・
経て供給、3才するマイシロ波によつでフ→ス\′化し
、その結果伏(ら:t”−tr、ニフ→スマ、−を八′
、l)1、励起ti’2÷、を輸送管10を経で反1仏
室〕2・\(1(給」る。反ha1、室12は第2図か
ら明らか4.i′ように両端が閉j二・られL1円1笥
状のステンレスffflU・AB器であって、この反応
室12には真空外14を介して直空ポ〜−り“16が接
銑さ1li1でいる。
この反応室12の内部には図示を省略する支持7!−−
ムか西「臀没さイ1ており、その支持−フレーj1十−
に・1への長手形状のi′皮処理物B ] 、 B 2
、 B 3お」−ひ1シ4が載せられてい、:)。反
応室12にli 6本のンヤーノー管20.22’、2
4,26,28.j;J:ひ30と3本才っ1絹と4【
っj=−、’%i管32,34および36とが自己設さ
イじ(−いる13 ノヤワー<尚20お」゛ひ22は反
応室12の上部に互に牢−イJに、−目一)それそ′I
’L被処理役、Hlお」び132の1−面に対向−、す
るようζこll′I已設されてお1′)、シへ・1ノー
管24オEJひ26は反応室12の左1111部に互に
才ir、二、月−)そ、+−1それ、(反辿・理物B1
およびI(gのllllI面に苅1向キーる、1“l:
ζ、11112.設さ1Lでいる7、ノヤワー′θ28
」づ、十5ひ30も同(羊・でC状態で反応、室12の
どイ釧部に虐+tE゛+′!tでいろ。シャワー管20
は卯、2図之し1−ひ。j−!; 31ツ]かの小孔3
8が形成さI−またものでt’)す、複敢木の分岐管4
0に6士−)−こ転iij凶に10(こ接続3さイ1.
でいる。。
ムか西「臀没さイ1ており、その支持−フレーj1十−
に・1への長手形状のi′皮処理物B ] 、 B 2
、 B 3お」−ひ1シ4が載せられてい、:)。反
応室12にli 6本のンヤーノー管20.22’、2
4,26,28.j;J:ひ30と3本才っ1絹と4【
っj=−、’%i管32,34および36とが自己設さ
イじ(−いる13 ノヤワー<尚20お」゛ひ22は反
応室12の上部に互に牢−イJに、−目一)それそ′I
’L被処理役、Hlお」び132の1−面に対向−、す
るようζこll′I已設されてお1′)、シへ・1ノー
管24オEJひ26は反応室12の左1111部に互に
才ir、二、月−)そ、+−1それ、(反辿・理物B1
およびI(gのllllI面に苅1向キーる、1“l:
ζ、11112.設さ1Lでいる7、ノヤワー′θ28
」づ、十5ひ30も同(羊・でC状態で反応、室12の
どイ釧部に虐+tE゛+′!tでいろ。シャワー管20
は卯、2図之し1−ひ。j−!; 31ツ]かの小孔3
8が形成さI−またものでt’)す、複敢木の分岐管4
0に6士−)−こ転iij凶に10(こ接続3さイ1.
でいる。。
他のシャ■ノー管22,24,26.2El;Jび30
も同(子の構成のもので1ちる6、一方、的・1132
は開[」端から一定の長さが直線状とさ1””1. f
:l管俸であり、反応室12の上部に設はら′lL f
1ツヤソー管20とシャワー管22との中間位置に開口
、端を反応室12の中心に向けて配設さfiでいる。直
管32は、第2図から明らかな誹うにシャワー管すの長
手方向に沿って等間隔に3本配設されている。
も同(子の構成のもので1ちる6、一方、的・1132
は開[」端から一定の長さが直線状とさ1””1. f
:l管俸であり、反応室12の上部に設はら′lL f
1ツヤソー管20とシャワー管22との中間位置に開口
、端を反応室12の中心に向けて配設さfiでいる。直
管32は、第2図から明らかな誹うにシャワー管すの長
手方向に沿って等間隔に3本配設されている。
他の直管34お」′び36も他のシャワー管24゜26
.28および3oに対して上記直管32の場合と同様な
関係を保って配設されている。そして、すへての直管の
、開口端とは反対側の端は輸送管10を経てプラズマ発
生炉2に接、続されている。
.28および3oに対して上記直管32の場合と同様な
関係を保って配設されている。そして、すへての直管の
、開口端とは反対側の端は輸送管10を経てプラズマ発
生炉2に接、続されている。
以上のように構成された装置によってプラズマ処理を行
なう場合には、まず、反応室12内に被処理物B 1.
”’lB2 、 、 B 3およびB4を装入し、真空
水ポンプ16を作動させて反応室12内の空気を吸引排
出し、反応室12内を真空状態にする。その後、酸素ボ
どべから所定流l迂(たとえば14/min )の酸素
を供給するとともに、真空弁14を調整して反応室12
内の真空圧を所定の値(たとえば0.5torr )
に設定する。真空圧設定後、マイクロ波発振機6から、
所定周波数(たとえば245QMI:1.z)のマイク
ロ波を導波管8を経てプラズマ発生炉2に供給し、酸素
をプラズマ化させる。
なう場合には、まず、反応室12内に被処理物B 1.
”’lB2 、 、 B 3およびB4を装入し、真空
水ポンプ16を作動させて反応室12内の空気を吸引排
出し、反応室12内を真空状態にする。その後、酸素ボ
どべから所定流l迂(たとえば14/min )の酸素
を供給するとともに、真空弁14を調整して反応室12
内の真空圧を所定の値(たとえば0.5torr )
に設定する。真空圧設定後、マイクロ波発振機6から、
所定周波数(たとえば245QMI:1.z)のマイク
ロ波を導波管8を経てプラズマ発生炉2に供給し、酸素
をプラズマ化させる。
その結果、生成したプラズマ、すなわち励起酸先は輸送
管10を経てシャワー管20,22,24゜26.28
および30(以下、シャワー管20等と言う)、ならび
に直管32 、、、8.4および36(直管32等と言
う)に送q、れ、これらから反応室12内の処理スペー
スに向かって放出される。放出され々励起酸素は被処理
物B1.B2.B3およびB4の表面に作用し、これを
酸化ならびにエツチングする。すなわち、プラズマ処理
が行なわれるのである。所定時間の処理後、プラズマ発
生炉2に対する酸素ならびにマイクロ波の供給を停止し
、図示しないリークバルブを開いて反応室12内の圧力
を大気圧に戻し、被処理物B1乃至B4を取り出ず。こ
のようにして処理された被処理物には続いて塗装が行な
われるのであるが、本実施例の装置によって処理された
被処理物はすべてのものが全表面にわたって十分な塗膜
との密着性を右する。
管10を経てシャワー管20,22,24゜26.28
および30(以下、シャワー管20等と言う)、ならび
に直管32 、、、8.4および36(直管32等と言
う)に送q、れ、これらから反応室12内の処理スペー
スに向かって放出される。放出され々励起酸素は被処理
物B1.B2.B3およびB4の表面に作用し、これを
酸化ならびにエツチングする。すなわち、プラズマ処理
が行なわれるのである。所定時間の処理後、プラズマ発
生炉2に対する酸素ならびにマイクロ波の供給を停止し
、図示しないリークバルブを開いて反応室12内の圧力
を大気圧に戻し、被処理物B1乃至B4を取り出ず。こ
のようにして処理された被処理物には続いて塗装が行な
われるのであるが、本実施例の装置によって処理された
被処理物はすべてのものが全表面にわたって十分な塗膜
との密着性を右する。
本実施例装置の処理性能を証明するために、ポリプロピ
レン製被処理物表面の水濡れ性試験を行なった。処理条
件は下記の通りである。
レン製被処理物表面の水濡れ性試験を行なった。処理条
件は下記の通りである。
マイクロ波発振機出力 500 ’W処理時間
30秒 反応室内真空圧 Q、 5 torr下し
、協和科学製0A−A型接触角計を用いて水滴と被処理
物表面との接触角を測定した。この結果を第4図に示す
。第4図においてA、 、B 、 C。
30秒 反応室内真空圧 Q、 5 torr下し
、協和科学製0A−A型接触角計を用いて水滴と被処理
物表面との接触角を測定した。この結果を第4図に示す
。第4図においてA、 、B 、 C。
Dおよ、び1. II、 III、 ■は、第5図に
示す反応室12内における各位置を示す符号であるが、
第4図から明らかなようにすべての位置において同等の
接触角となっており(測定試料数n = l Qの場合
のマ+2σで示されている)、この接触角は塗装が行な
われたときに塗膜の被処理物表面に対する良好な密着性
が保証される接触角、である。すなわち、このような接
触角が得られるように処理されたポリプロピレン製平板
の表面にウレタン系塗料を40±5μの厚さに塗装肱そ
の塗膜に対して市販のカッターナイフを用いて間隔1.
lnmで素地に達する深さの切り目を付け、それに市
販テープ(商品名ニチバンテープ)を貼り付けて剥がず
操作を3回繰り返して行なっても塗膜の剥離は生じな□
いのである。
示す反応室12内における各位置を示す符号であるが、
第4図から明らかなようにすべての位置において同等の
接触角となっており(測定試料数n = l Qの場合
のマ+2σで示されている)、この接触角は塗装が行な
われたときに塗膜の被処理物表面に対する良好な密着性
が保証される接触角、である。すなわち、このような接
触角が得られるように処理されたポリプロピレン製平板
の表面にウレタン系塗料を40±5μの厚さに塗装肱そ
の塗膜に対して市販のカッターナイフを用いて間隔1.
lnmで素地に達する深さの切り目を付け、それに市
販テープ(商品名ニチバンテープ)を貼り付けて剥がず
操作を3回繰り返して行なっても塗膜の剥離は生じな□
いのである。
比較のために直管32等からの励起酸素の放出を停止し
た場合の水濡れ性試験の、結果を第6図に示す。直管3
2等からの励起酸素の放出を停止することによって減少
する励起酸素の量は、シャワ−管20等から余分に放出
させるようにしたため、第6図に示す試#!結果は従来
の直管を有l、ない処理装置に第4図に示した本発明の
実施例装置におiJる試験と同一の処理条件を適用した
場合の性能を示す・二ととなる。そして、この場合には
図から明らかなようにIのり、IIのC,ntのB、D
およびIIIのA、Cというようにシャワー管2()等
から速く、しかも被処理物に囲まれている部分1.ir
おける接触角が他の部分における接触角よりノぐきくな
るのであ0、この1に触角の場合には良好な塗膜の密着
°l?が保証され難いのである。。
た場合の水濡れ性試験の、結果を第6図に示す。直管3
2等からの励起酸素の放出を停止することによって減少
する励起酸素の量は、シャワ−管20等から余分に放出
させるようにしたため、第6図に示す試#!結果は従来
の直管を有l、ない処理装置に第4図に示した本発明の
実施例装置におiJる試験と同一の処理条件を適用した
場合の性能を示す・二ととなる。そして、この場合には
図から明らかなようにIのり、IIのC,ntのB、D
およびIIIのA、Cというようにシャワー管2()等
から速く、しかも被処理物に囲まれている部分1.ir
おける接触角が他の部分における接触角よりノぐきくな
るのであ0、この1に触角の場合には良好な塗膜の密着
°l?が保証され難いのである。。
以F、のことから、本発明の実施例装置は従来の装置に
比べて反応室12内の全処理スペースにおいてむらのな
し)処理性能を発揮することが明らかであるが、これは
′6(のよ)な理由によるものである。第7はIは、第
8図に示すようにシャワー管20等および1α管32等
と同仕様のシャワー管5()と直管52とから同量の励
起酸素を放出させてポ゛リブ「Iピレン製平板540表
面を処理する場合に、塗膜の十分な密着性が保証される
接触角の得られる範[Jjqを調べた結果を示すl:l
である10図から明らかなように、シーA−ワー管50
を用いる場合には広い面積にわたって処理することはで
きるが、庫くの被処理物を処理することか−〔−きない
1っそFlにス・j[、て直管52(・こよる場合は処
理しイIIる面積は・j・さいが、遠くの被処理物を処
理することができる。
比べて反応室12内の全処理スペースにおいてむらのな
し)処理性能を発揮することが明らかであるが、これは
′6(のよ)な理由によるものである。第7はIは、第
8図に示すようにシャワー管20等および1α管32等
と同仕様のシャワー管5()と直管52とから同量の励
起酸素を放出させてポ゛リブ「Iピレン製平板540表
面を処理する場合に、塗膜の十分な密着性が保証される
接触角の得られる範[Jjqを調べた結果を示すl:l
である10図から明らかなように、シーA−ワー管50
を用いる場合には広い面積にわたって処理することはで
きるが、庫くの被処理物を処理することか−〔−きない
1っそFlにス・j[、て直管52(・こよる場合は処
理しイIIる面積は・j・さいが、遠くの被処理物を処
理することができる。
またプラズマの拡散に明瞭な方向゛111″がある5、
第11”l J−;よ(V第21ズに示した実施例!、
j、 ’tヒ+’においては、これらシャワー管と直1
゛i′との特注が有効に絹合わされでいるのてあi)、
−このために反1芯室12内のあらゆる処理スペースU
資〕いて均一な処理効1(己か得られるのである。
第11”l J−;よ(V第21ズに示した実施例!、
j、 ’tヒ+’においては、これらシャワー管と直1
゛i′との特注が有効に絹合わされでいるのてあi)、
−このために反1芯室12内のあらゆる処理スペースU
資〕いて均一な処理効1(己か得られるのである。
尚、伺イすれば、プラズマ処理゛しく;置の反ル1)1
室の形状・j法ならこI(にその内部にifシ(iら力
、るシャワー管および直管の配役位置、個数mは処理−
1−”き7J象に&わせで適宜決定さ7するへきもので
ある。
室の形状・j法ならこI(にその内部にifシ(iら力
、るシャワー管および直管の配役位置、個数mは処理−
1−”き7J象に&わせで適宜決定さ7するへきもので
ある。
また、前記実施例においては1本の長いシャワー管に対
l〜で複数の分岐管が接続さ扛ていたが・ことも可能で
ある。また、直管は1本の輸送管から複数に分岐させら
れたものでもよく、要するに開「J端から一定長さ部分
が直線状をなし、はぼその延長線」二の空間に向かって
処理カスを放出しイ(Jるものであればよいのである。
l〜で複数の分岐管が接続さ扛ていたが・ことも可能で
ある。また、直管は1本の輸送管から複数に分岐させら
れたものでもよく、要するに開「J端から一定長さ部分
が直線状をなし、はぼその延長線」二の空間に向かって
処理カスを放出しイ(Jるものであればよいのである。
第1図は本発明の一実施例であるプラズマ処理装;1(
tの留(花を断面にして示す正面は(であり、第2図は
同装置におけろ反応室の要部を断面にして示−・1側面
図である。第3図は同装置に使用されるシー\+ r’
7−管の底面図である。第4図は−1−記装置の性能試
験の結果を示1グラフであり、第5図は第4図中に示さ
れて゛いる各処理位置を略図的し゛(−示す、;(at
JIJ図である。第6図は比較のために行なった従来装
置の性能試験の結果を示すグラフである。第7「glは
本発明に係るプラズマ処理装置:イにおいて使用される
シャワー管と1U管とのそれぞれの処理r+J能範し)
)1をlil!11べた結果を示すグラフであり、第8
図はそのための実験におけるシャワー管および直管と被
処理物どの相対位置を示す略図である。 2:プラズマ発生炉 4;酸素ボン′く6:マイク
ロ波発振磯 8:導波老・10:輸送管
12:反1j、室14:貞空弁 1G:頁中
ポンプ20.22,24.2G、28,30:シャ[バ
ー管32、34.36 :直管 38:小孔Bl、J
、B3.B4 :彼処理物 出疏1人 トヨク白Φ、11車)床」(会社第3図 第4図
tの留(花を断面にして示す正面は(であり、第2図は
同装置におけろ反応室の要部を断面にして示−・1側面
図である。第3図は同装置に使用されるシー\+ r’
7−管の底面図である。第4図は−1−記装置の性能試
験の結果を示1グラフであり、第5図は第4図中に示さ
れて゛いる各処理位置を略図的し゛(−示す、;(at
JIJ図である。第6図は比較のために行なった従来装
置の性能試験の結果を示すグラフである。第7「glは
本発明に係るプラズマ処理装置:イにおいて使用される
シャワー管と1U管とのそれぞれの処理r+J能範し)
)1をlil!11べた結果を示すグラフであり、第8
図はそのための実験におけるシャワー管および直管と被
処理物どの相対位置を示す略図である。 2:プラズマ発生炉 4;酸素ボン′く6:マイク
ロ波発振磯 8:導波老・10:輸送管
12:反1j、室14:貞空弁 1G:頁中
ポンプ20.22,24.2G、28,30:シャ[バ
ー管32、34.36 :直管 38:小孔Bl、J
、B3.B4 :彼処理物 出疏1人 トヨク白Φ、11車)床」(会社第3図 第4図
Claims (1)
- プラズマ発生炉においてプラズマ化され1こ処理カスが
輸送管を経て反応室に送られ、該反応室内に収容された
合成樹脂製品の表面をプラズマ処理するまうに構成され
1こプラズマ処理装置において、前記反応室に、前記輸
送管に接続しTコバイブ状の長胴に長手方向に沿って多
数の小孔を形成して成る複数のシャワー管と、該反応室
内の処理スペースのうち該シャワー管から放出されるプ
ラズマの到達し!iil#い部分に一端の開口を向け、
他端を前記輸送管に接読しf、:少なくとも1本の直管
との両方を配設したことを特徴とする合成樹脂製品のプ
ラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21016882A JPS59100143A (ja) | 1982-11-30 | 1982-11-30 | 合成樹脂製品のプラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21016882A JPS59100143A (ja) | 1982-11-30 | 1982-11-30 | 合成樹脂製品のプラズマ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59100143A true JPS59100143A (ja) | 1984-06-09 |
| JPH033700B2 JPH033700B2 (ja) | 1991-01-21 |
Family
ID=16584892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21016882A Granted JPS59100143A (ja) | 1982-11-30 | 1982-11-30 | 合成樹脂製品のプラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59100143A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62101634A (ja) * | 1985-10-30 | 1987-05-12 | Hashimoto Forming Co Ltd | 装飾用モールディングの製造方法 |
| EP0120307A3 (en) * | 1983-02-25 | 1989-05-03 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for plasma treatment of resin material |
| JP2000073029A (ja) * | 1998-08-26 | 2000-03-07 | Nitto Denko Corp | 粘着部材及びその製造方法 |
| KR20210020042A (ko) | 2018-06-08 | 2021-02-23 | 쇼와덴코머티리얼즈가부시끼가이샤 | 점착 시트의 제조 방법, 다이싱·다이본딩 일체형 테이프의 제조 방법, 반도체 장치의 제조 방법, 점착제의 처리 방법, 피착체의 고정화 방법, 및 피착체의 박리 방법 |
-
1982
- 1982-11-30 JP JP21016882A patent/JPS59100143A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0120307A3 (en) * | 1983-02-25 | 1989-05-03 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for plasma treatment of resin material |
| JPS62101634A (ja) * | 1985-10-30 | 1987-05-12 | Hashimoto Forming Co Ltd | 装飾用モールディングの製造方法 |
| JP2000073029A (ja) * | 1998-08-26 | 2000-03-07 | Nitto Denko Corp | 粘着部材及びその製造方法 |
| KR20210020042A (ko) | 2018-06-08 | 2021-02-23 | 쇼와덴코머티리얼즈가부시끼가이샤 | 점착 시트의 제조 방법, 다이싱·다이본딩 일체형 테이프의 제조 방법, 반도체 장치의 제조 방법, 점착제의 처리 방법, 피착체의 고정화 방법, 및 피착체의 박리 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH033700B2 (ja) | 1991-01-21 |
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