JPS59112934U - パタ−ン照合検査機 - Google Patents
パタ−ン照合検査機Info
- Publication number
- JPS59112934U JPS59112934U JP19969083U JP19969083U JPS59112934U JP S59112934 U JPS59112934 U JP S59112934U JP 19969083 U JP19969083 U JP 19969083U JP 19969083 U JP19969083 U JP 19969083U JP S59112934 U JPS59112934 U JP S59112934U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inspection machine
- pattern matching
- dry
- matching inspection
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図はフォトマスク乾板の原版およびその反転乾板の
正面図、第２図は本考案に係るパターン照合検査機の構
成図である。 １・・・原版、１ａ・・・反転乾板、２，２ａ・・・パ
ターン、４・・・レーザ発生器、５・・・スキャニング
ミラー、８・・・光電検出器。
正面図、第２図は本考案に係るパターン照合検査機の構
成図である。 １・・・原版、１ａ・・・反転乾板、２，２ａ・・・パ
ターン、４・・・レーザ発生器、５・・・スキャニング
ミラー、８・・・光電検出器。
Claims (1)
- 半導体装置の回路パターン形成用フォトマスク乾板の原
版および該原版を陰陽逆転複写した反転乾板を直接重ね
合せて配置し、該重ね合せた両乾板をスキャニングミラ
ーを介して走査するためのレーザ光発生器を備え、上記
両乾板の透過レーザ光を検知するための光電検出器を備
えたパターン照合検査機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19969083U JPS59112934U (ja) | 1983-12-29 | 1983-12-29 | パタ−ン照合検査機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19969083U JPS59112934U (ja) | 1983-12-29 | 1983-12-29 | パタ−ン照合検査機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59112934U true JPS59112934U (ja) | 1984-07-30 |
Family
ID=30425214
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19969083U Pending JPS59112934U (ja) | 1983-12-29 | 1983-12-29 | パタ−ン照合検査機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59112934U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007333590A (ja) * | 2006-06-15 | 2007-12-27 | Hoya Corp | パターン欠陥検査方法、パターン欠陥検査用テストパターン基板、及びパターン欠陥検査装置、並びにフォトマスクの製造方法、及び表示デバイス用基板の製造方法 |
-
1983
- 1983-12-29 JP JP19969083U patent/JPS59112934U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007333590A (ja) * | 2006-06-15 | 2007-12-27 | Hoya Corp | パターン欠陥検査方法、パターン欠陥検査用テストパターン基板、及びパターン欠陥検査装置、並びにフォトマスクの製造方法、及び表示デバイス用基板の製造方法 |
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