JPS59100441A - 物体表面から付着不溶化したポリビニルアルコ−ル部分を除去する方法 - Google Patents

物体表面から付着不溶化したポリビニルアルコ−ル部分を除去する方法

Info

Publication number
JPS59100441A
JPS59100441A JP58201863A JP20186383A JPS59100441A JP S59100441 A JPS59100441 A JP S59100441A JP 58201863 A JP58201863 A JP 58201863A JP 20186383 A JP20186383 A JP 20186383A JP S59100441 A JPS59100441 A JP S59100441A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
etching
stencil
mask
coating
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58201863A
Other languages
English (en)
Inventor
ピ−タ・マイケル・リツト
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
RCA Corp
Original Assignee
RCA Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by RCA Corp filed Critical RCA Corp
Publication of JPS59100441A publication Critical patent/JPS59100441A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/02Local etching
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D9/00Chemical paint or ink removers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42Stripping or agents therefor
    • G03F7/422Stripping or agents therefor using liquids only
    • G03F7/423Stripping or agents therefor using liquids only containing mineral acids or salts thereof, containing mineral oxidizing substances, e.g. peroxy compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
〔発明の背景〕 この発明物体表面から不溶化したポリビニルアルコール
(以後1)VAと呼ぶ)部分を除去する新規な方法に関
し、特に(それに限らないか)エツチングした金属部祠
から耐食性PVAマスクを剥離する方法に関する。 蕗光エンチングにより陰極線管用の孔あきマスクを製造
する方法は例えば米国特許第4061529J&明細書
に記載されている。代表的方法では、冷間圧延鋼板や銅
ニツケル合金板のような金属薄板の両主面に賦活天然蛋
白質材料の感光性被膜を被着し、この被膜を密着焼付法
等により光像に露出して′隠元部を硬化することによシ
水性溶媒に溶は難くし、これを現像して被膜の溶は易い
部分だけを除去して板の両面にマスクを形成した後、こ
のマスクを焼、成してその金属板のエツチング液に対す
る耐性を高める。このエツチング液は一般に塩化第2鉄
と塩酸の水溶液である。次にマスクを表面に持つその金
属板を望み通り選択工、ツチングした抜上の板からマス
クを除去する。現在の商用法では、感光性被膜が上記米
国特許開示のような重クロム酸塩賦活カゼインで、空気
中で約200〜350°Cに加熱することにより耐食性
を増す。金属板を塩化第2鉄塩酸溶液でエツチングした
後、これに水ば化ナト、リウムその他のアルカリの熱水
溶液を与えてマスクを除、去する。         
     ・1現在用いられている光賦感天然材料の代
シに感光性・被膜特に感光性合成材料を提供することは
いくつかの理由で望ましい。不溶化された重クロム1俊
I燕賦層、ボリヒニルアルコール(PVA )の耐hρ
性ス1ンンルの使用か匠来法では提唱さhて来たか、こ
の従来法&liアルカリ浴敢を用いる工業的かX−)経
FT r6+力法で1.1そのステンシルを完全に除去
するのか困難なことか判って来プζ。米国性1t−i−
第42(,18242外ki鋼板で長比マメクを製造す
る揚台
【・1光賦感被膜Jしで車りロム酸塩賦感ボリヒ
ニルアルローノ)2・アセテートの薄1模を月1いるこ
Jを土足1召しているか、i= ノ薄IM ニ、+41
 イラ、tL ルPVA1t 98,5〜loO% 加
水分解され1分子−か約14000である。この薄膜v
:j現1家後約250 ”に−C約2〜3分加熱してそ
の耐酸性を改善するか、この処理の/とめステンシルの
接イー″y性か極めて回にし、これを除去するには特別
の処理を匈する。1この処理とは鋼板のjツチング後ス
テンシノしを1”J 25 tJ〜300 ”C−(そ
i−+かカラメル化するまて焙J見すること−C′、こ
才りによるとそのカラメル化したステンシルUゴ熱笥f
4ノーダ水溶液で除去することかできる。 衣国特1γtり’+4339528−りけ上記米国性d
「第42()8242 !;1の力υ、で用いたエツチ
ング後培焼を限定し/ζ小さな群から選ふこ吉呑4¥:
案し、ている、。 また米国希+n’ケ’、’4339529 へpr、1
t・レスト組成物(IこNメヂI」−ル・う′クリ、ル
ン゛ミド(NMA )を添加することにより玉ツチング
抜培″’tD ’&力くする(二2を技案じている。 不溶化PvAスデンシルをエツチングに用17する応用
には、そのスデンン)Lを化学(r’、)にL特化する
薬品をf’+] L)−CV+jhE人するものかある
5、例えは米国長’、a第ニア11 ’7590 ”?
別は過酸化物またζ・」庖)硼酸塩の熱水溶液−〔、米
国4へ!j Mf第:う415648冒(」り【コム酸
の熱水溶液で、米国特許第3796603シ)(・−ま
過)゛ンメノ゛ン酸塩また一過沃素h9塩の水浴液で、
子れそ“hスデンジル企処理することを開示している。 4佐のものの過沃素酸塩irt過沃素酸〜Cもよい1う
このようなイく俗化PVA、’iiS分を基体r<開か
ら除去する従来法は佃れも、(1)速1褪か極めて<L
’f <、(2)PVA除去か不完全で、(3)費用か
→・〕っ・り痴)さ、また(4)機械化か困難であると
いう欠点の少なく々も1つ・を−自するか、この発明の
]11誌1・」比較rI()高IrL!1廷−C1除入
か′j1g ”’L T、経済的で、機械化か【」1能
である。 [−発明の概要−1 1・(管ft; 、PVA L’lX分をそれが付量し
た病体表面から1頭火す2)ためのこの発明の方法では
、そのP VA部分a’ (−t、7)&而を塩酸およ
び/または・虫酸のような非酸化t’を無機酸の少なく
とも1つを−XtのPVAパIS力をkか/こか軽度の
闇F戒的作用7除去しイー)る濃度で含む水性剥離液に
接触させる3、この発明の方法に用いるそのイII 肉
[ff i’+″Ll′iアルカリでもなく才/こ硬化
し7ブこ1・?ヤ9化PVAの目ゼ1ヒ剤でもな旨。 側1板に長比マスク等を・エツチング−J゛るには、こ
の発明のツノ法のijJに東りロム酸塩賦感P VAを
紫外線J−熱で1・浴化し/こステンシルを用いイ)p
L未来法行う6、([:11114ナシのエソ・f−ン
グは約0−n6N未満の塩酸を會むjl)λ化第2鉄工
ツヂング液で−Lツヂングーするが、この酸ハエソチン
グ中にステンシル4−損わない。 エツーy−ンク!5,1了仮−1−述の非酸化性剥離酸
散を用いてステンシルを除去するが、この、しき液を噴
流にし−C吹付け/こり、ステンシルを金属基体から軽
くプランで1・、;”り取つ/ζりするような軽度の機
械的作用を加えてその(余人を助けることか望ましい。 1て推奨天h)ヰ例の91泊(1ろ一胱1すj 41次
にこの発明をカラーラゝレビ映1象fi用の長比マスク
の製造((−用シ・)る湿式化qエツチング法の一74
4ζ店しで説明するか、この発明の硬化f’ V Aス
フ/ノルを基体衣[f1]から除去またC−f Q:l
l :11F−すイ、力θ、tl、他の形式のエツチン
グに関jψ;−J”Z)が、基体tj)−r、ノチング
に6−1全く関係のない他のノjiノ、(1)−部さく
〜で使用するこ吉もてきる。 第1メl (、)1開化をエツチングさ!し、iM 1
′(ス1ン7/Lを1条1帰されてエツチング磯)6・
ら出でk 7’ζ−トスク刊i)U’21の)1・[1
′lI図1で・わろ、 i二の一マスクf灼(オシ)」
4(ノノシーテし/ビ11Ik凶管用) i”、を同4
4のマスクLけ個2 J、xi、21゜211)等の連
鎖から成る金属板2.)の−部で。pビー)で、その外
周部25かそのマスク母5(1乞妬、親板2;口中&−
)定位iF’j、 l’i−保持J゛るに充分な】Iξ
当しS・点(し1示(〕〜ず)を除い−(r−ツヂ/′
グてすJ抜かれ−C−シ)る1つマスクU:) jシ2
1は破線28て画定された有孔中央部2′・′と −1
’l(、r〜ラッチングたものもあるか通常無比の周辺
i;I(’e’、、・〕とを含んでいる。開孔?1円形
−e6角He、夕’イー、t’士ンド型等に配列されて
いることも、また長方形細隙で垂直に、例えは約OJ5
 X O,’76mm細隙か中心間隔約O,ワ6 mr
lで配列きれでいるとと鵞ある。この開孔の形状や配列
は任意に選ぶと点ができ、どの実施例においても開孔の
幅または直径がマスク全体に、亘って均一なこともあシ
、また公知のようにその配列の中心部から外周部に向っ
て勾配を持つこともある。 マスク母材21は厚さ約0.10〜0.25Mの通常ま
たは低炭素冷間圧延鋼板にエツチングされているが、こ
のエツチングはまたアンバ合金や銅ニツケル合金等の他
の材料にも行うことができる。金属板23は洗浄、耐食
ステンシル形感、開孔エンチング、マスク母材画定、ス
テンシル剥離(除去)を含む種々の工程を通った後、そ
れから各マスク母材21が分離される。このマスク母材
21はさらに公知のように熱処理(焼鈍)、ローラ掛け
、プレス成形、黒化の各処理を行ってカラーテレビ映像
管に組込むに適するマスクを生成する。 第2図ないし第5図はこの発明の1実施例を第1図に示
すように厚さ約0.15 qry 、+7? 、、低炭
素冷間圧延鋼板の中央部2ワに6角形配列の開孔群を形
成するのに用い得る一連の工程によって示す。鋼板23
の両主面をP、VA 七その重り?ム酸塩賦感剤を含み
。 この目的に用いられる公知の被覆用組成液で被覆し、そ
の被覆を空気中で乾燥して第2図に示すような重クロム
酸塩賦感Pvへの感光被膜31.33を形成する。被膜
の乾燥後、第3図に示すように、その被覆鋼板をチェー
ス内で2枚の不透明マスターバタンの間に位置決めし、
その一方のマスターパタン35を鋼板23の一方の主面
の被膜31に、他方のマスターバタン37を他方の主面
の被膜33に対応させ、各マスターパタンを明膜31.
33に物理的に接触すせる。一方のマスターパタン35
は外径約0.12mmの円形で、他方のマスターパタン
39は外径約0.40間の円形てあす、両マスターバタ
ンの中心・線は一致しているが、必要に応じて偏位、し
ていてもよい。 バタン35%37を第3図のように置き、鋼板23の両
面の被膜31.33を炭素弧灯まだはキセノンランプの
ような光源からの化学作用(硬化)&!に露出すると、
その放射線はチェースガラス板39.41を通過してマ
スターパタン35.37でそれぞれ遮蔽された以外の被
膜31.33に入る。被膜を適当に露出した後露出を止
め、マスターパタンを除く。 ここで被膜31.33′ff:水その他の水性、溶媒に
よる洗浄等によシ現像してその遮光された未露光の高溶
解度部分を除去すると、第4図のように鋼板23はその
一方の主面に第1の円形開孔43を持つ被膜31よシ成
る第1のステンシルを有し、他方の主面に第2の円形開
孔45を持つ被膜33よシ成る第2のステンシルを有す
るものになる。この開孔43.45を持つステンシル被
膜31.33をこの実施例では次に空気中で約250〜
275°Cで焙焼して被膜の耐食性を向上させる。 耐食ステンシルを表面に持つ鋼板23をその両面から1
工程または連続工程で選択的にエツチングして所要の開
孔を形成する。第5図はエツチング終了1侍のステンシ
ル被覆鋼板23を示す。このエツチングは塩化第2鉄塩
酸エツチング液を用いる通常の方法で行い、そのエツチ
ング液のエツチング力を維持するためその中に塩素ガス
を量をIIJ御しつつ注入する。エツチングの大部分は
塩化第2鉄によって行われ、塩酸によって行われるのは
僅i−しかない。必要なことは塩酸濃度が約(1,06
’N未満の所要範囲にエツチング液のp I−1を維持
することだけて、このよう、に塩酸、濃度を低くすると
PV’Aステンシルには殆んどまたは全く影響しない。 塩化第2鉄はどんな濃度でもPVAステンシルには殆ん
どまだは全く影響しない。 エツチング終了後、被覆鋼板23を水洗して残留エツチ
ング液奪すべで除去し、然る後その金1舅板、23を約
0.1〜0.3Nの塩酸を含み、温度約25〜?5°C
に保たれた水溶液中で約3〜5分間動揺させることによ
り、、耐食ステンシル31.33を大型の切片として鋼
板から剥離除去する。ステンシル多賀去後、鋼板23を
水洗し、乾燥して第1図II/こ示す成品金1鋳る。 上述のステンシルの製作に用いる被覆組成物では、いく
つかの項目が重要である。 1.85〜98係加水分解された分子量約IQOOO〜
] 50000のI:’V、八Lへ」−すべて便用1j
]’ fTlで、こ才t1・−」一種・シの商品名で市
販されている合成品・0了t−を吋iqである。 便用したPVl〜の加水分解反か高し)ステンシル(1
ど、エツチングAll (7)11.2’f :〜ヤニ
温度を・旨く−する必゛妓ゾhあり、P VA ())
 分子’ % カ商ぐhる!’1ど、加水分M Ijj
r ノ高い0とに↓るイく都合を補fistすると2か
困難になる。。 2 、、IJ VAのlf(り[’Jム酸すトリウノ2
、カリウムあ・上ひ7′ンモニウノ、賦感剤の中では、
Fl(り「]ノ、酸ナトリウノ・か伊11匡の;搾成り
品/2・長いためJfl奨さhる4(タロノ・醒ア/l
カリである。、この光賦照剤&−:t (「=在するP
 V Aの重4iの9()、03〜0 、 (jと37
71((::’+〜8係)から成り、その破ω組成物の
I) I(を決定ず−る5、この爪りロム前塩の鮮イi
箱か:3壬未満の扱j模it必四幽出時間か長胴きで1
ス゛−用FrJ Tなく、8循IC)、土・Sつ被膜に
1貯蔵ノ91命か短か過ぎて丁暢生産月1としてi現実
性かなu)C1破膜の實する露光1)、〜4間C:i地
の車り【」ノ、5り塩賦感PVA破膜に対するものと回
じで、ちって、省皮膜ンつ)ら矛:J ’73 Cノ〃
のi1目#2itのs Wギセノンランソ′の、パルス
)lI′、を用いブこ吉き杓15〜45秒か曹辿である
。 3、この被覆Xlt成物に他の徹加剤C″士全く安しな
露光焙焼さitグこステンシルの接MY力か低(パ4“
るため盾11I11活性剤U1用し・)ない、−1硼砂
そのt’tv (2) フルノJり化’N料は組成Vθ
肴7ゲル化し、で−ギ、′:に基体1tii−1の波谷
を困却にJる/、−め用し・)ない1.4゜金m & 
上(Z) 幅M JI、1.’ ;5 (ri コノi
l )LFI tj)力a、Ck1重要な因子−r、+
Ji’fljvか薄1向ぎて約1 、57z 、L)i
 −”’F−&(l iるJ−、エツチングか不均一に
4・つで−マスク欠陥を生L)、厚渦き−で一約3 t
ttj−に& るL、必’J ’!I: ii4出峙゛
間か長くなで)で、機械的ボングダウ゛・・の問題1牛
じ、マスクの均一1か低ト・す、もL−とフうX斗・)
る、っ5、現像後のPVA被膜の(制J′赴1ツ1−を
向上するためのエッチ1./グ前焙焼条件の推奨型は杓
200〜3oO°Cτ4つg□〜30Q秒である43培
・)嘉温度か(これ土り低Q−すJ−シば燻焼時間を長
くする心穴′ハ、(重L、(Zlll/)偏jリー範囲
て妹焼J i’L タP VA ’fA m、 ri、
a: 7−lf7 り完−,1’ <&の酸処鹿により
最も効率、1′<除去される0、一般に使用する:r:
7チンダ液の(Ill L■か商いj−6ど、す1)、
1′り汰のエツチング前培焼温I!J−を高ぐする4[
イ・四゛かある6、6、エツチング段階終了波、硬化し
7たスj−yジノ)、をこの冗明の方法により金属板と
共に塩酸および/土たは燐酸のようる・非酸化性節目y
を含む稀釈水溶散に接触させイ、ことにより除去する。 、ta[約C〕、1〜0.3Nの塩酸か推奨さhる。、
塩酸の代りにま、ヤC・:1そtL、 l共に濃度約0
.5〜2.5Nの燐酸を用いるこ吉も−Cきる、こi−
+らの酸haステンゾ7゛【7.トソれの何と?1した
表1111との界面に働らくもの、1−考えられ、こノ
L1寸スブン/′ノ1か表面から犬をの切11吉し−℃
剥^Illすることかfgff側さJ′Lる点で証明さ
J1小5.剥離l或による処即汝ステンンルを軽ぐブー
、3シで」4るLステンシルを約1〜・5分間で除去す
ることかできる力・、ブラシで]ζηらずに剥離液を吹
1・1けるJ−、ステンシルの除去に3〜10分安する
力)も知れない。 剥iii[1液の温j、υ、(1洋1歴、浸漬時間(・
1当業者による比較的少い試iJに上り最適に決、V)
ること−7にTきる。 4、図[tllの筒中な1悦明 ::i1. ]しl#、Ltの発明の方法に↓すJ゛、
゛ヂンクか完了し、耐J!セ注スi−ンシルを剥IJi
i(さ)L 7”:金属板の3Ftbi Ixl、Hi
p; 2171 i イL第F」図1・−1この発11
11の1 >K Mu例の一+i、−J−稈を・i、す
金1嘱板のコ一つの開孔をi、1−1iるIIJ”i 
1fNi図である4゜ 23・・・基体、 :う1.33・・1でリヒニノ1j
′ルロール部、43、・;5・・1ノ(1孔部3、

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)物体表面から付着不溶化したポリビニルアルコー
    ル部分を除去する方法であって、上記部分と表面を少な
    くとも1つの非酸化性無機酸を上記部分を多く七も軽v
    、flJ械的作用で除去するに足る濃度で含む水性剥離
    液に接触させる段階を含む方法0
JP58201863A 1982-10-27 1983-10-26 物体表面から付着不溶化したポリビニルアルコ−ル部分を除去する方法 Pending JPS59100441A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/436,946 US4401508A (en) 1982-10-27 1982-10-27 Method for removing insolubilized PVA from the surface of a body
US436946 1982-10-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS59100441A true JPS59100441A (ja) 1984-06-09

Family

ID=23734448

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58201863A Pending JPS59100441A (ja) 1982-10-27 1983-10-26 物体表面から付着不溶化したポリビニルアルコ−ル部分を除去する方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4401508A (ja)
JP (1) JPS59100441A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63284832A (ja) * 1987-04-30 1988-11-22 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション トレンチ分離構造を注入領域に自己整合させる方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4561931A (en) * 1984-12-21 1985-12-31 Rca Corporation Method including producing a stencil from layer of dichromate-sensitized PVA and fluorescein-type dye
US4865953A (en) * 1987-09-28 1989-09-12 Rca Licensing Corp. Method for making a stencil with a borax-free, low-dichromate, casein photoresist composition
US5695659A (en) * 1995-11-27 1997-12-09 United Technologies Corporation Process for removing a protective coating from a surface of an airfoil
US6090401A (en) * 1999-03-31 2000-07-18 Mcneil-Ppc, Inc. Stable foam composition

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3175907A (en) * 1963-02-07 1965-03-30 Talb Ind Inc Stripping resists from printing plates
US3415648A (en) * 1964-08-07 1968-12-10 Philco Ford Corp Pva etch masking process
GB1375402A (ja) * 1971-01-25 1974-11-27
US4208242A (en) * 1978-10-16 1980-06-17 Gte Laboratories Incorporated Method for color television picture tube aperture mask production employing PVA and removing the PVA by partial carmelizing and washing
US4339528A (en) * 1981-05-19 1982-07-13 Rca Corporation Etching method using a hardened PVA stencil
US4339529A (en) * 1981-06-02 1982-07-13 Rca Corporation Etching method using a PVA stencil containing N-methylol acrylamide

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63284832A (ja) * 1987-04-30 1988-11-22 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション トレンチ分離構造を注入領域に自己整合させる方法

Also Published As

Publication number Publication date
US4401508A (en) 1983-08-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4339528A (en) Etching method using a hardened PVA stencil
US3325319A (en) Process for etching arcuately shaped metal sheets
US4061529A (en) Method for making etch-resistant stencil with dichromate-sensitized casein coating
JPS59100441A (ja) 物体表面から付着不溶化したポリビニルアルコ−ル部分を除去する方法
JP3870385B2 (ja) 水溶性フォトレジスト組成物
US4259421A (en) Improving etch-resistance of casein-based photoresist pattern
US4208242A (en) Method for color television picture tube aperture mask production employing PVA and removing the PVA by partial carmelizing and washing
US3916056A (en) Photomask bearing a pattern of metal plated areas
US4339529A (en) Etching method using a PVA stencil containing N-methylol acrylamide
JPS52119172A (en) Forming method of fine pattern
SU1175370A3 (ru) Способ образовани кислотоустойчивой копии на поверхности
US4561931A (en) Method including producing a stencil from layer of dichromate-sensitized PVA and fluorescein-type dye
US4230794A (en) Improving etch resistance of a casein-based photoresist
US3693223A (en) Screening process for color cathode-ray tube
US4237210A (en) Aqueous photoresist method
US4230781A (en) Method for making etch-resistant stencil with dichromate-sensitized alkali-caseinate coating
US3737314A (en) Manufacture of printing elements by a photoresist chemical etching system
US3348948A (en) Presensitized deep etch lithographic plates
US20020170878A1 (en) Etching resistance of protein-based photoresist layers
US915666A (en) Process for producing printing-surfaces.
US3876468A (en) Method for reclaiming glass articles
US3730719A (en) Method and article for color kinescope screen and mask production
US4263384A (en) Method of forming fluorescent screens of color picture tubes
US4865953A (en) Method for making a stencil with a borax-free, low-dichromate, casein photoresist composition
JPH07207464A (ja) 水溶性フォトレジスト膜の硬膜方法