JPS59112651A - イメ−ジセンサ - Google Patents

イメ−ジセンサ

Info

Publication number
JPS59112651A
JPS59112651A JP57222071A JP22207182A JPS59112651A JP S59112651 A JPS59112651 A JP S59112651A JP 57222071 A JP57222071 A JP 57222071A JP 22207182 A JP22207182 A JP 22207182A JP S59112651 A JPS59112651 A JP S59112651A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
electrode
thin film
blocking diode
image sensor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57222071A
Other languages
English (en)
Inventor
Koichi Hiranaka
弘一 平中
Nobuyoshi Takagi
高城 信義
Kiyoshi Ozawa
清 小沢
Michiya Oura
大浦 道也
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP57222071A priority Critical patent/JPS59112651A/ja
Publication of JPS59112651A publication Critical patent/JPS59112651A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/10Integrated devices
    • H10F39/12Image sensors
    • H10F39/18Complementary metal-oxide-semiconductor [CMOS] image sensors; Photodiode array image sensors

Landscapes

  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (1)発明の技術分野 本発明はブロッキングダイオードを有するイメージセン
サに関するものである。
(2)従来技術と問題点 従来よりファク7ミリ、光学文字読取装置り等には原稿
の白黒情報を光電変換するため多数の受光素子を1列に
配置したイメージセンサが用いられている。このイメー
ジセンサは普通数ブロックに分けてマトリクス駆動され
るため、受光素子のOFF時に他からの回り込みを防止
するためのブロッキングダイオードが設けられ1いる。
第1図はブロッキングダイオードを有する従来のイメー
ジセンサの構造を示す図である。同図において、1はガ
ラス基板2はその上に形成されたITO等の透明電極、
3は透明電極の上に形成されりa−81:)l (水素
化アモルファスシリコン)膜、4はa−8t:H層の上
に設けられたPj電極である。
このイメージセンサは光が矢印5方向よシ照射すると透
明電極2とn−81:H膜3とでホトダイオードの作用
をなし、a−83:HpM3とPi電極4でブロッキン
ググイオーrの作用をする。ところがa−8t:H膜3
の厚さが薄いと光がpt電極へ到達するためブロッキン
グダイオードとしての機能を果さず、この機能を果すた
めにはa−81:H膜の厚さを少なくとも10μm以上
とする必要がある。
これは直列抵抗を増加させるという欠点があシ、また成
膜時間に20〜30時間を要したシ、!IJ離を生ずる
といった欠点があった。
(3)発明の目的 本発明は上記従来の欠点に鑑み、直列抵抗が低く、かつ
a−8t:H膜の成膜上の問題もないイメージセンサを
提供するこ吉を目的とするものである。
(4)発明の構成 そして、この目的は本発明によれば、a −Si: 1
4尚膜を用いた1対の薄膜ホトダイオードと?Iii膜
ブロツブロッキングダイオード逆極性となるように基板
上に垂直に形成され、且つその境界が光学的に絶縁さf
していること全1#徴とするイメージセンサを提供する
ことによって達成される。
(5)発明の実施例 以下本発明実施例をはj面によって詳述する。
第2図は本発明によるイメージセンサの構造を示す図で
ありaは断面図、bは等価回路図ケそれぞれ示す。同図
において10はガラス基板、11はITOなどの透明電
極、12及び13はa−8t :H薄膜、14及び15
はna−8i、HM、16はオーミック電極、17はP
t電極をそれぞれ示している。
本実施例はa図に示す如くガラス基板の上に透明電極l
lとa−8j:H薄膜12及びn a−8i :Hfl
14とが順次形成され、その上にオーミック電極16i
挾んで更にn+a−8t:H膜151.−34:HR成
膜3、Pt電極17が順次形成されている。
このように形成された本実施例は透明電極11とa−8
i:H薄膜12とにより薄膜ホトダイオードを形成し’
1 a−8i:H薄膜13とPj[i17とによって8
Mブロッキングダイオードを形成し、その極性はb図に
示す如くホトダイオード18とブロッキングダイオード
19とが互に逆極性となっている。そしてa図において
矢印20方向より照射した光はオーミック電極16に遮
ぎられてa−8t:H薄膜13とPj電弥17で構成さ
れたブロッキングダイオードへは到達しない。従ってa
−8i:H薄膜13とPt電極17とは充分プロ、キン
グダイオードの機能を果すことができる。この場合オー
ミック電極17の厚さは15001程度で充分であり、
また両ダイオードのa−8t:H薄膜12.13の厚さ
は1000〜5oooXで良い。従って直列抵抗も従来
に比して低減される。なお両ダイオードのn a−8i
、H)JQ 14 、15はa−8l二H薄膜12゜1
3とオーミ、り市、枠16との電気的接続を良好にする
ために設はプζものである。
化3図は本発明によるイメージセンサの他の実り′嗣+
11を示す図である。同図において第2図と同一部分は
同一符号を付して示した。なお21UPt電極17とガ
ラス基板10との間に形成されたT11)悼である。
本実施例か前記実脈例と異なるとこイー・ば、前記′実
施例が基板10個よシ光を入射させるのに対し、本実施
例は基板]0の反対側より光を入射させるようにしたも
のである。従って基板10上に形成される士トグイオー
ドとブOソキングダイメ〜ドの11i!i序が逆となっ
ている。但しその作j1]及び効果の、申については前
実姉例と全く同イ子でイ)る。
(6)発明の効果 以上詳細に説明したように本発明のイメージセンサはオ
ーミック市、極をa−81:)を膜の中間に形成すイも
ことにより、薄膜ホトダイオードと薄形、Lブロッキン
グダイ汁−ドとを光学的に絶縁することにより、a−S
ビニ(薄膜の膜厚を薄ぐすることが可能となシ、直列抵
抗の低減とa−8i:H膜の成膜時間の短縮か得られる
といった効果大なるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図はブロッキングダイオードを有する従来のイメー
ジセンザ金説明するための図、第2図は本発明によるイ
メージセンサを説明するための図、第3図は他の実施例
を説明するだめの図である。 図面において、10はガラス基板、11は透明電極、1
2.13はa−8i:H薄膜、14.15はn+a−8
i:H膜、16はオーミック電極、17は[を電極をそ
れぞれ示す。 特許出願人 富士通株式会社 特許出願人代理人 弁理士  青 木   朗 弁理士  西 舘 和 之 弁理士  内 1)竿 男 弁理士   山  口  昭  之

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、  水i化アモルファスシリコン(a −8i :
    H) 7tf膜を用いた1対の薄膜ホトダイオードと薄
    膜ブロッキングダイオードが互に逆極性となるように基
    板上に垂直に形成され、且つその境界が光学的に絶縁さ
    れていることを特徴とするイメージセンサ。
JP57222071A 1982-12-20 1982-12-20 イメ−ジセンサ Pending JPS59112651A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57222071A JPS59112651A (ja) 1982-12-20 1982-12-20 イメ−ジセンサ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57222071A JPS59112651A (ja) 1982-12-20 1982-12-20 イメ−ジセンサ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS59112651A true JPS59112651A (ja) 1984-06-29

Family

ID=16776657

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57222071A Pending JPS59112651A (ja) 1982-12-20 1982-12-20 イメ−ジセンサ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59112651A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61232668A (ja) * 1985-04-09 1986-10-16 Fuji Xerox Co Ltd イメ−ジセンサおよびその製造方法
JPH022167A (ja) * 1988-06-15 1990-01-08 Sony Corp ラインセンサ

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61232668A (ja) * 1985-04-09 1986-10-16 Fuji Xerox Co Ltd イメ−ジセンサおよびその製造方法
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