JPS59106444A - ４−ヒドロキシ−ｌ−アロスレオニンアミド類の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、優れた作用を有する抗菌剤の合成中間体とし
て有用な新規化合物、すなわち式〔式中、ＲＩＮＩ（は
保護されてい・てもよいアミノ基を示す〕で表わされる
４−ヒドロキシ−Ｌ−アロスレオニンアミド類またはそ
の塩の製造法に関するものである。

最近天然から単離された１−スルホ−２−アゼチジノン
誘導体はその特異な検認と抗菌活性とにより注目を浴び
ている〔ネイチャー（Ｎａｔｕｒｅ　）　＋２８９巻、
５９０頁（１９８１）；　　２９１巻、４８９頁（，１
９８１））。また、特開昭５５−１６４６７２、特開昭
５６−１２５３６２．特開昭５６−１３３２６０および
特開昭５７−１３１７５９等にはβ−ラクタム環の３位
アシルアミノ基を種々変化させた１−スルホ−２−アゼ
チジノン誘導体が、若干の４位置換体とともに開示され
ている。

本発明者らは、先に新規かつ有用な１−スルホ−２−ア
ゼチジノン誘導体を得る目的で鋭意研究し、β−ラクタ
ム環の４位に力μパモイルオキシメチル基を有する化合
物が優れた抗菌作用を示す（特開昭５７−１３１７５８
）こと、なかでも、式 ％式％ （ スルホン酸（以下“化合物（ＩＩ　）　”と称する）が
緑膿菌を含むダラム陰性菌に強い抗菌作用を示し、かつ
微生物の産生ずるβ−ラクタマーゼにきわめて安定であ
ることを見いだした（特願昭５７−７３７２８）。そし
て、この化合物ＣＩＩ）の製造法に関し更に鋭意研究し
た結果、式 〔式中、Ｒ４ＮＨは保護されていてもよいアミノ基を、
Ｒは低級アルキ／Ｌ／またはアラルキｐ基を示す〕で表
わされるＬ−エリスロー３−ヒドロキシアスパラギン酸
β−エステル類またはその塩を還元し、得られる式 〔式中、Ｒ３Ｎｕは保護されていてもよいアミン基を示
す〕で表わされる４−ヒドロキシ−Ｌ−アロスレオニン
類またはその塩をラクトン化し、得られる式 〔式中、Ｒ２ＮＨは保護されていてもよいアミノ基を示
す〕で表わされるＬ−エリスローα−アミノ−β−ヒド
ロキシ−γ−ブチロラクトン類またはその塩とアンモニ
アを反応させると、４−ヒドロキシ−Ｌ−アロスレオニ
ンアミド類〔■〕またはその塩が得られること、そして
得られた化合物〔■〕またはその塩は、化合物（ＩＤで
代表される４位にカルバモイルオキシメチル基を有する
１−スルホ−２−アゼチジノン誘導体を製造するための
有用な新規合成中間体である式 ％式％） 〔式中、ＲＯＮＨは保護されたアミノ基を示す〕で表わ
される光学活性なβ−ラクタム類またはその塩を、光学
分割法を用いないで合成するだめの有利な原料であり、
化合物（Ｉ）またはその塩を原料として用いて目的とす
る１−スルホ−２−アゼチジノン誘導体を製造すると、
例えば特願昭５７−７３７３８に開示された光学分割法
を用いて製造する方法にくらべて工業的により効率的で
あることを見出し、これらに基づいて本発明を完成した
。

即ち、本発明は、 （１）化合物〔■〕まだはその塩とアンモニアを反応さ
せることを特徴とする化合物〔Ｉ〕またはその塩の製造
法、 （２）化合物〔■〕またはその塩を還元し、得られる化
合物ＣＩＶ）またはその塩をラクトン化し、得られる化
合物〔■〕またはその塩とアンモニアを反応させること
を特徴とする、化合物〔工〕またはその塩の製造法に関
する。

前記式〔工）　、　（ＩＩＩ）〜（Ｖｌ）において、Ｒ
Ｏ。

Ｒｌ、、、　Ｒ４がアミノ基の保護基を示すとき、それ
らは同−又は相異なっていてもよく、β−ラクタムおよ
びペプチド合成の分野でこの目的に用いられるものが便
宜に採用される。、たとえばフタロイル、ｐ−ニトロベ
ンシイｌ　、　ｐ　−ｔｅｒｔ−ブチルヘンシイｐ等の
芳香族アシμ基、たとえばｐ−ｔｅｒｔ−プチルベンゼ
ンスμホニル、ベンゼンスルホニμ、ｐ−トルエンスル
ホニル 基，タトエハホルミル，アセチル、プロピオニル、モノ
クロロアセチμ，ジクロロアセチル、トリクロロアセチ
ル、トリフルオロアセチル、マレイル、サクシニル等の
脂肪族アシ／ｌ’基，たとえばメタンスルホニル、エタ
ンスルホニル等の脂肪族ス／ｌ／７に二μ基，りとえば
メトキシカルポニμ，エトキシカルボニル、イソプロポ
ギシカルポニル，ｔーブトギシカμボニル、２−シアノ
エトキシ力ルボニ／Ｌ’．２．２．２−トリクロロエト
キシカルポニμ，２−トリメチルシリルエトキシカルボ
ニル、２−メタンスルホニルエトキシカルボニル、ベン
ジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル、ｐ−
クロロベンジルオキシカルボニル、ジフェニルメチルオ
キシカルボニル、メトキシメチルオキシカルボニル、ア
セチルメチルオキシカルボニル、イソポルニルオキシカ
ルボニｆｉ／ｌフエニルオキシカルポニμ等のエステル
化されたカルボキシル基，さらに、たとえばトリチル、
２−ニトロフエニμチオ、ベンジリデン、４−ニトロベ
ンジリデン、トリアルキルシリル、ベンジル。

ｐ−ニトロベンジμ等が用いられる。該保護基の選択は
本発明においては特に限定されるものではないが、たと
えばエステル化されたカルボキシル基など、とシわけベ
ンジルオキシカルボニル、ｔーブトキシカμポニＩｖす
どが好んで用いられる。

前記式ＣＩＯ）において、Ｒで示される低級アルキル基
としては、たとえば直鎖状または分校状の炭素数１〜４
のものがよく、たとえばメチル、エチμ，ｎープロピμ
，イソプロピμ，ｎ−ブチμ、イソブチル等が用いられ
る。アラμキル基としてｌｄ、＊．！：，ｔばベンシル
、フェニルエチル、フェニルプロピル、ナフチルメチル
、ナフチルエチル等が用いられる。Ｒの好ましい例とし
ては、たとえばメチル、エチル等であシ、特にメチルが
最適である。

前記式ＣＩ）、（ＩＩＤ〜〔■〕において、Ｒ１−Ｒ４
が水素原子の場合、そのアミノ基においてこれらの化合
物は塩を形成してもよく、その塩としては、たとえば塩
酸，硫酸，硝酸，燐酸，臭化水素酸等の無機酸、たとえ
ば酢酸，蓚酸，酒石酸、安息香酸，ベンゼンスルホン酸
等の有機酸との塩が用いられる。また前記式（ＩＩＩ）
　、　（ＩＶ）およびＣＶＩ）の化合物は、それらのカ
ルボキシル基またはスルホ基において塩を形成してもよ
く、その塩としてはたとえばナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属との塩、たとえばマグネシウム、カルシウ
ム等のアルカリ土類金属との塩、たとえばピリジン、ピ
コリン、μチジン等の有機塩基との塩、さらにたとえば
、テトラブチルアンモニウム等のテトラアルキルアンモ
ニウムとの塩等が用いられる。

本願方法では、まず化合物（ＩＩＩ）ｔたはその塩を還
元することにより化合物（ｊＶ）またはその塩を製造で
きる。

化合物ＣＩ［］の還元とは、化合物〔■〕のβ−エステ
ル基をヒドロキシメチル基に変換し得る反応を意味する
。還元方法あるいは還元剤としては上記目的に合致する
ものはすべて用いることができ、たとえばすｌ・リウム
、マグネシウム等とアンモニアによる方法（Ｂｉｒｃｈ
還元）、ナトリウムとアルコールによる方法（Ｂｏｕｖ
ａｕｌｔ　Ｂｌａｎｃ還元）、水素化）！Ｊ−ｎ−ブチ
ルスズ等の有機ヌズ水素化物、木葉化アルミニウムリチ
ウム、水素化アルミニウムナトリウムとその関連化合物
、水素化ホウ素ナトリウムとその関連化合物、水素化ホ
ウ素カリウム、水素化ホウ素ナトリウム等を用いる方法
等があげられる。反応条件はそれぞれの還元方法あるい
は還元剤に適したものが用いられ、たとえば「新実験化
学講座、第４５巻、酸化と還元〔■〕、丸善株式会社（
１９７７）ｌに記載されている反応条件等が便宜に用い
られる。上記還元方法あるいは還元剤のなかで、特に水
素化ホウ累ナトリウム等の水素化ホウ素とアルカリ金属
まだはアルカリ土類金属の付加化合物を使用する方法が
好ましく、化合物〔■〕１モルに対して通常１〜２０モ
ル、好ましくは４〜１ｏモル用いられる。

反応溶媒としてはたとえば水、メタノール、エタ／−／
Ｉ／などのアルコ−ｔｖ＃テトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどのエーテル類まだはこれらの任意の混合溶媒等
が好ましい。反応湿度は通常０〜１００’Ｃ，好ましく
は１０〜５０ｃで行なわれる。

かくして得られる化合物〔■〕は、塩析、抽出等の通常
の方法によシ遊離形であるいは常法により塩として単離
することもできるし、また単離しないで反応液のまま直
接次の反応に使用することもできる。

次に化合物（ＩＶ）またはその塩はそのままラクトン化
させることもできるが、Ｒ３が木葉原子の場合には、ア
ミノ基を保護した後ラクトン化させて化合物（Ｖ）また
はその塩を得ることもできる。

アミノ基の保護基としては先にＲ○　Ｒ１−Ｒ４の例と
してあげた保護基等が用いられ、なかでもペンジルオキ
シカルポニ）ｖ　、　ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル等
が好ましい。これらの保護基の導入は、通常のアミノ酸
への保護基の導入法と同様にして行なわれる。化合物〔
■〕まだはその塩は、そのままあるいは溶液状態で室温
中放置するだけでも徐々にラクトン化して式（Ｖ）で表
わされる化合物を生成するが、たとえば加温（３０〜１
００℃好ましくは３０〜６０　’Ｃ）　したシ、生成す
る水を系外に除去したシ、あるいは酸を添加すること等
によりこのラクトン化の速度をはやめることもできる。

この目的に用いられる酸としては、たとえば硫酸、塩酸
等の鉱酸、たとえば酢酸、ｐ−）ルエンスルホン酸、メ
タンスルホン酸等の有機酸等が好ましい。またこれらの
有機酸はピリジン等の有機アミン塩として用いてもよい
。このような酸は、通常（、ＩＶ）またはその塩１モル
に対して０．０１〜１モルの触媒量を添加すればよく、
また過剰に添加して溶媒として使用してもよい。さらに
また酸無水物、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ホス
ゲン等によってもラクトン化をはやめることができる。

反応は、通常１〜２４時間で終了する。得られる化合物
〔■〕は上記のごとき常法により遊離形あるいは塩とし
て単離することもできるが、反応混合物のまま次の工程
の原料とすることもできる。

かくして得られる化合物ＣＶ）またはその塩とアンモニ
アを反応させることによシ、本願目的化合物ＣＩ）また
はその塩を製造することができる。

なお、さきのラクトン化反応において、アルコール類を
溶媒として使用すると、式ＣＶ）で表わされるラクトン
のほかに副産物として、式〔式中、Ｒ２ＮＨは前記と同
意義を、Ｒ５は低級アルギル基を示す〕で表わされるエ
ヌテ）Ｖまたはその塩（〔Ｖ〕の塩と同様のもの）が得
られることもあるが、本化合物もまたアンモニアと反応
させることによシ本願目的化合物〔工〕またはその塩を
与えるので、化合物〔■〕と〔■〕は混合物のまま使用
することができる。また、化合物ＣＶ）のＲ２が水産原
子の場合は、（ＩＶ）の場合と同様にアミノ基に保護基
を導入した後に本反応に供されてもよい。本反応は任意
の溶媒中で行なわれるが、たとえば水、メタノール、エ
タノ−、／Ｌ／などのアルコール類、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンなどのエーテル類またはこれらの任意の
混合溶媒等が好ましい。反応温度としては一２０〜６０
′ＣＪの範囲で任意に選択できるが、アミン基の保護基
の種類によってはα位の異性化を伴ない４−ヒドロキシ
−Ｄ−アロスレオニンアミド類またはその塩を副生ずる
ことがあるので、必要以上に反応温度を上げるのは避け
ることが好ましく、通常０〜３０℃の範囲で行なわれる
。またこの異性化をできるだけおさえる手段として、た
とえば塩化アンモニウム、酢酸アンモニウム、硫酸アン
モニウム等のアンモニウム塩を共存させる（化合物（Ｖ
）まだはその塩１モルに対して１〜５００モルないし支
障のない限りそれ以上とりわけ１０〜５０モ／Ｉ／）の
が好ましい。この場合反応溶媒としては水−メタノール
、水−エタノール、水−テトラヒドロフラン、水−ジオ
キサン等の混合溶媒が好んで用いられる。アンモニアは
たとえば水、メタノールなどの溶媒に溶かして用いるの
がよく、化合物〔ｖ）またはその塩１七μに対して通常
１〜１０モル用いられる。なかでも４〜６モ／１／量を
含むアンモニア水を数回に分けて反応系に加える方法が
好ましい。反応時間は、通常１〜２４時間好ましくは５
〜２０時間である。かくして得られる化合物ＣＩ）は通
常の精製手段、たとえば抽出、再結晶、カラムクロマト
グラフィー等により単離することができるが、単離する
ことなく反応混合物のまま次の工程の原料として用いる
こともできる。

得られた化合物〔工〕において、Ｒ１が水素で示される
４−ヒドロキシ−Ｌ−アロスレオニンアミドは、そのア
ミノ基において種々の塩を形成させることができ、常法
に従ってたとえば塩酸塩。

臭化水素酸塩、硫酸塩等として単離することもできる。

またそのアミノ基に、通常のアミノ酸の場合と同様にし
て種々の保護基を導入し、ＲＩＮＨが保護されたアミノ
基で示される目的化合物ＣＩ）に変換することもできる
。さらにまたＲｌＮＨが保護されたアミノ基で示される
目的化合物ＣＩ）を通常の方法により脱保護してＲ１が
水素で示されの変換は化合物ＣＭ）、（：Ｉｌ／：）、
ＣＶ）においても同様に行なえる。

かくして得られる化合物〔工〕またはその塩は、たとえ
ば前記の化合物（ＶＩ、ｌまたはその塩の有利な合成原
料となるので、化合物（ＶＩ）またはその塩より化合物
（ＩＩ）等の有用な抗菌剤に導びく際の有用な原料とな
る。具体的には、化合物Ｃｌ０）は（’３　Ｓ　、　４
　Ｓ　）−配位を有する光学活性体であシ、特願昭５７
−７３７２８には光学分割法で得られる中間体を経由す
る合成法（方法１）が開示されている。しかし光学分割
法は一般に高価な分割用試薬を必要とし、しかも相対す
る光学異性体（３Ｒ，４Ｒ一体）を利用できないため最
高可能収率が５０％であり、実際にはそれよりかなり低
いのが通常である。一方、本願目的物ＣＩ）またはその
塩を用いる場合は、醗酵法で容易に得られる（２Ｒ，３
Ｒ，）−エポキシコハク酸を出発原料とし、化合物（Ｉ
［）、ＣＩＶ）、（Ｖ）、ＣＩ）を経て（ＩＩ）を有利
に製造する（方法２）ことができる。即ち、水沫は適切
な配位を有する光学活性体を原料として使′用するため
、光学分割を必要とせず通常の合成化学的手段で容易に
、かつ効率よく化合物（ＩＩ〕を製造できる優れた方法
である。

方法１） （Ｘ）　　　　　　　　　　　　　　（ＸＤ〔■〕 （ＤＭＢ：２，４−ジメトキシベンジル）方法２） ０ＯＨ （２Ｒ，３Ｒ）　　　　　　　　（Ｌ−エリスロ）（Ｌ
−エリスロ） （３ｓ、、ｉｓ） 〔式中、Ｒ６ＮＨは保護されていてもよいアミノ基を、
他の記号は前記と同意義を示す〕 上記“方法２″の出発原料である化合物〔■〕は公知化
合物であり、たとえばＬ　−（＋）−酒石酸から誘導す
ることもできる〔日本化学雑誌、８２巻、９８頁（１９
６１））が、カビ類による醗酵生産法〔ジャーナル・オ
ブ・ザ・メディシナル・ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ
　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ　Ｃｈｅｍｉ　−
５ｔｒｙ　）　、　６巻、２３３頁（１９６３））が本
化合物を安価に、かつ大量に供給する方法として優れて
いる。化合物〔■〕もまた公知化合物であｐ、化合物〔
■〕とアンモニア水を反応させて合成する方法が上記文
献（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｍｅｄｉｃｉｎａ
ｌＣｈｅｍＬ１３ｔｒｙ　）に記載されておシ、一般に
室温ないし６０’ｔＥの温度範囲で数時間から数日間が
き混ぜることによシ行なわれる。なかでも４０〜５Ｃ１
で１〜３日間かき混ぜることが好ましい。本願原料化合
物（ｌｌＦ）において、Ｒ４が水素原子であって、かつ
Ｒがメチル基の化合物は公知化合物であシ、化合物（Ｘ
ＩＶ）をエステル化することによシ得られる〔テトラヘ
ドロン・レターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｃｉ−ｒｏｎ　Ｌｅ
ｔｔｅｒｓ、　４７３３頁（１９６８））。Ｒが他の低
級アルキルまたはアラルキル基の化合物についても同様
に合成され、一般に化合物０石〕と式ＲＯＨＣ式中のＲ
は前記と同意義〕で示されるアルコ−）Ｖ類を、酸触媒
の存在下室温ないし１５０℃の温度範囲で反応させるこ
とによシ行なわれる。

酸触媒としては、たとえば、塩化水素ガス、塩酸水、硫
酸、ｐ−）／ｌ／エンスルホン酸等が用いられる。ベン
ゼン、トルエン等の溶媒を使用してもよいが、アルコ−
）ｖ類を過剰に用いて溶媒としてもよい。具体例につい
ては後に参考例として示される。化合物ＣＩＩＩ）のＲ
としては低級アルキ／ｖｘｌアラルキル基に限らず、ア
リール基、アルケニル基、アルキニル基、フェナシル基
等も〔■〕の合成に利用可能であり、さらにＣ０ＯＲで
表わされるエステルにかえてＣ０８Ｒ７（Ｒ７はアルキ
ル基、アラルキル基、アリル基等を示す）で表わされる
チオエステル等でもＣＩＶ）の原料化合物となシ得るが
、製造の容易さからＲが低級アルキ／Ｖまたはアラルキ
ル基で示される化合物（ＩＩ　）が特に好ましい。Ｒ４
がアミン基の保護基である化合物〔■［〕は、Ｒ４が水
素原子である化合物（ＩＩＩ）から通常のアミノ酸の保
護基の導入法と同様にして合成される。また化合物〔■
〕のアミノ基を保護した後エステル化することによって
も合成される。化合物〔■〕においてＲ２が水素で示さ
れるＬ−エリスローα−アミノ−β−ヒドロキシ−γ−
ブチロラクトンはその塩酸塩が公知であり、４−ベンジ
ルオキシ−ＤＬ−アロスレオニンを光学分割した後水素
化分解し、次いでラクトン化して塩竣塩として得る方法
が文献〔日本化学雑誌、８９巻、９９８頁（１９６８）
）に記載されている。しかし本合成法はジアステレオマ
ーの分離や光学分割を必要とするため収率が低く実用的
な方法とは言えない。本願は化合物〔工〕の製造法を提
供するものであるが、同時にその中間体あるいは原料と
しての化合物〔Ｖ〕、すなわちＬ−エリスローα−アミ
ノ−β−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトンまたはそのア
ミノ基が保護された誘導体の新規な、かつ実際的な製造
法を提供するものでもある。次に、本願目的物ＣＩ）−
Ｃｘｖ）、ＣＸＶ）−（■）、ＣＶＩ　〕−（ｘｙｇ、
α■〕→ＣＩＤの各工程の合成法について述べる。

１）　　ＣＩ　）−ＣＸＶ） 本工程は化合物ＣＩ　）　（ＲＩＮＨは保護されたアミ
ノ基を示す場合）の−級水酸基をクロロアセチμ化し、
次に二級水酸基をメシル化（メタンスルホニμ化）する
ことにより行なわれる。

クロロアセチル化剤としては、たとえば塩化クロロアセ
チル、無水クロロ酢酸等を脱酸剤と共に用いるのが好ま
しい。脱酸剤としては、たとえばトリメチルアミン、ト
リエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエ
チルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリ
ジン、Ｎ、Ｎ−ジアルキルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジアルキ
ルベンジルアミン、ピリジン、ピコリン、ルチジン等の
有機アミン類、たとえば炭酸水素ナトリウム、炭酸木葉
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸また
は重炭酸アルカリ金属塩、たとえばフッ化セシウム、フ
ッ化カリウム、フッ化ナトリウム、フッ化リチウム等の
金属フッ化物等が用いられる。通常化合物〔１０１モル
に対して、脱酸剤は１〜２モル使用するのが好ましいが
、金属フッ化物を用いる場合には１モｐ以下の触媒量で
も有効に働き、０．０１〜１モルの範囲、好ましくは０
．０１〜０．１モルの範囲で用いられる。またＮ。

Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセタミ
ド等も脱酸剤として、或いは脱酸剤を補助するものとし
て有効に働く場合があり、通常溶媒を兼ねて過剰に用い
るのが好ましい。溶媒としてはさらに、水、アセトン、
ジオキサン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホ
ルム、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、酢酸エチ
／Ｌ／またはその他の反応に関与しない一般有機溶媒が
あげられ、これらのうち親水性の溶媒は水と混合して使
用することもできる。本りロロアセチμ化反応は、化合
物〔工〕の一級水酸基にだけ反応させて二級水酸基には
反応させないこと、すなわち反応の選択性が必要なため
反応温度は通常−４０ｔ〜室温に保つのがよく、なかで
も−２０℃〜５Ｃの範囲が特に好ましい。生成物は通常
の精製、単離手段によシ純品として得ることもできるが
、粗生物のままあるいは反応液のまま次のメシル化反応
に供することもできる。

メシル化反応におけるメシル化剤としては、たとｔばｉ
化メタンスルホニμ、無水メタンスルホン酸等が用いら
れる。脱酸剤として先にあげたものと同様の有機アミン
類を１〜２モル共存させることが好ましい。反応溶媒と
しては反応に関与しない有機溶媒が好ましく、クロロア
セチル化反応応温度は通常−４０℃〜室温で行なわれる
が、なかでも−２０℃〜５℃の範囲が好ましい。かくし
て得られる化合物（ＸＶ）は、先に述べたような通常の
精製手段によシ単離することもできるし、単離しないで
粗生物のまま次の反応に原料として使用することもでき
る。

２）　　（ｘｖ）−（ＶＩ：） 本工程は化合物ＣＸＶ）のカルバモイμ基をスルホン化
し、次に塩基の存在下閉環させ、同時に又は続いてクロ
ロアセチル基を脱離することによシ行なわれる。

スルホン化剤としては、たとえば無水硫酸あるいは無水
硫酸の反応性誘導体等が用いられる。無水硫酸の反応性
誘導体としては、たとえば無水硫酸−ピリジン、無水硫
酸−ピコリン、無水硫酸−ルチジン、無水硫酸−Ｎ、Ｎ
−ジメチルホルムアミド、無水硫酸−ジオキサン、無水
硫酸−トリメチルアミン等の付加体が用いられる。反応
は通常反応に関与しない有機溶媒中で行なわれ、たとえ
ば塩化メチレン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水
ｍｄｆｆ　、　Ｎ　、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、
Ｎ−ジメチルアセタミド等のアミド類等が用いられる。

反応温度は一２０°〜８Ｃ１、好ましくは室温〜８０℃
である。かくして得られるＮ−スルホ体はそのスルホ基
において塩を形成することが可能であシ、その塩として
はさきにＣＭ）　、　（ＩＶ〕、〔■〕のカルボキシμ
基あるいはスルホ基における塩の例としてあけたものと
同様のものが用いられる。

次に閉環反応は、たとえば炭酸カリウム、灰酸ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸二
カリウム、リン酸二ナトリウム等の無基塩基類、たとえ
ばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の
有機塩糸類等の存在下に行なわれる。反応溶媒としては
、水、または、たとえばクロロホルム、塩化メチレン、
ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、たとえばジ
オキサン、テトラヒドロフラン等のエーテ／Ｌ／頚、た
とえばアセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、た
とえばＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアセタミド等のアミド類等が単独、または混合して用
いられるが、なかでもアセトン、塩化メチレンまたは、
水とハロゲン化炭化水素類との併用が好ましい。反応は
０〜１０１の温度範囲で行なわれるが、通常２ｏ〜５ｏ
ｃｔｖ範囲が好ましい。本閉環反応において、特に無機
塩基類の存在下加温した場合には、クロロアセチル基は
加水分解をうけて除去されることもあるが、除去されな
い場合には、通常のアルカリ加水分解または、たとえば
Ｎ−メチルジチオカルバミン酸ナトリウム、チオウレア
等との反応により容易に除去することもできる。かくし
て得られる化合物〔ま次の反応に使用することもできる
。まだアミノ基の保護基を任意のものに変換することも
できるし、スルホ基を前記のごとき任意の塩とすること
もてきる。

３）（ＶＤ−Ｃ■〕 本工程は化合物ＣｖＤのヒドロキシメチ／Ｌ／基をカル
バモイルオキシメチル基に変換することよりなる。

具体的には化合物〔■〕に対して、たとえばクロロアセ
チルイソシアナート、トリクロロアセチルイソシアナー
ト、ジクロロホヌポリルイソシアナート、クロロスルホ
ニルイソシアナート等のイソシアナート類を反応させて
保護されたカルバモイル基を導入し、次いでカルバモイ
ル基の保護基を脱離することにより行なわれる。化合物
ＣＶＩ）と上記インシアナート類との反応は、たとえば
塩化メチレン、ジクロロエタン等の炭化水素類、　”エ
チルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ
ーテ／Ｌ／頬Ｉ　Ｎ　、　Ｎ−ジメチルホ７レムアミド
、ＪＮ−ジメチルアセタミド等のアミド類等の反応に関
与しない有機溶媒中で、−４０℃〜室温、好ましくは一
２０′Ｃ〜５℃の温度範囲で行なわれる。反応は通常１
〜数時間で完了する。次にカルバモイル基における保護
基を脱離する方法としては、それぞれの保護基に適した
公知の方法が有利に採用されるが、たとえばクロロアセ
チル基の場合には炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム等を用いるアルカリ加水分解またはＮ−メチルジチオ
カルバミン トリクロロアセチル基の場合には同様のアルカリｆｐＨ
５〜１０において加水分解してホスホノ基（　ｇ（ｏＨ
）２）に変換し、次いでｐＨ　５以下好ましくはｐＨ　
３〜ｐＨ　５の範囲内で加水分解する方法等により行な
われる。かくして得られる化合物〔蹟〕は、先に述がた
ような通常の精製手段によシ単離することもできるし、
単離しないで粗生物のまま次の反応に使用することもで
きる。またアミン基の保護基を任意のものに変換するこ
ともできるし、スルホ基を任意の塩とすることもできる
。

まだアミノ基の保護基を除去した化合物（Ｒ６＝Ｈ）の
場合には、そのアミノ基とスルホ基とで分子内塩を形成
させることも可能であシ、本分子内塩は融点２０７〜ｚ
ｚｏｃ（分解）、〔α）２Ｄ１−６２．９。

（、Ｑ＝０．４９　、ＤＭｓｏ）の無色結晶として得ら
れ、４位に力μバモイルオキシメチル基を有する１−ス
ルホ−２−アゼチジノン類の製造原料としてきわめて有
用な化合物である。

４）　　（ＸＶＩ）−（ＩＩ） 本工程は必要に応じて化合物〔川〕のアミノ基の保護基
を常法に基づいて除去した後、たとえば２−（２−クロ
ロアセタミド−４−チアゾリル）−（Ｚ）−２−（ｐ−
二トロベンジルオキシカルボニルメトキシイミノ）アセ
チルクロライド塩酸塩を、たとえば炭酸水素ナトリウム
等の塩基の存在下、たとえば水とテトラヒドロフランの
混液中で反応させ、次にＮ−メチルジチオカルバミン酸
ナトリウムを反応させてクロロアセチル基を除去し、次
いで水素化分解によりｐ−ニトロベンジル基を除去する
ことにより化合物（ＩＩ）を製造する方法である。かく
して得られる最終目的物ＣＩＤは、公知の手段によシ単
離、精製することができる。上記の例ではアシル化剤に
おけるチアゾール環２位アミノ基はクロロアセチル基で
保護され、力μホキシル基はｐ−ニトロベンジル基で保
護されていたが、これらの保護基は必ずしも必要ではな
く、また他の保護基であってもよい。まだ酸クロライド
にかえて他の方法による活性化も可能であり、それらの
例を含め本工程は、特開昭５７−１３１７５８　、特願
昭５７−７３７２８に詳しく記載されておシまったく同
様にして行なうことができる。また上記１）〜４）の具
体的な例については後に参考例に示される。

本発明は、さらに下記の実施例で詳しく説明されるが、
これらの例は単なる実イ列であって本発明を限定するも
のではなく、また本発明の範囲を逸脱しない範囲で変化
させてもよい。

また以下の実施例および参考例において使用される“シ
リカゲル″はメルク社（Ｍｅｒｃｋ　、西独）製であり
、“アンバーライトＸＡＤ−２”はローム・アンド・ハ
ース社（Ｒｏｈｍ　＆　Ｈａａｓ　Ｃｏ、、　ＵＳＡ）
製であシ、“ダウエックス５０　Ｗ　”はダウケミカル
社（Ｄｏｗ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏ、、　ＵＳＡ）製
であり、“Ａ　Ｇ　５０　Ｗ　”はビオ・ラド・ラボラ
トリーズ社・（Ｂｉｏ　・Ｒａｄ　Ｌａｂｏｒａｔｏｒ
ｉｅｓ　、　ＵＳＡ　）製であシ、′“ダイヤイオン″
は三菱化成社製である。ＮＭＲスペクトルは、内部また
は外部基準としてテトラメチルシランを用いてＥＭ３９
０　（９０ＭＨｚ）ｉたはＴ　　６０（６０ＭＨｚ）５
スベク）’ｏツメ−−で測定し、全δ値をｐｐｍで示し
た。実施例、参考例中の記号は次のごときを意味する。

Ｓ　：シングレット（ｓｉｎｇｌｅｔ）ｄ　：ダブレッ
ト　（ｄｏｕｂｌｅｔ）ｄ、ｄ：ダフリレダプレット（
ｄｏｕｂｌｅ　ｄｏｕｂｌｅｔ）ｔ　ニトリプレット（
ｔｒｉｐｌｅｔ’）ｍ　：マルチプレット（ｍｕｌｔｉ
ｐｌｅｔ）Ｊ　：カップリング定数（ｃｏｕｐｌｉｎｇ
　ｃｏｎｓｔａｎｔ）Ｈｚ：へ／ｌ／ッ　（Ｈｅｒｚ） ｍｇ：ミリグラム（ｍｉｌｌｉｇｒａｍ）ｇ　ニゲラム
　（ｇｒａｍ　） ｍｌ：ミリリーター（ｍｉｌｌｉｌｉｔｅｒ）１　　：
リーター（１ｉｔｅｒ） Ｐｈ　　：　フェニル（ｐｈｅｎｙｌ）ＤＭＳ○　ニジ
メチルスルホキシド（ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｕｌｆｏｘｉ
ｄｅ　） Ｎｕｊｏｌ　：ヌジョール Ｎ　：規定濃度　（ｎｏｒｍａｌ） Ｍ　：モ／Ｌ／′ａ度　（ｍｏｌａｒ）〔α〕　：比旋
光度（ｓｐｅｃｉｆｉｃ　ｏｐｔｉｃａｌ、　ｒｏｔａ
ｔｉｏｎ）参考例／ （２Ｒ，３Ｒ）−エポキシコハク酸７９．２ｇに氷水冷
却下漬アンモニア水１．２４を少しずつ加える。４５〜
４７′Ｃで４８時間かき混ぜた後減圧下に濃縮し、残留
物に水２００ｇ？を加えて再び減圧下に濃縮する。残留
物を水１２０ｇ＋／に溶かし、活性炭１．２ｇを加えて
濾過する。ｐ液に氷水冷却子濃塩酸５０ゴを加えて一夜
冷却放置する。析出結晶を枦取し冷水６０ｍ１で洗浄す
ると、Ｌ−エリスロー３−ヒドロキシアスパラギン酸が
無色結晶トして７３．１９　（８１，７％）得られる。

〔α〕２ｆ、５　＋５５．６°（ｃｍ０．９．ＩＮ塩酸
）。

Ｉ　Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　ｃｍ　　、　３４６０．３２１
０．１６９０゜元緊分析値：Ｃ４Ｈ７ＮＯ５として Ｃ帥）　　　　Ｈ（＠Ｎ（＠ 計算値　　３２．２２　　４．７３　　９．４０実測値
　　３２．０２　４．８４　９．５４参考例λ Ｌ−エリスロー３−ヒドロキシアスパラギン酸２９．８
ｇをメタノ−／Ｌ／３００ｇ／に懸濁し、濃塩酸２０　
ｔｘｌを加えて８時間加熱還流する。減圧下に溶媒を留
去し、残留物にメタノールを加えて再び留去する。固化
した残留物を水６０　ｍｌとエタノール６０　ｍｌの混
液に溶かし、氷水冷却下ピリジン１５゜８ｇを加えてよ
く振り混ぜた後−夜冷却放置する。

析出結晶を沖取し、５０％エタノール、次いでエタノー
ルで洗浄すると、Ｌ−エリスロー３−ヒドロキシアスパ
ラギン酸β−メチルエステルが無色結晶として２３．８
ｇ（７３％）得られる。薄層クロマトグラフィーでみる
と水晶は若干の未反応原料ヲ含んでいる。５０％エタノ
ールから再結晶すると醐ｉ点２２６−２２’ｌ（分解）
の無色結晶として純品が得られる。

〔α）２５＋６４．４°（ｃｍｌ　、ＩＮ塩酸）。

Ｉ　Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　ｃｍ　１：　　３１７５．　１
７７０．　１７５５゜１６２０゜ 元素分析値：Ｃ３Ｈ０Ｎ○５として Ｃ（ロ）　　　Ｈ（４）　　Ｎ岐） 計算値　　３６．８１　　５．５６　　８．５９実測値
　　３６．５７　　５．６５　　８．５４参考例３ Ｌ−エリスロー３−ヒドロキシアスパラギン酸４．５ｇ
をエタノ−／Ｉ／６０　ｒｓｌに懸濁１７、濃塩酸６ｍ
ｌを加えて６時間加熱還流する。減圧下に溶媒を留去し
、残留物にエタノールを加えて再び留去する。

固化した残留物を水１０ｍ１とエタノール１０ｓｔの混
液に溶かし、氷水冷却下ピリジン４．５　ｇ／を加えて
よく振シ混ぜだ後−夜冷却放置する。析出結晶ヲＶ＝取
し、５０％エタノール、次いでエタノールで洗浄すると
、Ｌ−エリスロー３−ヒドロキシアスパラギン酸β−エ
チルエステルが無色結晶として１．８ｇ（３４％）得ら
れる。エタノールと水の混液（７：６）から再結晶する
と融点２４０−２４５℃（分解）を示す。

〔α〕２４．５　＋　７３−１°　（ｃｍ１．ＩＮｉ酸
）。

工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　ｃｍ　１：　３５２０．３４３０
．１７５５゜１７２５、１７２０．１６５５．１６２５
゜元累分析値二０６Ｈ１□Ｎｏ５として ｃ（＠　　　　Ｈ（＠、　　Ｎ（％） 計算値　　４０．６８　　６．２６　　７．９１実測値
　　４０．６３　　６，２８　　７．９０参考例り Ｎｌ２−ペンジルオキシカルボニ／Ｌ／−４−ヒドロキ
シ−Ｌ−アロスレオニンアミド２．０９　ヲ乾ｆｆｌ　
ＬりＮ　、　Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｔｓｌに溶
かしルチジン１　ｄを加える。−１２′Ｃに冷却し、塩
化クロロアセチ／１’１．（ｌを乾燥した塩化メチレン
９ｍｌに溶かした溶液を２０分間で滴下する。滴下終了
後−１（ｌで１時間かき混ぜる。減圧下７ｇｌまで濃縮
し、残留溶液に乾燥したジクロロエタン１０１１１を加
えて一１５′Ｃに冷却する。トリエチルアミン２．３ｖ
を加え、次いで塩化メタンスルホニル１．７ｇを乾燥し
たジクロロエタン５ｍｌに溶かした溶液を１０分間で滴
下する。滴下終了後−１０〜−１５℃で３０分間かき混
ぜ、反応液に酢酸エチ／７１００ｇＺを加えて３Ｎ塩酸
、飽和重曹水９食塩水で順次洗浄する。無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後減圧下に溶媒を留去し、残留物をシリカゲ
ｔＶ　１８０ｑを用いるカラムクロマトグラフィーに付
す。ヘキサンと酢酸エチ／Ｌ’１：ｌの混液で展開し、
次いで１：３の混液で溶出する。溶出液を集め、溶媒を
留去し、固化した残留物をヘキサンと酢酸エチルの混液
（１：２）から結晶化させると、Ｎｔｘ−ベンジルオキ
シカルポニ）ｖ−０β−メタンスルホニル−４−クロロ
アセチルオキシ−Ｌ−７０スレオニンアミドが融点１４
０−１４２　’Ｃの無色結晶として１．９ｇ（５９％）
得られる。

〔α〕暫＋４．９°（Ｃｍ０．６７５．メタノール）。

工Ｒ（ＫＢｒ）　Ｃｍ　　、　３４３０．３３４．０．
１７５０゜１７００、　１６７５．　１６２５゜ 元素分析値：　Ｃ工５Ｈ１，ＣｌＮ２０８ＳとしてＣ（
（転）　　　Ｈ（燭　　Ｎ（％） 計算値　　４２．６１　　４，５３　　６．６３実測値
　　４２．７３　　４．５５　　６．４６参考例タ ビコリン３．０　ｘｉを塩化メチレン４０耐に溶かしア
ルゴン雰囲気下−１０′Ｃに冷却する。この溶液にクロ
ルスルホン酸１．０　ｄをゆつくシと加え、−１０℃で
５分間かき混ぜる。次にＮ“−ベンジルオキシカルポニ
／１／−ｏｐ−メタンスルホニ／Ｖ−４−クロロアセチ
ルオキシ−Ｌ−アロスレオニンアミド２．１７９を加え
、室温で５分間かき混ぜた後１９時間加熱還流する。冷
後反応液を０．６Ｍ酸性財硫酸カリウム水浴液４０ｚｔ
で洗浄し、次に２９６Ｍｔ曹水各２５ｍ１で２回抽出す
る。抽出液を合わせ硫酸水素テトラブチルアンモニウム
２−８４９を加えた後ｍ化メチレン各２５ゴで２回抽出
する。抽出液を合わせて無水硫酸ナトリウムで乾燥後減
圧下に濃縮する。残留物をジクロロエタン４０　Ｉｔに
溶かし、炭酸水産カリウム２．０ｇを水２５　ｔｓｔに
溶かした溶液を滴下する。反応混合液を激しくかき混ぜ
なから浴温８０〜８５℃で１５分間加熱還流する。

冷後有機溶媒層を分取し水層はジクロロエタンで抽出す
る。有機溶媒層を合わせて無水硫酸ナトリウムで乾燥し
、減圧下に溶媒を留去する。残留する油状物を乾燥した
塩化メチレン４Ｃ）ｔｌに溶かし、アルゴン算囲気下Ｏ
ででクロロアセチルイソシアネー）　０．４２　ｔｓｌ
をゆっくりと加える。水冷下１時間かき混ぜた後Ｎ−メ
チｐジチオカルバミン酸ナトリウム１．２ｇを水１５１
ｔに溶かした溶液を加える。反応混合液を室温で１時間
激しくかき混ぜた後有機溶Ｖ＆層を分取する。水層は塩
化メチレンで抽出し、有機溶媒層を合わせて無水硫酸ナ
トリウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、残留物を
エタノールと水の混液（１：２）４０ｇＪに溶かす。

ＡＧ５０Ｗ−Ｘ４樹脂（１００〜２００メツシユ、Ｎａ
ｐ）３ｏａｔを加えて１５分間かき混ぜた後樹脂を枦去
し水洗する。炉液と洗液を合わせて減圧下に約半量まで
濃縮し、残留溶液を酢酸エチル各１０ｇＪで２回洗浄し
、減圧下に濃縮し、固化した残留物にメタノールを加え
て濾過する。枦取した結晶を冷却したメタノール、エー
テルで洗浄すると、（３８，４８）−３−ペンジルオキ
シカルボニμアミノ−４−力μバモイルオキシメチ）Ｖ
　−２−アゼチジノン−１−スルホン酸ナトリウムが５
８０ｑ（３６９６）得られる。

工Ｒ（ＫＢｒ）　ｃｍ、１：　３５２０．３３８０．３
３３０゜１８００、１７３０．１６９０゜ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ａ６−＝ｐＭｓｏ）δ：　３．８５〜４．
４０　（３Ｈ、ｍ　、　Ｃ４−Ｈ２Ｏ２−ＣＨ２）、４
．９２（ＩＨ，ａ、ａ、Ｊ＝５゜１０Ｈｚ、Ｃ３、Ｈ）
、７．３５（５Ｈ−８，芳香族プロトン）　、７．９８
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１’ＯＨｚ、Ｃ３−ＮＨ）。

結晶を炉取した母液を減圧下に濃縮し、残留物を水５１
１１に溶かしてダイヤイオン６０＃ｔを用いるカラムク
ロマトグラフィーに付す。水および５％エタノールで溶
出し、目的物を含む画分を減圧下に濃縮した後アセトン
を加えて濾過すると、上記目的物がさらに２２０り得ら
れる。合計収量８００躍ダ（５０％）。

参考例乙 （３ｓ、４３）　−’３−ベンジルオキシカμボキサミ
ド−４−カルバモイルオキシメチル−２−アーｔｉ−ｙ
−ジノンー１−スルホン酸ナトリウム４２２ｑを水１０
ゴとテトラヒドロフラン１０ｆｉ／の混液に藩かし、１
０％パラジウム炭素４２２”９を加えて水素雰囲気下室
温で１時間かき混ぜ息。触媒をｐ去し、水とテトラヒド
ロフランの混液（１：１）３０　ｍｌで洗浄する。ろ液
と洗液を合わせて水冷下かき混ぜながら重曹２０２■を
加え、次に２−（２−クロロアセタミド−４−チアシリ
＃）−（Ｚ）−２−（、ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ポニｌレメトキシイミノ）アセチルシクロフィト塩ｅ塩
６１４ｍｇを加える。水冷下３０分間かき混ぜた後ＩＮ
塩酸でｐＨ５に調整し減圧下３０ｉｔまで濃縮する。

残留液にテトラヒドロフラン１０ｍ／を加え、次にＮ−
メチルジチオカルバミン酸ナトリウム１２９ｍ（１を加
え室温でかき混ぜる。４０分後ならびに８０分後にそれ
ぞれ１２９ｑずつのＮ−メチルジチオカルバミン酸ナト
リウムを追加し、合計２時間かき混ぜる。減圧下にテト
ラヒドロンランを留去し残留水溶液をエーテルで洗浄後
再び減圧下に濃縮する。残留物をアンバーライトＸＡＤ
−２（２００ｍ？）を用いるカラムクロマトグラフィー
に付Ｌ、水、５％エタノール、１０％エタノール。

１５％エタノールおよび２０％エタノ−ｙｖ　ｆ　ｌ１
ｍ　次溶出し、目的物を含む両分を集めて減圧下に濃縮
した後凍結乾燥すると、（３８，４８）−３−（２−（
２−アミノ−４−チアゾリル）−（Ｚ）−２−（ｐ−二
トロベンジルオキシカルボニμメトキシイミノ）アセタ
ミドクー４−カルバモイルオキシメチ／Ｉ／−２−アゼ
チジノン−１−スルホン酸ナトリウムが淡黄色粉末とし
て５００＃Ｉｆ（７６％）得られる。

〔α）％”−１−１０，１°（ｃｍ１．水）。

水晶３５０　？ｉｇを水２０　ｗｒｌに溶かし、１０％
パラジウム炭素３５０Ｍ４を加え水素雰囲気上室温で１
時間かき混ぜる。触媒を枦去して水洗する。ろ液と洗液
を合わせダウエックス５　Ｑ　Ｗ　（Ｈ）　４０　ｄを
加えて水冷下１時間かき混ぜる。樹脂を炉去し、水およ
び水とアセトンの混液で洗浄する。炉液と洗液を合わせ
て減圧下に濃縮し、残留物をアンバーライトｘｐ−Ｄ−
２（１５０ａＪ）を用いるカラムクロマトグラフィーに
付し、水火に５％エタノールで溶出する。目的物を含む
画分を減圧下に濃縮した後凍結乾燥すると、（３８，４
３）−３−（２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−（
Ｚ　）−２−（カルボキンメトキシイミノ）アセタミド
シー４−カルバモイルオキシメチ）ｖ−２−アゼチジノ
ン−１−スルホン酸が無色粉末として１６４ｑ（６１％
）得られる。

〔α〕も６−４５°（ｃｍｌ　、　ＤＭＳＯ）。

工Ｒ（ＫＢｒ）　ｃｍ　　、　　１７６０．　１７１５
．　１６７０゜１６４０゜ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：　３．９〜４．４　
（３Ｈ、Ｃ４−Ｈ。

Ｃ４ＣＨ２）　、　４．６６（２Ｈ、ｓ　、　Ｎｏ−Ｃ
Ｈ２）、　５．２８（ＩＨ，ｄ、ｄ、Ｊ＝４．５＋１０
Ｈｚ、０３　　Ｈ）、６．９２（ＩＨ，ｓ、チアゾール
核５位プロトン）、９．３３（ＬＨ、ｄ　、　Ｊ−１０
Ｈｚ　、　Ｃ３ＮＨ）。

参考例７ Ｎ″−ベンジルオキシカルボニルルホンシ−Ｌ−アロス
レオニンアミド７、０９　全乾燥１．りＮ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド３１ｍ１に溶かし、内温を一１０″Ｃに
冷却してフッ化カリウム７１’を加えた後塩化クロロア
セチ／’　２．５　ｍｌを滴下する。

同温度で３０分間かき混ぜ、次に減圧下反応液を１／３
量まで濃縮する。残留物を酢酸エチ／Ｖ４００ｉｔに溶
かし、水苔１０Ｍｔで３回、飽和重曹水苔１０にｌで２
回および食塩水１０ｓｔで１回洗浄する。

無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧下に濃縮し、残留物
をエタノ−／Ｉ１５０　ｍｌから再結晶すると、Ｎａ−
ベンジルオキシカルボニル−４−クロロアセチルオキシ
−Ｌ−アロスレオニンアミドが？ｌ　点１２１〜１２３
ｔｌ：（７）無色結晶として６．ｏｇ（６７＊）得られ
る。

〔α）、；４．５　＋１２．７°（ｃｍ０．４５　、　
ＤＭＳＯ）。

元素分析値二　〇〇。Ｈ工、ＣｌＮ２０６としてｃ（＠
　　　　ｎ（＠Ｎ（％） 計算値　　４８．７８　　４゜９７　　ＥＬ１３実測値
　　４８．８９　　４．８１　　７．８３参考例と Ｎａ−ベンジルオキシカルボニル−４−クロロアセｆ）
Ｖオキシ−Ｌ−アロスレオニンアミド５．２ｇを乾燥し
たジメトキシエタン６５　ｍｌに溶かし、内温を一１０
℃に冷却してトリエチルアミ　ン３、１５　ｍｌを加え
、次に塩化メタンスルホニル１、４６　ｍｌを乾燥した
ジメトキシエタン５ゴに溶かした溶液を１５分間で滴下
する。同温度で４５分間かき混ぜた後、反応液に酢酸エ
チルを加え、水１０ｍＪ、３Ｎ塩酸１０ｍ１＋飽和重曹
水各１０ばて２回および食塩水１０ｍ１で洗浄する。酢
酸エチルｊ―を無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧下に
濃縮し、残留物をエタノール３０ゴから再結晶スると　
Ｎ１２−ペンジルオキシカルボニ）Ｖ−０β−メタン、
スルホニル−４−クロロアセチルオキシ−Ｌ−７０スレ
オニンアミド力ｉＭ点１４１〜１４３℃の無色針状晶と
して５．３ｇ（８３％）得られる。

（α）２４．５　＋　５．１°　（Ｃ＝ｏ、５　、メｐ
）−／ｌ／）。

Ｉ　Ｒ（ＫＢｒ）　ｃｍ　　、　　３４．３０．　３３
４０．　１７５０゜１７００、　１，６７５゜ 元緊分析値：Ｃ工、Ｈ工９ＣＩＮ２ｏ８ＳとしてＣ（＠
ＥＩ（（至）　　Ｎ（＠ 計算値　　４２．６１　　４．５３　　６．６３央測値
　　４２．８４　　４．５０　　６．５５実施例Ｘ Ｌ−エリスロー３−ヒドロキシアスパラギン酸β−メチ
ルエステ１２．０９をテトラヒドロフラン３５　ｍｌと
水３５ｍ１の混液に溶かし、氷水冷却下かき混ぜなから
水素化ホウ素ナトリウム１．１６９を少しずつ加える。

氷水冷却下３０分間かき混ぜた後水素化ホウ素ナトリウ
ム４６４ｑを追加し、氷水冷却下さらに２時間かき混ぜ
る。３Ｎ塩酸でｐＨ４に調整後重曹３．０９ｇと塩化カ
ルボベンゾキシ２．１９４Ｍを加えて氷水冷却下３時間
かき混ぜる。

ン′農塩酸でｐＨ１〜２に調整後食塩を加えて塩析し酢
酸エチルで抽出する。水層はさらに酢酸エチルとテトラ
ヒドロンランの混液で抽出する。抽出液を合わせ、無水
硫酸マグネシウムで乾燥後減圧下に濃縮する。残留物を
酢酸１０ｔｉｔに溶がし、室温で２４時間かき混ぜた後
減圧下に濃縮する。残留物を酢酸エチルに溶かし水９重
曹水および食塩水で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで
乾燥する。

減圧下に溶媒を留去した後固化した残留物を酢酸エチ／
Ｌ１５０　ｍｌとヘキサン５０ｒｓｌの混液がら再結晶
すると、Ｌ−エリスローα−ベンジルオキシカルボニル
アミノ−β−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトンが融点１
２９−１３０ｔＥの無色針状晶として１．０２５ｇ（３
３，３％）得られる。

〔α〕も５＋３６．０°　（ｃｍｏ、４．酢酸エチル）
。

Ｉ　Ｒ（ＫＢｒ）　ｃｍ　”：　　３４２０．３３００
．　１７４５゜１６９０゜ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：　４．０８（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝１０Ｈｚ。

Ｃγ−Ｈ）、４．２３〜４．５３（２Ｈ，ｍ、Ｃγ−Ｌ
Ｃβ−Ｈ）　、４．６７（ＩＨ、ｄ、　ｄ　、Ｊ＝４．
５　、９Ｈ７、Ｃａ−Ｈ）、５．０７（２Ｈ，ｓ、ＣＨ
２Ｐｈ）、５．６４（ＩＨ，ｄ、Ｊ−４Ｈｚ、ＯＨ）＋
７．３５（５Ｉ（、Ｓ、芳香族フロ）ン）。

７．３７（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、Ｃ０ＮＨ）。

元素分析値二　〇〇、Ｈよ、Ｎｏ５としてＣ（（転）　
　　Ｈに）　　Ｎ（％） 計算値　　５７．３７　　５．２２　　５．５８実測値
　　５７．５１　　５．１６　　５．８４母液および洗
液は減圧下にｍ縮し、残留物をシリカゲ／Ｌ’１４（ｌ
を用いるカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサンと
酢酸エチ／ｌ’５：１の混液で展開後１：２の混液で溶
出すると上記目的物がさらに９００２ダ得られる。合計
収量１．９２５　ｇ（５８，３％）。

実施例λ Ｌ−エリスロー３−ヒドロキシアスパラギン酸７．４５
９をメタノ−／ｌ’　８０　ｍｌに懸濁し、濃塩酸５、
０　ｍｌを加えて６時間加熱還流する。反応液を薄層ク
ロマトグラフィーで調べるとＬ・−エリスロー３−ヒド
ロキシアスパラギン酸β−メチルエステルが生成してい
る。本友応液に水冷下かき混ぜながら水２５０　ｄと重
曹５０４ｇを加え、次いで水系化ホウ素ナトリウム１１
．３４Ｍを少しずつ加える。室温で１５分間、４０℃で
１２時間かき混ぜた後水冷下で濃塩酸２５Ｒｔを加えさ
らに３０分間かき混ぜる。重曹１６．８ｇと塩化カルボ
ベンゾキシ１０．０　ｔｘｔを加え、室温で４時間かき
混ぜた後水冷下に濃塩酸でｐＨｌ〜２に調整する。食塩
を加えて塩析し、酢酸エチル２５０＋／および酢酸エチ
ルとテトラヒドロフランの混Ｍ（５：１）１５０ａ！　
（４回）で抽出する。抽出液を合わせて飽和食塩水で洗
浄する。無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧下に溶媒を
留去し、残留物に塩化メチレン１５０ｍ／とｐ−）ルエ
ンスルホン酸モノハイトレー）１９０ＦＷを加えて生成
する水を分離しながら１．５時間加熱還流する。減圧下
に溶媒を留去し、残留物に酢酸エチ／１’１５０ｇ＋／
と水３’Ｏｄを加え、水冷下重曹水でｐａ　７〜８に調
整する。酢酸エチル層を分取し、水層は酢酸エチ）Ｖ　
５０　ｍｌで再抽出する。酢酸エチル層を合わせて少量
の重曹を含む食塩水で洗浄し、さらに食塩水で洗浄後無
水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に７Ｍ縮し固化
した残留物を酢酸エチル３０ｄに加温して溶かす。

沖過後Ｐ液にヘキサン３０ｍ１を加えて析出する結晶を
枦取し、酢酸エチルとへキサンの混液（１：１）４０＋
ｗ／で洗浄すると、Ｌ−エリスローα−ベンジルオキシ
カルボニルアミノ−β−ヒドロキシ−γ−ブチロラクト
ンが融点１２７−１２９ｃの無色針状晶として５．３９
ｇ（４２，９％）得られる。

〔α〕曾＋３５，６°（ｃｍｏ、５．酢酸エチ）ｖ）。

元素分析値：ｃ１２Ｈ□３ＮＯ５としてＣ（（転）　　
　Ｈ（＠Ｎ（＠ 計算値　　５７．３７　　５．２２　５．５８実測値　
　５７．３７　　５．０６　　５．６３母液と洗液は減
圧下に濃縮し、残留物をヘキサン３０Ｉｌｌで洗浄後酢
酸エチ／ｌ１５１１ｔに溶かす。ヘキサン５ｍｌを加え
て析出する結晶を枦取、洗浄すると上記目的物がさらに
０．７８　ｇ得られる。合計収量６．９２９＜５５．２
％）。

実施例３ Ｌ−エリスローα−ペンジルオキシヵルポニルアミノ−
β−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトン１．４ｇをテトラ
ヒドロフラン１０にｔと２Ｍ塩化アンモニウム水溶液１
０ｍ／の混液に溶かし、２１４塩化アンモニウム水溶液
１０ｇ／と濃アンモニア水０．５コの混液を氷冷下３０
分間で滴下する。水冷下でかき混ぜ続けながら３時間後
および６時間後にそれぞれ０．５　ｘｒｌおよび０．２
ｄの濃アンモニア水を追加する。嬶らに１時間水冷下に
かき混ぜた後反応液に３Ｎ塩酸４ｍｌを加える。クロロ
ホルムとエタノールの混液（２：１）で２回抽出し、抽
出液を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧下に
溶媒を留去すると粗生成物が１．５ｇ得られる。

水２１ｍ１とエタノ−／Ｌ／７にｔの混液から再結晶す
るト、ＨＣｌ−、（ンジｐオキシカルポニ／ｌ／−４−
ヒドロキシ−Ｌ−アロスレオニンアミドがｉｎ点１７２
−１７４℃の無色結晶として１．５２　ｇ（７６％）得
られる。

〔α）％６＋１３．ｚ°（ｃｍ０．２６５．ＤＭＳＯ）
。

Ｉ　Ｒ（ＫＢｒ）　ｃｍ　”：　３３８０．３３００．
１６６０゜１５５０゜ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：　３．２５〜３．５
４　（２Ｈ、ｍ　。

ＣＨ２０Ｈ）　、３．５１〜３．８４　（Ｉ　Ｈ、ｍ　
、　Ｃａ−Ｈ）、４．０７（ＩＨ，ｄ、ｄ、Ｊ＝６．９
Ｈｚ、Ｃａ−Ｈ）、４．５８（ＬＨ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ、
（、Ｈ２０Ｈ）、４．８５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、Ｃ
ＨＯＨ）、５．０５（２Ｈ，ｓ、ＣＨ２Ｐｈ）。

６．８６〜７．３０（３Ｈ，ｍ、ＮＨ，ＮＨ２）、７．
３１（５Ｈ２ｓ、芳香族プルトン）。

元素分析値”　１２Ｈ１６Ｎ２０５としてＣＣ＠Ｈ（＠
Ｎ　Ｃ＠ 計算値　　５３，７３　　６．０１　　１０．４４実測
値　　５３．５１　　６．０３　　１０．２１実施例グ Ｌ−エリスロー３−とドロキシアスパラギン酸β−メチ
ルエステ／１’３．２６ｇを水１００ｍＪとテトラヒド
ロフラン３０！Ｉ／の混液に溶かす。水冷下かき混ぜな
がら水素化ホウ素ナトリウム４．５４ｇを少しずつ加え
、室温で１５分間９次いで４０℃で１０時間かき混ぜる
。水冷下漬塩酸１２．５　ｍｌを加えた後反応液を減圧
下に濃縮する。固化した残留物にメタノ−／１１５０　
ｅｘｔを加え不溶物を屏去してメタノール各２０ａｇ／
で２回洗浄する。炉液と洗液を合わせて減圧下に濃縮す
る。固化した残留物、すなわち４−ヒドロキシ−Ｌ−ア
ロスレオニン塩酸塩にメタノール５０ゴと６Ｎ塩化水素
−メタノール溶液２０ｔｔｌを加え室温で１４時間かき
混ぜる。

減圧下に濃縮し、残留物にメタノ−７’　３０　ｍｌを
加えて再び濃縮する。固化した残留物、すなわちＬ−エ
リスローα−アミノ−β−ヒドロキシ−γ−ブチロラク
トン塩酸塩にメタノ−／Ｌ／３０！１ｔを加え、次いで
水冷下かき混ぜながら飽和アンモニア−メタノール溶液
２０　ｘｔｌを加える。室温で１６時間かき混ぜた後減
圧下に溶媒を留去し、残留物にメクノー／’　５０　ａ
ｔを加えて再び減圧下に留去する。残留物、スなわち４
−ヒドロキシ−Ｌ−アロスレオニンアミドにメタノ−）
Ｖ　５０　ｙｔｔおよびプロピレンオキサイド１．０ｄ
を加え、次いで塩化カルボベンゾキシ７ゴを滴下する。

室温で３時間かき混ぜた後減圧下に濃縮する。残留物を
シリカゲ／ｌ／’２００ｑを用いるカラムクロマトグラ
フィーに付し、酢酸エチルとメタノ−／ｌ／６：１の混
液で展開後４：１の混液で溶出する。溶出液を集め、減
圧下に溶媒を留去し、固化した残留物をエタノールから
再結晶すると、Ｎａ−ペンジルオキシカルポニ／Ｌ’−
４−ヒドロキシ−Ｌ−アロスレオニンアミドが融点１７
５−１７７ｔＥの無色結晶として２．６１ｇ（４８，７
％）得られる。

〔α聴６＋１３．１°（ｃｍ０．５．ＤＭＳＯ）。

元素分析値：　Ｃ工、Ｈ工。Ｎ２０．として、ｃ（＠　
　　　Ｈ（＠　　　　Ｎ（＠ 計算値　　５３．７３　　６．０１　　１０．４４実測
値　　５３．４８　　５．９４　　１０１２実施例よ 実施例りと同様にして得られる４−ヒドロキシ−Ｌ−ア
ロスレオニンアミドをメタノール５０Ｗｌｌと水１０ｙ
ｔ、ｌの混液に溶かす。水冷下かき混ぜながらトリエチ
ルアミン１．４　ｙｓｌを加え、次いで重炭酸ジーｔｅ
ｒｔ−ブチ／Ｉ／１２．０ｇを加える。室温で３時間か
き混ぜた後減圧下に濃縮する。残留物にメタノールとテ
トラヒドロフランの混液（１：１）Ｅ２００ｇ／を加え
よく振シ混ぜた後無水硫酸マグネンウムを加える。濾過
し、炉液を減圧下に濃縮する。残留物をシリカブ／Ｉ／
２００ｇを用いるカラムクロマトグラフィーに付し、酢
酸エチルで展開後酢酸エチルとエタノールの混液（９：
１）で溶出する。溶出液を集め、減圧下に溶媒を留去し
、固化する残留物をエタノールから再結晶するとＮ（Ｌ
−ｔｅｒｔ−プトキシカルボニｚＬ／−４−ヒドロキシ
−Ｌ−アロスレオニンアミドが融点９５−９’ｌの結晶
として２．５’６　’ｊ　（５４，７％）得られる。

〔α〕管＋１１．８°（Ｃ＝０．４６５．ＤＭＳＯ）。

Ｉ　Ｒ（ＫＢｒ）　ｃｍ　　、　　３３７０．　３３２
０．　１６８５゜１６６０、　１５３５゜ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：　１．３７（９Ｈ，
ｓ、３ｘＣＨ３）。

３．３０〜３．４７　（２Ｈ、ｍ　、　ＣＨ２）、　３
．４７〜３．７４　（ＩＨ、ｍ、Ｃβ−Ｈ）、３．９３
（ＩＨ，ａ、ｄ、Ｊ＝６．９Ｈｚ、Ｃ”−Ｈ）、４．５
３（ＩＨ，ｔ、Ｊ−５Ｈｚ、ＣＨ２０Ｈ）、４．８０（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、ＣＨＯＨ）、６．５０（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、Ｃ０ＮＨ）、６．９７，７．１８（２
Ｈ。

ｂｒ、　Ｂ　、　Ｃ０Ｎ）Ｉ２）。

元素分析値”　　Ｃ９Ｈ１８Ｎ２０５とし７てＣ（へ）
）　　　　Ｈ（＠　　　Ｎ（＠計算値　　４’６．’１
４　　７．７５　　１１．９６実測値　　４５，７６　
　８．１３　　１１．６５実施例乙 り一エリスロー３−ヒドロキシアスパラギン酸β−メチ
ルエステ／ｌ／４．９ｇをテトラヒドロフラン４９ｍ１
と水４９ｙｇｌの混液に懸濁させトリエチルアミン８゜
４ゴを加える。氷水冷却子重炭酸ジーｔｅｒｔ−ブチ／
Ｌ／１０．３ｍ／を加えた後室温で３時間かき混ぜる。

こうして得られるＬ−エリスローＮ　−ｔｅｒｔ−ブト
キシカルポニ／１／−３−ヒドロキシアスパラギン酸β
−メチルエステルの溶液に氷水冷却下水素化ホウ素ナト
リウム６．７８９を少しずつ加え室温で１時間かき混ぜ
る。酢酸エチルを加えてよく振シ混ぜた後水層を分取す
る。この水層を酢酸エチルとテトラヒドロフラン２：１
の混液１５０ゴで２回、１：１の混液５０ｍ１で２回抽
出し、抽出液を合わせて無水硫酸ナトリウムで乾燥する
。減圧下に溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製する。減圧下に溶媒を留去し、
固化する残留物を酢酸エチルとヘキサンの混液から再結
晶すると、Ｌ−エリスローα−ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニルアミノ−β−ヒドロキン−γ−ブチロラクトンが
融点１１８−１２０’０の無色針状晶として得られる。

（α）２ｐ、５　＋５５．９°（ｃｍｌ　、ＤＭＳＯ）
。

工Ｒ（Ｎｕｊｏｌ）　ａｍ　１：　３４５０．３３４０
．　１７５０゜１６８０゜ Ｎ　Ｍ　Ｒ（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ’　１．４０　（９Ｈ
、ｓ　、　３　ｘｃＨ３）　。

４．０〜４．５　（３Ｈ、ｍ　、　Ｃβ−Ｈ＋２ｘｃγ
−Ｈ）、４．５７（ＩＨ，ｄ、ｄ、Ｊ−５，９Ｈｚ、Ｃ
”−Ｈ）、５．５７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、ＯＨ）、
ａ６３（ｘａ、ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ　、　Ｃ０ＮＨ）。

元素分析値”　　Ｃ９Ｈ１５ＮＯ５としてｃ（ＡＨ（（
転）　　Ｎ（（転） 計算値　　４９．７６　　６，９６　　６．４４実測値
　　４９．４５　　６．６９　　６．３０実施例７ 実施例Ｚにおいて、Ｌ−エリスロー３−ヒドロキシアス
パラギン酸β−メチルエステ１２．Ｏｆにかえて、Ｌ−
エリスロ−３−とドロキシアスパラギン酸β−エチルエ
ステｌＬ’２．２！を用いて以下全く同様に反応させる
と、Ｌ−エリスローα−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ−β−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトンが同様の収率
で得られた。

実施例と Ｌ−エリスローα−ベンジルオキシカｔｖｙｔｚニルア
ミノ−β−ヒドロキシ−γ−ブチｐラクトン５、Ｏｑを
エタノ−１６２，５ｍｌと２Ｍ塩化アンモニウム水溶液
２５０ｍ１の混液に懸濁させ、水冷下かき混ぜながら濃
アンモニア水２．７　ｒｔｔｌを加える。水冷下でかき
混ぜ続けながら２時間後および５時間後にそれぞれ濃ア
ンモニア水２．　’７　ｍｌを追加し合計１０時間かき
混ぜる。析出結晶を沖取し、炉液は減圧下に濃縮して残
留物にクロロホルム３００ｍ／とエタノ−Ａｚ１５０ｍ
／を加える。よく振多混ぜた後無水硫酸マグネシウムを
加えて乾燥し、ｐ過後減圧下に濃縮する。残留物に、さ
きに沖取した結晶を加えて水５０ばから再結晶し、五酸
化ニリン上で減圧下に乾燥すると、Ｎ″−ペンジルオギ
シヵルボニル−４−ヒドロキシーＬ−アロスレオニンア
ミドが融点１７０−１７３℃の無色針状晶として３．５
ｇ（６５％）得られる。

〔α〕２ジ・５＋１２．４°（ｃ＝ｏ、５．Ｊλ４Ｓ○
）。

工Ｒ，ＮＭＲは実施例３．で得られたものと一致する。

元素分析値：Ｃｌ２Ｈ工。Ｎ２Ｏ５としてｃ　（＠　　
　　Ｈ（＠Ｎ　（＠ 計算イ直　　　　５３．７３　　　６．０１　　　１０
．４４実測値　　５３．７６　　５．８５　　１０．４
４本品３．４ｇを乾燥したＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド１３ｍ１に溶かし、内温を一２０℃に冷却して塩化ク
ロロアセチ／Ｌ’１．０６ｍＪを滴下する。−２０〜−
１０′ｃで２０分間、水冷下で４０分間かき混ぜた後減
圧下に反応液を濃縮する。その後参考例Ｚと同様にして
精製すると、Ｎ＋２−ペンジルレオキシ力ルボニ／Ｖ−
４−クロロアセチルオキシ−Ｌ−アロスレオニンアミド
が融点１２１〜１２３′ｃの無色結晶として３．１ｇ（
７１％）得られる。

氷晶３．０ｇを参考例ざと同様に反応させると、Ｎ（２
−ベンジルオキシカルボニル−０β−メタンスルホニｚ
ｌ／−４−クロロアセチルオキシ−Ｌ−アロスレオニン
アミドが融点１４１〜１４３℃の無色針状晶として３．
０ｇ（８１％）得られる。

氷晶２．３８９を乾燥した塩化メチレン１０＋ｙｌに懸
濁させ、無水硫酸−ピコリン錯体１９５ｇを加えて室温
で１時間かき混ぜる。反応液を０．６Ｍ酸性硫酸カリウ
ム水溶液１０ｍ１で洗浄し、次いで２％重曹水水苔０π
ｆで３回抽出する。抽出液を合わせ硫酸水緊テトラグチ
ルアンモニウム２．４９ｇを加えた後塩化メチレン各２
５Ｗ１１で４回抽出する。

抽出液を合わせて無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧下に
濃縮する。残留物をジクロロエタン８０ｒｖｌに溶かし
、汰酸水素カリウム２．２６ｇを水５０ゴに溶かした溶
液を加える。反応混合液を激しくかき混ぜなから浴温８
０〜８５℃で２０分間加熱還流する。冷後有機溶媒Ｊ―
を分取し水層は塩化メチレン各１００　ｍｌで２回抽出
する。有機溶媒層を合わせて無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧下に溶媒を留去する。残留物を乾燥テトラヒド
ロフラン５６２ｑｌに溶カし、クロロアセチルイソシア
ナート１．０１９を室温で加えて１時間かき混ぜる。次
に水冷下５％重曹水１１．３　ｍｌとメタノール１．１
　ｍｌを加えて４５ｔＥで５時間かき混ぜる。反応液を
塩化メチレン各１００ばて３回抽出し、抽出液を合わせ
て無水硫酸ナトリウムで乾燥後減圧下に濃縮する。残留
物にダウエツクヌ５０Ｗ（Ｈ）２０ｇＪと水１０ゴを加
えて３０分間かき混ぜる。樹脂をｐ去して炉液を減圧下
に濃縮し、残留物をアンバーライトＸＡＤ−２（１００
ｍｌ＞を用いるカラムクロマトグラフィーに付し、水お
よび１０％エタノ−μで溶出し、目的物を含む両分を集
めて減圧下に５０ゴまで濃縮する。残留液に１０％パラ
ジウム炭素１ｇを加えて水素雰囲気下２時間かき混ぜる
。パラジウム炭素を炉去し、炉液にＩＮ塩酸１２ゴを加
えて減圧下に２ゴまで濃縮する。残留液にエタノ−７し
２ｍｌを加えて析出する結晶を炉取し、４０〜５０”Ｃ
で減圧下に乾燥すると、（３３，４３）−３−アミノ−
４−カルバモイルオキシメチ／ｌ／−２−アゼチジノン
−１−スルホン酸が融点２０７−２１０″Ｃ（分解）の
無色結晶として５８０１１Ｃ！（４３％）得られる。

〔α〕２携−”−６２，８°（ｃ＝０．４．ＤＭＳＯ）
。

元素分析値：Ｃ３Ｈ８Ｎ３０６ＳとしてＣ（＠Ｈ（（転
）　　Ｎ（＠

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）式 〔式中、Ｒ２ＮＨは保護されていてもよいアミノ基を示
   す〕で表わされるＬ−エリスローα−アミノ−β−ヒド
   ロキシ−γ−ブチロラクトン類またはその塩とアンモニ
   アを反応させることを特徴とする、式 〔式中、ＲＩＮＨは保護されていてもよいアミン基を示
   す〕で表わされる４−ヒドロキシ−Ｌ−アロスレオニン
   アミド類またはその塩の製造法。
2. （２）式 〔式中、Ｒ’ＮＨは保護されていてもよいアミノ基を、
   Ｒは低級アルキルまたはアラμキル基を示す〕で表わさ
   れるＬ−エリスロー３−ヒドロキシアスパラギン酸β−
   エステル類またはその塩を還元し、得られる式 〔式中、Ｒ３ＮＨは保護されていてもよいアミノ基を示
   す〕で表わされる４−ヒドロキシ−Ｌ−アロスレオニン
   類またはその塩をラクトン化し、得られる式 〔式中、Ｒ２Ｎ　Ｈは保護されていてもよいアミノ基を
   示す〕で表わされるＬ−エリスローα−アミノ−β−ヒ
   ドロキシ−γ−ブチロラクトン頚またはその塩とアンモ
   ニアを反応させることを特徴とする、式 〔式中、ＲＩＮＨは保護されていてもよいアミン基ヲ示
   す〕で表わされる４−ヒドロキシ−Ｌ−アロスレオニン
   アミド類またはその塩の製造法。