JPS59107076A - 薄膜形成装置 - Google Patents
薄膜形成装置Info
- Publication number
- JPS59107076A JPS59107076A JP21604082A JP21604082A JPS59107076A JP S59107076 A JPS59107076 A JP S59107076A JP 21604082 A JP21604082 A JP 21604082A JP 21604082 A JP21604082 A JP 21604082A JP S59107076 A JPS59107076 A JP S59107076A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating
- substrate
- thin film
- container
- heater
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
この発明は、真空蒸着装置またはスパッタリング装置等
のような薄膜形成装置、特に薄膜が形成される基体を加
熱しン【がら薄膜形成を行なうタイプの装置に関する。
のような薄膜形成装置、特に薄膜が形成される基体を加
熱しン【がら薄膜形成を行なうタイプの装置に関する。
（従来技術）
真空蒸着装置等においては、基体を加熱しなか薄膜形成
が行なわれる。これは、安定した薄を作るためである。
が行なわれる。これは、安定した薄を作るためである。
すなわち、蒸着された蒸着物質に適した基体の温度に設
定しないと、安定した蒸着ノＹ＜が得られない。極端な
例では、蒸着物質の蒸気温度と基体の温度との差が犬き
すきると、蒸着不能の場合も有り得る。また、基体温度
が高ずきると、基体から再蒸発することも有り得る。よ
って、基体は適正な温度に制御せねばならない。また、
このような基体加熱は、副次的には基体面からのガスを
放出させるために必要な処置である。従来の基体加熱は
、基体支持台の裏側にバズけられたタングステン線また
はニクロム線のヒーターにより行なっていた。このため
基体全体を均一に加熱することか難しく、均一でむらの
ない高品質の薄膜形成が比較的困難であった。特に砥子
写真感光体の光導電注仮膜を形成する際には、その均質
性が感光体の特性、例えば感度、疲労、帯電、暗減衰等
の諸物件に影響を及はすので問題があった。
定しないと、安定した蒸着ノＹ＜が得られない。極端な
例では、蒸着物質の蒸気温度と基体の温度との差が犬き
すきると、蒸着不能の場合も有り得る。また、基体温度
が高ずきると、基体から再蒸発することも有り得る。よ
って、基体は適正な温度に制御せねばならない。また、
このような基体加熱は、副次的には基体面からのガスを
放出させるために必要な処置である。従来の基体加熱は
、基体支持台の裏側にバズけられたタングステン線また
はニクロム線のヒーターにより行なっていた。このため
基体全体を均一に加熱することか難しく、均一でむらの
ない高品質の薄膜形成が比較的困難であった。特に砥子
写真感光体の光導電注仮膜を形成する際には、その均質
性が感光体の特性、例えば感度、疲労、帯電、暗減衰等
の諸物件に影響を及はすので問題があった。
（発明の目的）
この発明の目的は、したがって、均質でむらのない高品
質の薄膜を形成することのできる薄膜形成装遁を提供す
ることにある。
質の薄膜を形成することのできる薄膜形成装遁を提供す
ることにある。
この発明の上記目的は、基体を加熱する手段を平面また
は曲面の加熱面を有する密封容器と、この蜜月容器内に
刺入された熱媒体と、この熱媒体を加熱するためのヒー
ターとにより構成し、これにより基体を均一に加熱制御
することにより達成される。
は曲面の加熱面を有する密封容器と、この蜜月容器内に
刺入された熱媒体と、この熱媒体を加熱するためのヒー
ターとにより構成し、これにより基体を均一に加熱制御
することにより達成される。
以下、この発明の構成をいくつかの実施例に従って続開
する。
する。
（発明の構成）
第１図には、この発明による薄膜形成装置の一例が概略
的に示されている。この例は、７〜１・状またはベルト
状感光体を形成するためのＸ空蒸着装備で、ベースプレ
ート１に取り付けら牙１．たペルジャー２内は、ボート
乙に接続された真窒裟鑓によって排気され真空状態に保
たれる。ペルジャー２内には、基体加熱装置４が配置さ
れており、これにより基体５が加熱される。
的に示されている。この例は、７〜１・状またはベルト
状感光体を形成するためのＸ空蒸着装備で、ベースプレ
ート１に取り付けら牙１．たペルジャー２内は、ボート
乙に接続された真窒裟鑓によって排気され真空状態に保
たれる。ペルジャー２内には、基体加熱装置４が配置さ
れており、これにより基体５が加熱される。
加熱装置４は、加熱平面６ａを上部に有する密封容器６
と、この密封容Ｂ６内に非凝縮性ガスを除去してから封
入されたジンェニール・アルキルナフタリンのような熱
媒体７と、この熱媒体７をカＵ熱するために容器６内に
設けられたヒーター８とからなる。ヒーター８は容器６
の外側に設けても、よい。また熱媒体７には、他の液体
または気体等が堰官用（・られうる。
と、この密封容Ｂ６内に非凝縮性ガスを除去してから封
入されたジンェニール・アルキルナフタリンのような熱
媒体７と、この熱媒体７をカＵ熱するために容器６内に
設けられたヒーター８とからなる。ヒーター８は容器６
の外側に設けても、よい。また熱媒体７には、他の液体
または気体等が堰官用（・られうる。
基体５は、フィルムロール９に巻かれた長尺フィルムで
、途中をカイトローラ１０ｉ’ｌ、１２に案内されて、
巻上げａ−ラ１３によって巻き取ら、＋１、る。基体５
は、ガイトロ〜う１０および１１の間で、これらＯ−ラ
により加熱装置４の上部加熱面６ａに密接されて加熱さ
れ、ガイドローラ１１および１２０間で、その下部に配
置されたフード１４内のボート１５内に置かれた蒸発源
１６による蒸着を受ける。
、途中をカイトローラ１０ｉ’ｌ、１２に案内されて、
巻上げａ−ラ１３によって巻き取ら、＋１、る。基体５
は、ガイトロ〜う１０および１１の間で、これらＯ−ラ
により加熱装置４の上部加熱面６ａに密接されて加熱さ
れ、ガイドローラ１１および１２０間で、その下部に配
置されたフード１４内のボート１５内に置かれた蒸発源
１６による蒸着を受ける。
加熱装置４においては、ヒーター８の加熱により熱媒体
７が気化し、その蒸気が容器６内を隈なく移動するので
、上地方Ｕ熱面６ａが均一に加熱さ）する。したがって
、こり、 Ｋ密接する基体５も均一に加熱され、蒸発源
Ｌ６による蒸着が均質に行なわれる。
７が気化し、その蒸気が容器６内を隈なく移動するので
、上地方Ｕ熱面６ａが均一に加熱さ）する。したがって
、こり、 Ｋ密接する基体５も均一に加熱され、蒸発源
Ｌ６による蒸着が均質に行なわれる。
加熱装置４の容器６内には、温度センサー１７がその蒸
気空ＩＦｉＪ中に配置されており、これにより容器６内
の蒸気温度が検知され、これと適正な刀目格面温度を表
わす目標温度とのずれが検知される。
気空ＩＦｉＪ中に配置されており、これにより容器６内
の蒸気温度が検知され、これと適正な刀目格面温度を表
わす目標温度とのずれが検知される。
・検知温度が目標温度よりも高い場合は、ヒーター８の
出力を下げ、その逆のＪ易合はヒーター８の出力を上げ
る。この温度センｔ−１７は、容器６のいずれの内壁面
に接触して設けることができる。また、熱の伝導効率を
上げるためにヒーター８の管”−１’Ｊｊおよびまたは
容器６の内壁面に凹凸を付けた一す、粗面化することが
できる。さらＫ、容器乙の加熱面６ａを第２図に示すよ
うに曲面にすることができる。
出力を下げ、その逆のＪ易合はヒーター８の出力を上げ
る。この温度センｔ−１７は、容器６のいずれの内壁面
に接触して設けることができる。また、熱の伝導効率を
上げるためにヒーター８の管”−１’Ｊｊおよびまたは
容器６の内壁面に凹凸を付けた一す、粗面化することが
できる。さらＫ、容器乙の加熱面６ａを第２図に示すよ
うに曲面にすることができる。
基体５は、シート状またはベルト状感光体としてポリエ
ステルフィルムが使用されているが、真空中でガス放出
のあまり多くない他の４ｍｌ指フィルムまたは金属フィ
ルムを使用することができる。
ステルフィルムが使用されているが、真空中でガス放出
のあまり多くない他の４ｍｌ指フィルムまたは金属フィ
ルムを使用することができる。
′厄子肖、真感光体の場合は、蒸着される光導電性被膜
の下に導′一層を必要とするので、樹脂フィルムの場合
は、これにアルミニウム等の金属を同僚に蒸着してから
、その、Ｊ：に光導電１住被膜を蒸着する。
の下に導′一層を必要とするので、樹脂フィルムの場合
は、これにアルミニウム等の金属を同僚に蒸着してから
、その、Ｊ：に光導電１住被膜を蒸着する。
第５図に示すこの発明の別の実施例においては、密封容
器６が、基本５のフィルムロール９測を下にして傾けて
配置されている。したがって、容器つ ６内の熱媒体７はフィルロール９側に偏在し、容器６の
下面は、熱媒体７が存在する部分と存在しない部分とに
分がｉｌ、る。そしてこの熱媒体７が存在する部分にヒ
ーター８が配置され、ゲ在しない部分の下方に、ボート
１５内の蒸発源１６が配置さノ１．る。基体５は、この
容器乙の加熱面６ａである下面全面に接触するようにガ
イド０−ラ１０．７２に案内され、巻上げローラ１３に
より順次巻き取られる。
器６が、基本５のフィルムロール９測を下にして傾けて
配置されている。したがって、容器つ ６内の熱媒体７はフィルロール９側に偏在し、容器６の
下面は、熱媒体７が存在する部分と存在しない部分とに
分がｉｌ、る。そしてこの熱媒体７が存在する部分にヒ
ーター８が配置され、ゲ在しない部分の下方に、ボート
１５内の蒸発源１６が配置さノ１．る。基体５は、この
容器乙の加熱面６ａである下面全面に接触するようにガ
イド０−ラ１０．７２に案内され、巻上げローラ１３に
より順次巻き取られる。
したがって、基体５は、加熱面６ａの熱媒体７が存在す
る部分で予熱され、さらに熱媒体７が存在しない部分で
本加熱されながら、蒸発源１６による蒸着を受ける。こ
の実施例の場合、容器６をあまり傾けすぎると、蒸発源
１６と基体５との間の位置関係が適正範囲を越えて、効
率の良い蒸着ができな（なる恐れがあるので注意する必
要がある。
る部分で予熱され、さらに熱媒体７が存在しない部分で
本加熱されながら、蒸発源１６による蒸着を受ける。こ
の実施例の場合、容器６をあまり傾けすぎると、蒸発源
１６と基体５との間の位置関係が適正範囲を越えて、効
率の良い蒸着ができな（なる恐れがあるので注意する必
要がある。
第４図および第５図に示すこの発明のさらに別の実施例
においては、密封容器６は、両袖のついた文机のような
形をしており、その両袖部分内部にヒ゛−ター８が配置
され、そこに熱媒体７が貯留さｈ−る。この密ｆｌＮＪ
谷イＨ６は、その両前部分に、その１ト］」の凹んだ平
面部分に連続するトンイ・ル状のスリット１８が設けら
れており、そこを基体５が通過する。そしてその凹んだ
平面部分およびその両側のトンネル部分が加熱面６ａと
なり、凹んだｆ’ｉｌＳ分の下方に蒸発源１６を収容し
たボート１５が配置される。ヒータ〜８により加熱され
た熱媒体７は、気化して容器６内を循環し、加熱面６ａ
を−、尿に加熱する。ガイド゛ローラ１０，１２ ｉｃ
％内された基体フィルム５は、両袖部分で予熱され、中
間部で本加熱されて、蒸発源１６からの蒸着を受ける。
においては、密封容器６は、両袖のついた文机のような
形をしており、その両袖部分内部にヒ゛−ター８が配置
され、そこに熱媒体７が貯留さｈ−る。この密ｆｌＮＪ
谷イＨ６は、その両前部分に、その１ト］」の凹んだ平
面部分に連続するトンイ・ル状のスリット１８が設けら
れており、そこを基体５が通過する。そしてその凹んだ
平面部分およびその両側のトンネル部分が加熱面６ａと
なり、凹んだｆ’ｉｌＳ分の下方に蒸発源１６を収容し
たボート１５が配置される。ヒータ〜８により加熱され
た熱媒体７は、気化して容器６内を循環し、加熱面６ａ
を−、尿に加熱する。ガイド゛ローラ１０，１２ ｉｃ
％内された基体フィルム５は、両袖部分で予熱され、中
間部で本加熱されて、蒸発源１６からの蒸着を受ける。
上記各実施例（（おいて、基体５がＩｉ触する加熱面６
ａの両コーナ一部には、曲率を設げて基体搬送時の折れ
等を防止するとよい。またガイドローラー １０．１２
等をヒートバイブで構成し、上流側のカイトローラ１０
で基体５を予熱し、下流側のガイドロー ラ１２で冷却
−Ｊ−るとよい。
ａの両コーナ一部には、曲率を設げて基体搬送時の折れ
等を防止するとよい。またガイドローラー １０．１２
等をヒートバイブで構成し、上流側のカイトローラ１０
で基体５を予熱し、下流側のガイドロー ラ１２で冷却
−Ｊ−るとよい。
この発明の装置によって薄膜を形成されろ基体は、上記
実施例のようなフィルム状の他に第６図に示すようなン
ート状またはプレート状の基体５を匣〕１うすることが
できる。この場合、第７図１で示すような曲Ｉｊ状の基
体５も、加熱面６ａを同様な曲面とすることにより使用
することができる。したかって、平面ミラーまたは曲面
ミラー等の反射膜を圧怠に形成することかできる。これ
らの基本５は、ｍ熱面に接着剤またはクランパーにより
保持されるか、これらは真仝中でガス放出のあまらない
ものが好ましい。曲■は、球面または非球面のいずり、
でもよく、一つの加熱面に球面と平面の両方を形成する
こともできる。第６図および第７図に示す密封容器６は
、第４図に示ず容器６と両抽部にトンネルがないことを
除いてほぼ同様な構成であるが、トンネルがあっても別
に差支えない。
実施例のようなフィルム状の他に第６図に示すようなン
ート状またはプレート状の基体５を匣〕１うすることが
できる。この場合、第７図１で示すような曲Ｉｊ状の基
体５も、加熱面６ａを同様な曲面とすることにより使用
することができる。したかって、平面ミラーまたは曲面
ミラー等の反射膜を圧怠に形成することかできる。これ
らの基本５は、ｍ熱面に接着剤またはクランパーにより
保持されるか、これらは真仝中でガス放出のあまらない
ものが好ましい。曲■は、球面または非球面のいずり、
でもよく、一つの加熱面に球面と平面の両方を形成する
こともできる。第６図および第７図に示す密封容器６は
、第４図に示ず容器６と両抽部にトンネルがないことを
除いてほぼ同様な構成であるが、トンネルがあっても別
に差支えない。
第７図の符号１９はシャッターで、蒸発源１６による膜
形成を制御する。
形成を制御する。
（発明の効果）
以上のように、この発明の薄膜形成装置によれば、＃膜
が形成さり、る基体を均一に加熱することができるので
、形成された薄膜の品質が一定で安定した特性を得るこ
とができる。また加熱面を任意の形状に形成できるので
、任意の形状の基体を使用することができる。
が形成さり、る基体を均一に加熱することができるので
、形成された薄膜の品質が一定で安定した特性を得るこ
とができる。また加熱面を任意の形状に形成できるので
、任意の形状の基体を使用することができる。
雨１図は、この発明による薄膜形成装置の一例を示す・
繭陥ス、第２図から第４゛図は、この発明の）ｊｑ（１
）実施例の要部のみを示す図、第５図は、第４図に示す
装置のＶ−Ｖ線に清って切断した図、第６図および第７
図は、この発明のさらに−１」の実施例の要部のみを示
す図である。 ４・・・加熱装置、５・・・基体、６・・・密封容器、
６ａ・加熱、１打、７・・・熱媒体、８・・・ヒーター
、１５・ボート、１６・・・蒸発源
繭陥ス、第２図から第４゛図は、この発明の）ｊｑ（１
）実施例の要部のみを示す図、第５図は、第４図に示す
装置のＶ−Ｖ線に清って切断した図、第６図および第７
図は、この発明のさらに−１」の実施例の要部のみを示
す図である。 ４・・・加熱装置、５・・・基体、６・・・密封容器、
６ａ・加熱、１打、７・・・熱媒体、８・・・ヒーター
、１５・ボート、１６・・・蒸発源
Claims (1)
- 表面に薄膜が形成される基体を加熱する手段〉補え、こ
れにより基体を加熱しながら薄膜形成を行なう装置にお
いて、前記加熱手段か、平面または曲面の加熱面を有す
る蜜月容器と、前記密封容器面に非凝縮性ガスを除去し
た後に刺入された熱媒体と、前記熱媒体を加熱するため
のヒーターとからなる薄膜形成製置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21604082A JPS59107076A (ja) | 1982-12-09 | 1982-12-09 | 薄膜形成装置 |
| GB08323002A GB2129018B (en) | 1982-08-30 | 1983-08-26 | Vacuum evaporation apparatus |
| KR1019830004041A KR910000978B1 (ko) | 1982-08-30 | 1983-08-30 | 진공증착장치 |
| US06/527,662 US4534312A (en) | 1982-08-30 | 1983-08-30 | Vacuum evaporation apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21604082A JPS59107076A (ja) | 1982-12-09 | 1982-12-09 | 薄膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59107076A true JPS59107076A (ja) | 1984-06-21 |
Family
ID=16682333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21604082A Pending JPS59107076A (ja) | 1982-08-30 | 1982-12-09 | 薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59107076A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6381863U (ja) * | 1986-11-12 | 1988-05-30 | ||
| JP2017075342A (ja) * | 2015-10-13 | 2017-04-20 | 株式会社神戸製鋼所 | 成膜装置 |
-
1982
- 1982-12-09 JP JP21604082A patent/JPS59107076A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6381863U (ja) * | 1986-11-12 | 1988-05-30 | ||
| JP2017075342A (ja) * | 2015-10-13 | 2017-04-20 | 株式会社神戸製鋼所 | 成膜装置 |
| WO2017064988A1 (ja) * | 2015-10-13 | 2017-04-20 | 株式会社神戸製鋼所 | 成膜装置 |
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