JPS59116619A - 液晶表示体の製造方法 - Google Patents
液晶表示体の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は可撓性ある基板を使用した液晶表示体の製造方
法に関する。
法に関する。
従来、プラスチックフィルム等の可撓性のある材料を基
板として用いることが提唱されてきたが可撓性のある材
料を基板として使用すると、セル厚が不均一になりやす
く、液晶表示体の全面にわたってセル厚の均一な液晶表
示体を構成することが困難であった。
板として用いることが提唱されてきたが可撓性のある材
料を基板として使用すると、セル厚が不均一になりやす
く、液晶表示体の全面にわたってセル厚の均一な液晶表
示体を構成することが困難であった。
本発明はかかる欠点を除去したもので、その目的は可撓
性ある基板を使用したセル厚の均一な液晶表示体を提供
する点にある。
性ある基板を使用したセル厚の均一な液晶表示体を提供
する点にある。
本発明は、液晶を挾持する少なくとも２枚の基板として
湾曲したものを使用し、凸側の面が液晶層側に向くよ−
うに２枚の基板を対向させ、セル内にギャップ剤を分配
させ、液晶セルの組立てを行なうものである。
湾曲したものを使用し、凸側の面が液晶層側に向くよ−
うに２枚の基板を対向させ、セル内にギャップ剤を分配
させ、液晶セルの組立てを行なうものである。
以下、図面に基づいて説明する。
第１図は湾曲させ、曲率をつけた基板である０基板１１
は可撓性のある材料によりなる。基板１１の材料として
は例えば可撓性あるプラスチック樹脂やプラスチックフ
ィルム、プラスチックフィルムと金属薄板とを貼９合わ
せたもの等がある。プラスチックの材料としては、例え
ばポリエステル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエーテル
サルフオン樹脂、ポリサルフオン樹脂、アクリル系樹脂
や上記樹脂をフィルム化したもの、又は上記樹脂やフィ
ルムを複層化したものがある０この他、プラスチック基
板としては上記樹脂やフィルムに二色性塗料を含有し、
偏光能を備えたＰＶＡフィルムやこのＰＶＡフイルムヲ
酢酸セルロースフィルムを貼り合わせ一体化させた偏光
板、Ｋ膜よりなる偏光板を貼り合わせたものがある他、
自身が例えば上記よりなる偏光板が用いられる。また、
片面にアルミニウム箔やアルミニウム板を貼り合わせた
り、アルミニウムや銀を蒸着やスパッタしてあってもよ
い。かかる基板の厚さは約０． ０ ２ ５〜１．５ｎ
内である。液晶表示体の薄型化を指向する場合は約ｃＬ
２５〜１皿内の厚さのものがよい。さらに約０．０５〜
０．２期内の厚さのものが液晶表示体が製造しやすい。
は可撓性のある材料によりなる。基板１１の材料として
は例えば可撓性あるプラスチック樹脂やプラスチックフ
ィルム、プラスチックフィルムと金属薄板とを貼９合わ
せたもの等がある。プラスチックの材料としては、例え
ばポリエステル樹脂、セルロース系樹脂、ポリエーテル
サルフオン樹脂、ポリサルフオン樹脂、アクリル系樹脂
や上記樹脂をフィルム化したもの、又は上記樹脂やフィ
ルムを複層化したものがある０この他、プラスチック基
板としては上記樹脂やフィルムに二色性塗料を含有し、
偏光能を備えたＰＶＡフィルムやこのＰＶＡフイルムヲ
酢酸セルロースフィルムを貼り合わせ一体化させた偏光
板、Ｋ膜よりなる偏光板を貼り合わせたものがある他、
自身が例えば上記よりなる偏光板が用いられる。また、
片面にアルミニウム箔やアルミニウム板を貼り合わせた
り、アルミニウムや銀を蒸着やスパッタしてあってもよ
い。かかる基板の厚さは約０． ０ ２ ５〜１．５ｎ
内である。液晶表示体の薄型化を指向する場合は約ｃＬ
２５〜１皿内の厚さのものがよい。さらに約０．０５〜
０．２期内の厚さのものが液晶表示体が製造しやすい。
透明導電膜１２はＳｉＯｚや工ｎ２０５や、Ｓｎ０２
とＩｎ２０５ の混合物（以下、ＩＴＯと呼ぶ）に
よ多形成される。ＩＴＯはＳｎ０２とＩｎ２０３の混合
比が０、０５〜２００の値をとる。透明導電膜１２の厚
さは約１００１〜７００Ａ’程度である。透明導電膜１
２は、プラスチック基板上にスパッタ、蒸着等によ多形
成され、化学エツチング、イオンビームエッチンク．プ
ラズマエッチンク等（７）−ｒ−ノチングにより所定の
パターンに形成される。
とＩｎ２０５ の混合物（以下、ＩＴＯと呼ぶ）に
よ多形成される。ＩＴＯはＳｎ０２とＩｎ２０３の混合
比が０、０５〜２００の値をとる。透明導電膜１２の厚
さは約１００１〜７００Ａ’程度である。透明導電膜１
２は、プラスチック基板上にスパッタ、蒸着等によ多形
成され、化学エツチング、イオンビームエッチンク．プ
ラズマエッチンク等（７）−ｒ−ノチングにより所定の
パターンに形成される。
透明導電膜１２の液晶層側には配向処理膜１３が形成さ
れる。配向処理膜としては、厚さ５Ａ〜７００Ｘのポリ
イミド系樹脂、ポリアミド系樹月区ポリイミドーアミド
系樹脂等の配向膜１３が形成されラビング法等によって
配向処理される０又は８１０２等の斜め蒸着によシ配向
処理を行なってもよい。
れる。配向処理膜としては、厚さ５Ａ〜７００Ｘのポリ
イミド系樹脂、ポリアミド系樹月区ポリイミドーアミド
系樹脂等の配向膜１３が形成されラビング法等によって
配向処理される０又は８１０２等の斜め蒸着によシ配向
処理を行なってもよい。
そして基板は曲率を設け、一方の面側か凸状、他方の面
側か凹状になるようにする。凸状の側の面は液晶側に向
くようにして１対の曲率をもつ基板が組立てられる。
側か凹状になるようにする。凸状の側の面は液晶側に向
くようにして１対の曲率をもつ基板が組立てられる。
第２図は第１図に示した曲率を有する基板を組み立゛て
る工程を示す。
る工程を示す。
第１図で説明した２枚の基板１ １ 、２１は互いに凸
状の面が対向するように向かい合っている。
状の面が対向するように向かい合っている。
それぞれの基板には透明電極１２．２２及び配向処理膜
１３．２５が形成されている。基板２１の液晶側の面に
はグラスファイバー、ガラスピーズ等のギャップ剤２４
が散布されている。そして、エポキシ系，シリコン系，
ポリエステル系樹脂。
１３．２５が形成されている。基板２１の液晶側の面に
はグラスファイバー、ガラスピーズ等のギャップ剤２４
が散布されている。そして、エポキシ系，シリコン系，
ポリエステル系樹脂。
接着剤等のシール剤２５も印刷されている。シール剤２
５中にもギャップ剤２４が含有されていてもよい。シー
ル剤２５を印刷する基板とギャップ剤２４を散布する基
板は同じ基板でもよいが、互いに別の基板でもよい。ま
た、共にギャップ剤が散布され、シール剤が印刷されて
いてもよい。
５中にもギャップ剤２４が含有されていてもよい。シー
ル剤２５を印刷する基板とギャップ剤２４を散布する基
板は同じ基板でもよいが、互いに別の基板でもよい。ま
た、共にギャップ剤が散布され、シール剤が印刷されて
いてもよい。
基板１１，２１の曲率をもだせた方を、半径でみると、
パネルの曲率方向の長さＡに対し、５倍〜１００倍のも
のが良い。寸法Ａは、組立てられた後に必要に応じて切
断され、最終的に１枚のパネルとなるパネルの曲率方向
の長さである。
パネルの曲率方向の長さＡに対し、５倍〜１００倍のも
のが良い。寸法Ａは、組立てられた後に必要に応じて切
断され、最終的に１枚のパネルとなるパネルの曲率方向
の長さである。
基板１１．２１にこのように曲率をもたせるには、組立
直前にロール状の熱処理工程に通す二ロール状に巻かれ
た原料を使用する・ロール状態で熱処理する。ロール状
に巻いた状態で数週間放置する６等の方法がある。址だ
、曲率を持たせるのは、透明導電膜を設ける前の他、透
明導電膜を設けた後や基板表面に配向処理を行なった後
や、基板表面にシール前やギヤツブ配を配した後等の時
間的配置が可能であυ、いずれの方法を用いてもよい。
直前にロール状の熱処理工程に通す二ロール状に巻かれ
た原料を使用する・ロール状態で熱処理する。ロール状
に巻いた状態で数週間放置する６等の方法がある。址だ
、曲率を持たせるのは、透明導電膜を設ける前の他、透
明導電膜を設けた後や基板表面に配向処理を行なった後
や、基板表面にシール前やギヤツブ配を配した後等の時
間的配置が可能であυ、いずれの方法を用いてもよい。
（実施例１）
１００μ厚みのポリエヌテルフィルムをロール状に巻い
た状態で熱処理により半径３０ｃｍの曲率をつけ、ヤー
ル外面にイオンスパッタリングで酸化インジウム−酸化
インジウム混合等の透明導電膜を形成した。次にフォト
リソグラフィーによシ所定の電極パターンを形成し、配
向膜としてポリイミド系樹脂を５００λ厚みに塗付した
のちガーゼで一定方向にこすって配向処理をした。さら
にスクリーン印刷でエポキシ糸接着剤よシなるシール剤
を印刷し、ギャップ剤として１０±０．１μｍの太さの
クラメツアイバー細片を散布したのち、２枚の基板を組
立ててシール剤を硬化させた。なお、組立に際し２枚の
基板は第２回の様に対向さぜた。次に真空注入法により
液晶物質をセル内に充填し、エポキシ糸接着剤で封止し
て外径が縦横３８Ｉｎの液晶セルを製造した。
た状態で熱処理により半径３０ｃｍの曲率をつけ、ヤー
ル外面にイオンスパッタリングで酸化インジウム−酸化
インジウム混合等の透明導電膜を形成した。次にフォト
リソグラフィーによシ所定の電極パターンを形成し、配
向膜としてポリイミド系樹脂を５００λ厚みに塗付した
のちガーゼで一定方向にこすって配向処理をした。さら
にスクリーン印刷でエポキシ糸接着剤よシなるシール剤
を印刷し、ギャップ剤として１０±０．１μｍの太さの
クラメツアイバー細片を散布したのち、２枚の基板を組
立ててシール剤を硬化させた。なお、組立に際し２枚の
基板は第２回の様に対向さぜた。次に真空注入法により
液晶物質をセル内に充填し、エポキシ糸接着剤で封止し
て外径が縦横３８Ｉｎの液晶セルを製造した。
この液晶セフの液晶層ｊ早みは１０〜１１μとほぼスノ
ーであり、平担なフィルム基板を組立てた場合液晶層厚
みが１０〜１５μｍとばらつくのに比較して、良好な結
果であった。
ーであり、平担なフィルム基板を組立てた場合液晶層厚
みが１０〜１５μｍとばらつくのに比較して、良好な結
果であった。
（実施例２）
５０μｍ埋みの酢酸セルロースフィルムにロール状に巻
いた状態で熱処理により半径５［１ＬＣＩｒＬの曲率を
つけ、蒸着によりフィルム表面に酸化インジウム膜を設
け、実施例１と同様な方法により外径が縦横３ｃｒＩＬ
の液晶セルを製造した。
いた状態で熱処理により半径５［１ＬＣＩｒＬの曲率を
つけ、蒸着によりフィルム表面に酸化インジウム膜を設
け、実施例１と同様な方法により外径が縦横３ｃｒＩＬ
の液晶セルを製造した。
液晶セルの厚さは１０〜１１μｍであシ、はぼ均一であ
った。
った。
（実施例６）
２００μｍ厚みのポリエーテｌレザルフォンフイルムを
実施例１と同様の方法により半径４０Ｃｍの曲率をつけ
、実施例１と同様に透明電導膜をつけた。実施例１と同
様な方法により液晶セルを構成した。なお、シール剤と
してはシリコン糸の接着剤を使用した。
実施例１と同様の方法により半径４０Ｃｍの曲率をつけ
、実施例１と同様に透明電導膜をつけた。実施例１と同
様な方法により液晶セルを構成した。なお、シール剤と
してはシリコン糸の接着剤を使用した。
製造された液晶セルの厚さは１０〜１１μｍであり、は
ぼ均一であった。
ぼ均一であった。
（実施例４）
厚さ３００μｍのポリサルフオンフィルノ・ヲ使用し、
実施例１と同様な方法で液晶セルを構成した。
実施例１と同様な方法で液晶セルを構成した。
製造された液晶セルの厚みは１０〜１１μｍ内におさま
シ、はぼ均一であった。
シ、はぼ均一であった。
（実施例５）
実施例１において、酸化インジウム−酸化インジウム混
合系の透明導電膜を蒸着によシ形成し、実施例１と同様
な方法で液晶層ｐを製造し、実施例１と同様な方法で液
晶セルを製造し、実施例１と同様の結果を得た。
合系の透明導電膜を蒸着によシ形成し、実施例１と同様
な方法で液晶層ｐを製造し、実施例１と同様な方法で液
晶セルを製造し、実施例１と同様の結果を得た。
（実施例６）
実施例１において、配向処理を５ｎ０２を蒸着により形
成し、実施例１と同様の結果を得た。
成し、実施例１と同様の結果を得た。
（実施例７）
実施例１〜６においてフィルムをロール状ニ巻いて約１
ケ月間放置し、曲率をつけた。
ケ月間放置し、曲率をつけた。
製造された液晶セルはそれぞれ実施例１〜６と同様の結
果を得た。
果を得た。
（実施例８）
実施例１〜６において、フィルムを表面に透明導電膜を
形成した後にロール状の加熱治具を通し曲率をつけた。
形成した後にロール状の加熱治具を通し曲率をつけた。
その後に配向処理、シール剤の印刷及びキャップ剤のバ
ラマキ、組立、液晶注入の工程を実施例１〜６と同様に
行なった。
ラマキ、組立、液晶注入の工程を実施例１〜６と同様に
行なった。
製造された液晶セフしは、それぞれ実施例１〜６と同様
の結果を得た。
の結果を得た。
（実施例９）
実施例１〜乙において、実施例１〜６と同様にフィルム
表面に透明導電膜を形成し、配向処理を行なった。その
後にロール状の加熱治具を通し、曲率をつけた。その後
にシール剤の印刷及びギャップ剤のバラマキ２組立、液
晶注入の工程を実施例１〜６と同様に行なった。
表面に透明導電膜を形成し、配向処理を行なった。その
後にロール状の加熱治具を通し、曲率をつけた。その後
にシール剤の印刷及びギャップ剤のバラマキ２組立、液
晶注入の工程を実施例１〜６と同様に行なった。
製造された液晶セルは、それぞれ実施例１〜６と同様の
結果を得た。
結果を得た。
（実施例１０）
実施例１〜６において、実施例１〜６と同様にフィルム
表面に透明導電膜を形成し、配向処理を行ない、シール
剤の印刷及びギャップ剤のバラマキを行なった。その後
にロール状の加熱治具を通し、曲率をつけた。その後、
組立、（＆晶江入の工程を実施例１〜６と同様に行ない
液晶セルを製造した。
表面に透明導電膜を形成し、配向処理を行ない、シール
剤の印刷及びギャップ剤のバラマキを行なった。その後
にロール状の加熱治具を通し、曲率をつけた。その後、
組立、（＆晶江入の工程を実施例１〜６と同様に行ない
液晶セルを製造した。
製造されだ液晶セルは、それぞれ実施例１〜６と同様の
結果を得た。
結果を得た。
（実施例１１）
実施例１〜１０と同様の方法で組立てたセルを両側から
シリコンゴムで均一に加圧した状態で液晶を注入後その
′ｉ！ま封止して液晶セルを製作した。
シリコンゴムで均一に加圧した状態で液晶を注入後その
′ｉ！ま封止して液晶セルを製作した。
液晶層厚みはこの場合、はぼ１０±０．３μｍであった
０ このように液晶表示体を構成すると下記の効果がある。
０ このように液晶表示体を構成すると下記の効果がある。
（１）基板材料として可撓性あるプラスチック材料を用
いるが、２枚の基板の組立前に該基板材料に曲率を設け
る工程を入れ、ギャップ前を介して凸部面側が液晶層側
に向くように対向して組み立てられるため、セル厚の均
一な液晶表示体を製造することができる。、 また、色ムラが生じたり、セルの各部で応答スピードの
違いが生じたりすることがなく、コントラヌトも均一で
ある。
いるが、２枚の基板の組立前に該基板材料に曲率を設け
る工程を入れ、ギャップ前を介して凸部面側が液晶層側
に向くように対向して組み立てられるため、セル厚の均
一な液晶表示体を製造することができる。、 また、色ムラが生じたり、セルの各部で応答スピードの
違いが生じたりすることがなく、コントラヌトも均一で
ある。
（２）基板としてプラスチックの材料よりなる可撓性あ
る材料を使用し、曲率をつけて凸部側が液層側に向かっ
て対向するように組み立てられるが、基板が硬質でなく
、可撓性を有するため、２枚の基板を結合させるシール
部がはがれることがなく、また、基板が割れてしまうこ
ともない。基板として、例えば曲率を有するガラス板を
使用すると、ガラス板は可撓性がなく硬質であるため、
復元力が強く、シール部がはげてしまったり、ゎずがな
外力によシ基板が割れてしまったりするが、本発明の製
造方法によればかかる不都合を生じない液晶表示体を製
造できる。
る材料を使用し、曲率をつけて凸部側が液層側に向かっ
て対向するように組み立てられるが、基板が硬質でなく
、可撓性を有するため、２枚の基板を結合させるシール
部がはがれることがなく、また、基板が割れてしまうこ
ともない。基板として、例えば曲率を有するガラス板を
使用すると、ガラス板は可撓性がなく硬質であるため、
復元力が強く、シール部がはげてしまったり、ゎずがな
外力によシ基板が割れてしまったりするが、本発明の製
造方法によればかかる不都合を生じない液晶表示体を製
造できる。
（６）基板としてプラスチック材料よシなる可撓性のあ
る材料を使用し、曲率を設ける工程を組立前に取り入れ
ているが、プラスチック材料は一般に変形させることが
容易であシ、ガラス板等の硬質の材料で同様の工程をと
るのに比較して、曲率を設ける作業が容易かつ確実であ
る。
る材料を使用し、曲率を設ける工程を組立前に取り入れ
ているが、プラスチック材料は一般に変形させることが
容易であシ、ガラス板等の硬質の材料で同様の工程をと
るのに比較して、曲率を設ける作業が容易かつ確実であ
る。
第１図は本発明の液晶表示体に使用する可撓性のある基
板。 第２図は本発明の液晶表示体を製造する説明図。 第３図は本発明の液晶表示体。 以上 第１１」 第２図 第３図 １０７−
板。 第２図は本発明の液晶表示体を製造する説明図。 第３図は本発明の液晶表示体。 以上 第１１」 第２図 第３図 １０７−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）基板材料として可撓性あるプラスチック材料を用
い、前記基板材料に曲率を設ける工程、前記基板材料の
凸部面側に所定の形状の導電膜を形成する工程、前記基
板拐料の凸部面側に配向処理を行なう工程、ｆｎＪ記基
板基板材料部面側に必要に応じシール剤を印刷し、ギャ
ップ剤を配する工程、前記基板材料を凸部面側を対向さ
せて組み立てる工程、前記組み立てだセルに液晶を注入
する工程とから少なくとも構成された液晶表示体の製造
方法。 （２） 基板材料として可撓性あるプラスチック材料
を用い、前記基板材料の凸部面側に所定の形状の導電膜
を形成する工程、前記基板材料に曲率を設ける工程、前
記基板材料の凸部面側に配向処理を行なう工程、前記基
板材料の凸部面側に必要に応じシール剤を印刷し、ギャ
ップ剤を配する工程、前記基板材料を凸部面側を対向さ
せて組み立てる工程、前記組み立てたセルに液晶を注入
する工程とから少なくとも構成された液晶表示体の製造
方法０ （６） 基板材料として可撓性あるプラスチック材料
を用い、前記基板材料の表面に所定の形状の導電膜を形
成する工程、前記基板材料の表面に配向処理を行なう工
程、前記基板材料に曲率を設ける工程、前記基板材料の
凸部面側に必要に応じシール剤を印刷し、ギャップ剤を
配する工程、前記基板材料を凸部面側を対向させて組み
立てる工程、前記組み立てたセルに液晶を注入する工程
、とから少なくとも構成された液晶表示体の製造方法。 （４） 基板材料として可撓性あるプラスチック材料
を用い、前記基板材料の表面に所定の形状の導電膜を形
成する工程、前記基板材料の表面に配向処理を行なう工
程、前記基板利剥の表面に必要に応じシール剤を印刷し
、ギャップ剤を配する工程、前記基板材料に曲率を設け
る工程、前記基板材料の凸部面側を対向させて組み立て
る工程、前記組み立てたセルに液晶を注入する工程とか
ら少なくとも構成された液晶表示体の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22818282A JPS59116619A (ja) | 1982-12-23 | 1982-12-23 | 液晶表示体の製造方法 |
| US06/564,457 US4526818A (en) | 1982-12-23 | 1983-12-22 | Liquid crystal display panel and process for the production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22818282A JPS59116619A (ja) | 1982-12-23 | 1982-12-23 | 液晶表示体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59116619A true JPS59116619A (ja) | 1984-07-05 |
Family
ID=16872490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22818282A Pending JPS59116619A (ja) | 1982-12-23 | 1982-12-23 | 液晶表示体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59116619A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01239527A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置の製造方法 |
-
1982
- 1982-12-23 JP JP22818282A patent/JPS59116619A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01239527A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置の製造方法 |
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