JPS59118469A - プリントヘツド - Google Patents
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- JPS59118469A JPS59118469A JP58221343A JP22134383A JPS59118469A JP S59118469 A JPS59118469 A JP S59118469A JP 58221343 A JP58221343 A JP 58221343A JP 22134383 A JP22134383 A JP 22134383A JP S59118469 A JPS59118469 A JP S59118469A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/162—Manufacturing of the nozzle plates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
- C25D1/08—Perforated or foraminous objects, e.g. sieves
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプリン１−＼ノドの構造に関し、特にバブル型
・インクジェット・プリンｌへノドにおけるオリフィス
板の構造に関する。
・インクジェット・プリンｌへノドにおけるオリフィス
板の構造に関する。
バブル型インクジェットプリイタについては特開昭５８
−３６＝４６５号や、米国特許４２４３９９４弓、４２
９６４２１ 号、４２５１１３２４号、４３１３１２４
号、４３２５７３５号、４３３０１８１号、４３３４２
３４可、４３３５３８９号、＝４３３６５４８号、−＋
３３ｅ６１＋号、４３３９７６２号、４３４５２６２℃
等に述−・られている。これら従来技術の装置は、ｗ本
釣に−インク包含毛イロＩ管、・インク吐出Ａリフイス
をもつオリフィス板、そして・インク加熱機構（オリフ
ィスにきわめて近接配置された抵抗器）より成る。動作
させる場合、・インク加ξ、ハ（、見構が急激に加熱さ
れ、ある量のエイ・ルギが・インクに伝達され、その結
果少量の一インクが気化し、毛細管中にバブルを発生す
る。よって圧力映が発生し一つまたは複数個のインク液
滴がオリフィスから記録媒体表面に向かって吐出される
。−インクに与えられるエネルギ量を制御ずろことによ
り、・インク茅気かオリフィスから逃ける以前に、バブ
ルは急速に消磁する（つぶれる）。
−３６＝４６５号や、米国特許４２４３９９４弓、４２
９６４２１ 号、４２５１１３２４号、４３１３１２４
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等に述−・られている。これら従来技術の装置は、ｗ本
釣に−インク包含毛イロＩ管、・インク吐出Ａリフイス
をもつオリフィス板、そして・インク加熱機構（オリフ
ィスにきわめて近接配置された抵抗器）より成る。動作
させる場合、・インク加ξ、ハ（、見構が急激に加熱さ
れ、ある量のエイ・ルギが・インクに伝達され、その結
果少量の一インクが気化し、毛細管中にバブルを発生す
る。よって圧力映が発生し一つまたは複数個のインク液
滴がオリフィスから記録媒体表面に向かって吐出される
。−インクに与えられるエネルギ量を制御ずろことによ
り、・インク茅気かオリフィスから逃ける以前に、バブ
ルは急速に消磁する（つぶれる）。
しかしながら、上記従来技術において開示されたオリフ
ィス考５は、１１寺にオリフィスと・インク毛イ田管し
か具備していない。プリンＩ−・ノ１゛の残りの部分は
別個に構成される。ちなわら、・インクをＬｈｍ管に供
給するための・インク保持体は別個に構成される。そし
てオリフィス管の水力学約分８；１［は完全に別個の毛
イ■管チャネルを設けるが、または１９７４１間に独立
した分離体を構成することにより行なわれる。したがっ
て上述した従来技ｉＭは、１′ンクを供給するためのイ
〉′り１１ｊ蔵部川外枠ｒｉｌ＋と」リフイス間の水力
学的分離部との両方を有する一体形成されたオリフィス
板を開示していない。またかかるオリフィス板を精密且
つ安価に作る方法も開示していない。
ィス考５は、１１寺にオリフィスと・インク毛イ田管し
か具備していない。プリンＩ−・ノ１゛の残りの部分は
別個に構成される。ちなわら、・インクをＬｈｍ管に供
給するための・インク保持体は別個に構成される。そし
てオリフィス管の水力学約分８；１［は完全に別個の毛
イ■管チャネルを設けるが、または１９７４１間に独立
した分離体を構成することにより行なわれる。したがっ
て上述した従来技ｉＭは、１′ンクを供給するためのイ
〉′り１１ｊ蔵部川外枠ｒｉｌ＋と」リフイス間の水力
学的分離部との両方を有する一体形成されたオリフィス
板を開示していない。またかかるオリフィス板を精密且
つ安価に作る方法も開示していない。
本発明の一実施例によるオリフィス板は電気的に形成で
きる物質より成り、インク貯蔵部用外枠１〕１；とオリ
フィス間の水力学的分離部との両方を一体的に具備する
。オリフィス板の形成方法は、まず最初に硬質型部（何
回も使用可能）と軟質型部（型が使用される度毎に新し
くする）とをもつ型を作ることである。硬質型部の表面
は、・インク貯蔵部用外枠部と水力学的分離部とを画定
するために、マスクおよび工、チング技術、またはマス
クおよび電気メツキ技術により形成される。一方軟質型
部は、オリフィスとＡリフイス板間の端部境界部とを画
定するために、マスクおよび現象技術により形成される
。
きる物質より成り、インク貯蔵部用外枠１〕１；とオリ
フィス間の水力学的分離部との両方を一体的に具備する
。オリフィス板の形成方法は、まず最初に硬質型部（何
回も使用可能）と軟質型部（型が使用される度毎に新し
くする）とをもつ型を作ることである。硬質型部の表面
は、・インク貯蔵部用外枠部と水力学的分離部とを画定
するために、マスクおよび工、チング技術、またはマス
クおよび電気メツキ技術により形成される。一方軟質型
部は、オリフィスとＡリフイス板間の端部境界部とを画
定するために、マスクおよび現象技術により形成される
。
型の完成後、その表面に電気メッキが行なわれ、比較的
均一な厚さの金属が形成される。そして次に、電気メッ
キされた部分（表面）は型から分離される。そして複ｉ
ｌ＆ｆ［Ｉのバブル型インクジェ、Ｉ・プリン１−ヘッ
ドをもつザンドイノチを作るために、対応する数の抵抗
器をもつ基板に整列さ一υ、結合される。そして個々の
プリン１−・ノド・ユニソＩ−に分離される。以下図面
を用いて本発明を説明する。
均一な厚さの金属が形成される。そして次に、電気メッ
キされた部分（表面）は型から分離される。そして複ｉ
ｌ＆ｆ［Ｉのバブル型インクジェ、Ｉ・プリン１−ヘッ
ドをもつザンドイノチを作るために、対応する数の抵抗
器をもつ基板に整列さ一υ、結合される。そして個々の
プリン１−・ノド・ユニソＩ−に分離される。以下図面
を用いて本発明を説明する。
第１図は本発明によるプリン１ヘツドに使用するオリフ
ィス板の斜視図である。図において１１はオリフィス板
であり、インク貯蔵部用外枠部１３、複数個のオリフィ
ス１５．１７．１９．２１、複数子の水力学的分離部２
３．２５．２７（オリフィス間のクロストークの防止）
を有する。
ィス板の斜視図である。図において１１はオリフィス板
であり、インク貯蔵部用外枠部１３、複数個のオリフィ
ス１５．１７．１９．２１、複数子の水力学的分離部２
３．２５．２７（オリフィス間のクロストークの防止）
を有する。
第２図は第１図のＡ−Ａ部分に対応するプリントヘッド
の断面図であり、特に・イ〉・り貯蔵部用外枠部とプリ
ン）・−・ノドの残部との関係を示したものである。！
＠ｌ、第２図において、インク貯蔵部用外枠部１３は、
短い毛細管チャネル３１を介して近くのオリフィス１５
に速＜・インクを供給するための・インク貯蔵部２９を
提供する。チャネル３１の長さは幅広く可変できるが、
チャネルの長さが短いほど、オリフィスの再充填速度早
くなる。
の断面図であり、特に・イ〉・り貯蔵部用外枠部とプリ
ン）・−・ノドの残部との関係を示したものである。！
＠ｌ、第２図において、インク貯蔵部用外枠部１３は、
短い毛細管チャネル３１を介して近くのオリフィス１５
に速＜・インクを供給するための・インク貯蔵部２９を
提供する。チャネル３１の長さは幅広く可変できるが、
チャネルの長さが短いほど、オリフィスの再充填速度早
くなる。
しかしながら、チャネルの長さをあまり短くすると、水
力学的分離部を設けた意味が減少する。このような制限
を考慮し、インクジエソ１の動作特性を最適化するには
、チャネル３１の長さは、約０．５１〜０．７６ｍｍで
ある。インクジェノ１に対する熱的エネルギは抵抗器３
３により与えられる。抵抗器３３には導電体３５．３７
を介して電力が与えられる。
力学的分離部を設けた意味が減少する。このような制限
を考慮し、インクジエソ１の動作特性を最適化するには
、チャネル３１の長さは、約０．５１〜０．７６ｍｍで
ある。インクジェノ１に対する熱的エネルギは抵抗器３
３により与えられる。抵抗器３３には導電体３５．３７
を介して電力が与えられる。
二酸化シリコンのようなパシベーション物質の薄層３９
が抵抗器３３と導電体３５．３７上に形成される。一般
に、チャネル３１を定めるパシベーション層３９とオリ
フィス板１１との間の間隔は、約０．０２５〜０．０５
ｍｍである。ただし、−インク貯蔵部２９の領域におい
ては約０．０６４〜０．１３ｍｍである。
が抵抗器３３と導電体３５．３７上に形成される。一般
に、チャネル３１を定めるパシベーション層３９とオリ
フィス板１１との間の間隔は、約０．０２５〜０．０５
ｍｍである。ただし、−インク貯蔵部２９の領域におい
ては約０．０６４〜０．１３ｍｍである。
また抵抗器３３と基板４３との間に熱制御層４１が用い
られる。これは、バブル消滅に対する所望の速度をうる
ためである。熱制御層４１に対する物質と厚さは基板に
用いられる物質により変る。
られる。これは、バブル消滅に対する所望の速度をうる
ためである。熱制御層４１に対する物質と厚さは基板に
用いられる物質により変る。
例えば、シリコン、セラミック、または金属基板を用い
た場合には、熱制御層４１に対して、約０．０８〜０
、１３ｍｍの厚さをもつＳｉＯが選ばれる。
た場合には、熱制御層４１に対して、約０．０８〜０
、１３ｍｍの厚さをもつＳｉＯが選ばれる。
第３図は第１図のＢ−Ｂ部分に対応するプリント−・ノ
ドの断面図であり、特に分離部とプリント−・ノドの残
部との関係を示したものである。第４図は第１図のＣ−
Ｃ部分に対応するプリン］・ヘッドの断面図であり、特
にインク貯蔵部用外枠部と分離部との関係を示したもの
である。両図において、２３．２５．２７は水力学的分
離部であり、オリフィス板１１の表面から、各抵抗器間
で下部に伸びて、パシベーション層３９と接触している
。
ドの断面図であり、特に分離部とプリント−・ノドの残
部との関係を示したものである。第４図は第１図のＣ−
Ｃ部分に対応するプリン］・ヘッドの断面図であり、特
にインク貯蔵部用外枠部と分離部との関係を示したもの
である。両図において、２３．２５．２７は水力学的分
離部であり、オリフィス板１１の表面から、各抵抗器間
で下部に伸びて、パシベーション層３９と接触している
。
それにより、抵抗器のある位置から発散したｍｉ ＳＲ
波に対する抵抗器間での直接通路を除去する。
波に対する抵抗器間での直接通路を除去する。
１０はインク供給管であり、インクをインク貯蔵部２９
に供給する。
に供給する。
オリフィス板１１の形成法は、まず最初にオリフィス板
１１の望ましい型をもつ型を形成し、次にその型の上に
金属または合金を電気的に形成しく例えばメッキや蒸着
）、最終的にその電気的に形成されたオリフィス板１１
は型から分離することである。オリフィス板１１を電気
的に形成するだめに使用される物質はメッキ可能な金属
であり、ｔａｌｌ 、ｔ ハニソケル、銅、ベリリウム
銅、スズ、合金である。第５図は第１図のＢ−１３部分
に対応する、オリフィス板形成用型の断面図である。型
は何回も使用できる硬質型部５１とその都度新しくする
軟質型部５３とより成る。硬質型部５１は、分離部とイ
ンク貯蔵部用外枠部とを含むオリフィス板の内表面を定
める。軟質型部５３はオリフィスを定める。価格を下げ
るために、型部５１は、多数回（少なくとも５０回）使
用でき、作成するのに安価な物質で作らねばならない。
１１の望ましい型をもつ型を形成し、次にその型の上に
金属または合金を電気的に形成しく例えばメッキや蒸着
）、最終的にその電気的に形成されたオリフィス板１１
は型から分離することである。オリフィス板１１を電気
的に形成するだめに使用される物質はメッキ可能な金属
であり、ｔａｌｌ 、ｔ ハニソケル、銅、ベリリウム
銅、スズ、合金である。第５図は第１図のＢ−１３部分
に対応する、オリフィス板形成用型の断面図である。型
は何回も使用できる硬質型部５１とその都度新しくする
軟質型部５３とより成る。硬質型部５１は、分離部とイ
ンク貯蔵部用外枠部とを含むオリフィス板の内表面を定
める。軟質型部５３はオリフィスを定める。価格を下げ
るために、型部５１は、多数回（少なくとも５０回）使
用でき、作成するのに安価な物質で作らねばならない。
上記要求に合致する硬質型部用物質は、銅、真鍮、ベリ
リウム銅、ニッケル、モリフテン・ステンレススチール
、チタンのようなシー［状金属または合金である。また
、鋼で覆った金属または金属で覆った繊維強化プラスチ
フス（積層プリン１板で使用されるようなもの）のよう
な合成物、または積層物質でもよい。
リウム銅、ニッケル、モリフテン・ステンレススチール
、チタンのようなシー［状金属または合金である。また
、鋼で覆った金属または金属で覆った繊維強化プラスチ
フス（積層プリン１板で使用されるようなもの）のよう
な合成物、または積層物質でもよい。
硬質型部５１を作るための方法は、−（ツク貯蔵部用外
枠部１３と分離部２３．２５．２７とを画定するための
領域をマスクし、次にエツチング除去し、およびまたは
電気メッキにより必要とする場所に物質を付加すること
である。この形成方法を１”２Ｈするためにいくつかの
例を以下に示す。
枠部１３と分離部２３．２５．２７とを画定するための
領域をマスクし、次にエツチング除去し、およびまたは
電気メッキにより必要とする場所に物質を付加すること
である。この形成方法を１”２Ｈするためにいくつかの
例を以下に示す。
例１
出発物質として精密に研削、研磨された３０４Ｌステン
レススチール板を用いる場合、 （Ａ）インク貯蔵部用外枠部に対する所望のパターンを
画定するためにシート表面をマスクする。
レススチール板を用いる場合、 （Ａ）インク貯蔵部用外枠部に対する所望のパターンを
画定するためにシート表面をマスクする。
物理的なマスク法も使用できるけれども、ステンレスス
チールにおけるマスキングの問題点を除去するためには
一般のＩＣ処理技術を使用するのかよい。この例で使用
する一般のＩＣ処理技術は以下のとおりである。
チールにおけるマスキングの問題点を除去するためには
一般のＩＣ処理技術を使用するのかよい。この例で使用
する一般のＩＣ処理技術は以下のとおりである。
ａ）感光性乳剤をシートに与える（例えばシプレ、イ
（ｓｈｉｐｌｅｙ ） ＡＺ１１９Ｓのようなボシテブ
・ホトレジスト）。
（ｓｈｉｐｌｅｙ ） ＡＺ１１９Ｓのようなボシテブ
・ホトレジスト）。
ｂ）乳剤を固めるために焼く。
Ｃ）インク貯蔵部用件枠部１３用の所望なパターンを露
出する。
出する。
ｄ）レジスト像を現像する。
（Ｂ）マスクされていない表面をエツチング゛し、ソー
ｌ上に外枠部１３の型を持つ凸部を作る。
ｌ上に外枠部１３の型を持つ凸部を作る。
（Ｃ）分離部用の所望パターンを画定するためＧこシー
１を再びマスタする（上述したＡＺ１１９Ｓのようなボ
シデブ・ホトレジストを用し）る）。そしてステップ（
Ａ）と同一の処理を行なう。
１を再びマスタする（上述したＡＺ１１９Ｓのようなボ
シデブ・ホトレジストを用し）る）。そしてステップ（
Ａ）と同一の処理を行なう。
（Ｄ）マスクされていない表面をエツチング゛し、ソー
ト中に分離部に対応する凹部を作る。
ト中に分離部に対応する凹部を作る。
もし出発物質の表面が合成物または積層物質の場合には
、幾分異なったステ・７プを用し）る。メＳ、ｔ！・な
らば、これら物質を覆う金属の厚さはそれほど厚くない
からである。かかる場合の処理は以Ｔの′ｉ８２、第３
例に示す。
、幾分異なったステ・７プを用し）る。メＳ、ｔ！・な
らば、これら物質を覆う金属の厚さはそれほど厚くない
からである。かかる場合の処理は以Ｔの′ｉ８２、第３
例に示す。
例２
出発物質として銅で覆った繊維強化エポキシ板（積層プ
リント仮のようなもの）を用し）る場合、（八）水力学
的分離部を画定するためにシー１ （板）の表面をマス
クする。
リント仮のようなもの）を用し）る場合、（八）水力学
的分離部を画定するためにシー１ （板）の表面をマス
クする。
（１３）銅をエツチングし、表面中に分離部Ｇこ対応す
る凹部を作る。
る凹部を作る。
（Ｃ）インク貯蔵部用外枠部を画定Ｊ−るノこめＧこ表
面をマクスする。
面をマクスする。
（Ｄ）表面に銅を電気メ・ツキし、り（枠９１（の型を
もつ凸部を作る。
もつ凸部を作る。
（Ｅ）後工程での型５１とメー１ノフィン、板１１との
分離を容易にするための分離表面を１′［るためＧこ、
表面上に無電解でニッケルを、４−− ／＼−メッキす
る。
分離を容易にするための分離表面を１′［るためＧこ、
表面上に無電解でニッケルを、４−− ／＼−メッキす
る。
例３
出発物質として銅で覆った繊維工、Ｉでキシ板（耳責層
プリント板のようなもの）を用し）る＋烏合（Ａ）水力
学的分離部を画定するためＧこソー１（板）の表面をマ
スクする。
プリント板のようなもの）を用し）る＋烏合（Ａ）水力
学的分離部を画定するためＧこソー１（板）の表面をマ
スクする。
（Ｂ）銅の被膜の厚さを増加するためにｉ同を電気メッ
キする。それにより分Ａｌｔ ８１！ｃこ対りｍ−る回
合トを作る。
キする。それにより分Ａｌｔ ８１！ｃこ対りｍ−る回
合トを作る。
（Ｃ）インク貯蔵部用外枠部を画定場−るノこめ（こ表
面をマスクする。
面をマスクする。
（Ｄ＞上記外枠部に対応する表面上Ｇこ凸９を形成する
ために銅を電気メ・ツキする。
ために銅を電気メ・ツキする。
（Ｅ）分離表面（例２のＥで説明した）を作るために、
低い電流密度でニッケルを電気メノギする硬質型部５１
の形成に続いて、軟質型部５３が表面上に形成される。
低い電流密度でニッケルを電気メノギする硬質型部５１
の形成に続いて、軟質型部５３が表面上に形成される。
軟質型部５３は光映像をかたとることかできる非導電性
プラスチフスまたは［・う・イフィルム・ホトレジスト
で形成される。オリフィスに対応する特定な型は一般に
、約０．０５ｍｍの高さと約０．０８ｍｍの直径をもつ
円筒である。上記プラスチ、りまたはレジストは一般の
マスクおよび現象技術により形成される。
プラスチフスまたは［・う・イフィルム・ホトレジスト
で形成される。オリフィスに対応する特定な型は一般に
、約０．０５ｍｍの高さと約０．０８ｍｍの直径をもつ
円筒である。上記プラスチ、りまたはレジストは一般の
マスクおよび現象技術により形成される。
オリフィス用マスクが形成されるのと同時に、軟質型部
５３によりオリフィス１１に対する所望の端部境界を先
生的に容易に定めることができる。
５３によりオリフィス１１に対する所望の端部境界を先
生的に容易に定めることができる。
したがって、単一のオリフィス板側の硬質型部５１を作
るのではなく、複数制のオリフィス板を定めた大きな硬
質型部をつくるのが経済的である。多数のオリフィス板
に対して、軟質型部も多く作ることができる。バクーン
中に、軟質型部５３により定められた所望の端部境界部
を同時に作ることにより、種々のオリフィス板に容易に
分離することができる。
るのではなく、複数制のオリフィス板を定めた大きな硬
質型部をつくるのが経済的である。多数のオリフィス板
に対して、軟質型部も多く作ることができる。バクーン
中に、軟質型部５３により定められた所望の端部境界部
を同時に作ることにより、種々のオリフィス板に容易に
分離することができる。
硬質型部５１および軟質型部５３の形成に続いて、全表
面にニッケルのような適切なる物質が電気メッキされる
。厚さは約０．０３〜０．１ｍｍであり、最適厚さは約
０．０６ｍｍである。この厚さは、電気メッキされた金
属が軟質型部５３の高さをわずかに超えて、該型部５３
とわずかにオーバラップ′りるように選ばれる。軟質型
部５３は非導電性であるので、それは板ではない。この
オーバーラツプにより、オリフィスの寸法は軟質型部５
３の直径よりも幾分小さくなり （第２．３図参照）、
その結果としてのオリフィスの型はより良いインク液滴
を生せしめる。代表的なオリフィスの−ｖ］法（直径）
は約０．０４〜０．１ｍｍであり、最適寸法は約０．０
６ｍｍである。
面にニッケルのような適切なる物質が電気メッキされる
。厚さは約０．０３〜０．１ｍｍであり、最適厚さは約
０．０６ｍｍである。この厚さは、電気メッキされた金
属が軟質型部５３の高さをわずかに超えて、該型部５３
とわずかにオーバラップ′りるように選ばれる。軟質型
部５３は非導電性であるので、それは板ではない。この
オーバーラツプにより、オリフィスの寸法は軟質型部５
３の直径よりも幾分小さくなり （第２．３図参照）、
その結果としてのオリフィスの型はより良いインク液滴
を生せしめる。代表的なオリフィスの−ｖ］法（直径）
は約０．０４〜０．１ｍｍであり、最適寸法は約０．０
６ｍｍである。
電気メッキの後、新しく形成されたオリフィス板は型か
らシートの型で分離される。そのシー１は対応する数の
抵抗器をもつ基板に整列させて結合され、多数のバブル
型インクジェットプリンＩ・ヘッドをもつサンドイソヂ
構造を作る。そしてこれは個々のプリントへ・ノドに分
割、分離される。
らシートの型で分離される。そのシー１は対応する数の
抵抗器をもつ基板に整列させて結合され、多数のバブル
型インクジェットプリンＩ・ヘッドをもつサンドイソヂ
構造を作る。そしてこれは個々のプリントへ・ノドに分
割、分離される。
第１図は本発明によるブリ＞′ｌ−・ノｌに使用するオ
リフィス板の斜視図、第２図は第１図のＡ−Ａ部分に、
第３図は第１図のＢ−Ｂ部分に、第４図は第１図のＣ−
Ｃ部分にそれぞれ対応する本発明のプリントへ、ドの断
面口、第５図は第１図のＢ−Ｂ部分に対応する、第１図
で示したオリフィス板形成用型の断面図である。
リフィス板の斜視図、第２図は第１図のＡ−Ａ部分に、
第３図は第１図のＢ−Ｂ部分に、第４図は第１図のＣ−
Ｃ部分にそれぞれ対応する本発明のプリントへ、ドの断
面口、第５図は第１図のＢ−Ｂ部分に対応する、第１図
で示したオリフィス板形成用型の断面図である。
Claims (1)
- 複数個のオリフィスと、前記オリフィス間を分離するた
めの分離部と、インク貯蔵部用り）枠部とを−・体的に
有するオリフィス板を具備するプリン１−−−ノド。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US443980 | 1982-11-23 | ||
| US06/443,980 US4528577A (en) | 1982-11-23 | 1982-11-23 | Ink jet orifice plate having integral separators |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59118469A true JPS59118469A (ja) | 1984-07-09 |
| JPH0223351B2 JPH0223351B2 (ja) | 1990-05-23 |
Family
ID=23762980
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58221343A Granted JPS59118469A (ja) | 1982-11-23 | 1983-11-24 | プリントヘツド |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4528577A (ja) |
| EP (1) | EP0109755B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59118469A (ja) |
| DE (1) | DE3376399D1 (ja) |
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- 1982-11-23 US US06/443,980 patent/US4528577A/en not_active Expired - Lifetime
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- 1983-10-14 EP EP83306266A patent/EP0109755B1/en not_active Expired
- 1983-10-14 DE DE8383306266T patent/DE3376399D1/de not_active Expired
- 1983-11-24 JP JP58221343A patent/JPS59118469A/ja active Granted
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3376399D1 (en) | 1988-06-01 |
| EP0109755A2 (en) | 1984-05-30 |
| EP0109755A3 (en) | 1985-01-09 |
| JPH0223351B2 (ja) | 1990-05-23 |
| EP0109755B1 (en) | 1988-04-27 |
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