JPS591212A - 輻射エネルギ線による物品の外側環状周辺領域の処理装置 - Google Patents

輻射エネルギ線による物品の外側環状周辺領域の処理装置

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JPS591212A
JPS591212A JP58024943A JP2494383A JPS591212A JP S591212 A JPS591212 A JP S591212A JP 58024943 A JP58024943 A JP 58024943A JP 2494383 A JP2494383 A JP 2494383A JP S591212 A JPS591212 A JP S591212A
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annular
mirror device
radiation field
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ウルフ・ヤン−エリツク・アステロ
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OPUTEITSUKU INOBEESHIYON OIABU AB
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OPUTEITSUKU INOBEESHIYON OI AB
OPUTEITSUKU INOBEESHIYON OIABU AB
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、輻射エネルギ線で物品の外側周辺領域を処理
する装置、特に、密封領域で管状熱可塑性フィルムによ
って包囲される熱可塑性チューブの外側面ヘレーデ光線
で該フィルムを環状密封する装置に関する。
レーず光線の使用による熱可塑性フィルムの熱密封は、
例えば、米国特許第４２２４０９６号と、西独特許公開
第１７０４１５２号とによって従来公知である。
医療分野では、熱可塑性フィルムで形成される樹脂袋が
使用され、該袋は、樹脂チューブが挿入されてその内側
面に密封される喉を有している。
この場合には、樹脂袋の喉と、チューブとは、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリ塩化♂ニール、ポリ塩化ビ
ニＩＪデン等の様な熱可塑性材料から成り、輻射エネル
ギ線の適用の利用によって相互に熱密封ないし熱溶接さ
れてもよい。ｍ接点が周辺溶着部ないし密封部を形成す
る如く円周線に沿って移動する際、応力は、形成される
溶層部の円周方向と、半径方向との両者において発生す
る。後者の応力は、チューブを押し潰す如（作用し、特
に、チューブの壁厚が比較的薄い場合に然りである。い
ずれにしても、応力は、溶層部ないし密封部を介する漏
洩の危険を生じさせる如く作用する。
その上、装置は、密封すべき物体と、該物体でのエネル
ギ線の加熱点との間に相対的な運動を生じさせるために
必要である。
従って、本発明の目的は、輻射エネルギ線による物品の
外側環状周辺領域の処理を可能にする装置を提供するこ
とである。別の目的は、密封領域において管状熱可塑性
フィルムで包囲される熱可塑性チューブの外側面へのレ
ーず光線による該フィルムの環状密封を可能にする装置
を提供することである。別の目的は、環状＋ｉ！１ｋｌ
が全体の周辺密封領域に沿い同一のときに形成され、こ
れにより、この密封操作中と、該操作後とに生じる応力
が対称的である如く該装置を構成することである。
創意に富む装置は、入射する輻射エネルギ線と同心状に
位置すると共に、その軸線と成る角度を形成して該軸線
のまわりに延びる幅射場へ該入射線を偏向する如く配置
される円錐形の第１鏡装置と、該第１鏡装置とはソ同心
状に設置されると共に、輻射場を受取ってその軸層に向
って内方へ該場を偏向する如く配置される環状の第２鏡
装置とを備え、このとき、物品は、環状外側周辺領域に
おいて輻射場に当る様に設置される如く配置される。
第１鏡装置は、入射線へその上部を向ける外部反射の円
錐形鏡から成ってもよい。これと異なり、第１鏡装置は
、その上部が入射線から遠い内部反射の円錐形鏡で形成
されてもよ（、該上部の円錐角は、好ましくは、少な（
とも６０°である。
第２鏡装置は、好ましくは第１鏡装置と同心状に配置さ
れる内部反射の環状鏡から成ってもよい。
これと異なり、第２鏡装置は、外部反射の円錐形鏡で偏
向される輻射場を受取る如（配置される截頭円錐形内部
反射の第１璋状鏡と、該第１璋状鏡からの輻射場を受取
ってその軸層に向い、好ましくは、その軸線に直角に該
輻射場を偏向する如（配置される截頭円錐形内部反射の
第２環状鏡とを備えてもよい。
好ましくは、第１ｆｆｌ−置は、他の鏡装置と同様に、
回転対称である。この場合には、第２鏡装置は、環状鏡
から成り、その反射面は、好ましくは円筒形である。
反射面が回転対称円錐形の形状なπする代りに、ピラミ
ツ−形状な胃してもよい実施例を包含する創意に富む装
置も考慮される。
該装置に入射するレーデ光艇は、はソ丸い円筒形断面な
百し通常のレーデユニットから放射される如く見做され
てもよく、通常の偏向鏡は、創意に富む装置へのレーデ
光線の該入射方向を与える如（レーデユニットと該装置
との間に配置されてもよい。
しかしながら、該装置へ入射するレーず光線が収斂また
は拡散するのを阻止するものはない。入射レーデ光線で
の収斂または拡散は、処理すべき物品に望ましいと考え
られ＼ば、使用されてもよい。
上述の如く、該装置は、熱可塑性材料の熱密封ないし熱
溶接に特別な用途を見出すが、金属または加硫可能な樹
脂または加硫された樹脂の様なその他の材料の物品の環
状外側周辺領域に溶接、切断、表面硬化等の様な処理を
行うのに使用されてもよい。
本特許請求の範囲に限定される本発明は、その実施例に
関し添付図面を参照して下記に詳細に説明される。
第１図では、円筒形レーデ光−５を放射するレーデユニ
ット１５が示される。光ｆｔ１５は、円錐形鏡３の上部
に同心状に向けられる。光線５は、・平坦な円周方向の
輻射線５０に鏡３で偏向される。
光＃５に対する孔１０を■し内部反射の円錐形環状鏡１
は、１１３と同心状に配置され、輻射場５０を受取って
該場を偏向する様な鏡３に対する軸方向位置に設置され
る。内部反射の円錐形鏡２は、鏡１，３と同心状に位置
し、鏡１で反射される場を受取り咳輻射場をその軸ＷＡ
Ｋ向って偏向する如（配置される。熱可塑性チューブ９
を密に包囲する喉８を■するフィルム材料の熱可塑性袋
６から成る物品は、輻射線５０が該物品の外側の意図さ
れる周辺領域に肖たる様な鏡２に対する軸方向位置で、
鏡２の軸線に同心状のチューブ９′（ｌ−伴つて設置さ
れる。
レーデ光ＷＡ５は、所望により、物品の狭い環状領域に
輻射線５０を集中する如（収斂されてもよい。
鏡１，２は、ロツＰ１８で相互に対し強固に結合される
。鏡３は、鏡３から鏡１，２間の輻射路を通って要素１
Ｂへ延び・・等しい角度に分離された３つのロッＰ４に
より、筒ラド１８と、鏡１゜２とに対して支持される。
鏡１．２間の輻射路での光線の強さは、入射光線５にお
けるよりもかな９弱＜、Ｒつて、ロッド４は、場５０か
らの限られたエネルギ強さに晒されることが認められる
。
鏡１，２間の場５０が光線５の軸線と、物品の処理領域
とからかなりな半径方向距離にあるため、ロツＰの有効
な輻射遮蔽は、比較的小さく無視可能なことが認められ
る。
第２図は、レーデ光線５が内部反射の回転する対称的円
錐形鏡３へ同心状に向けられる実施例を示し、鏡３の円
錐角は、６０°　よりも幾分大きい。
鋭３は、円錐形の円周方向幅射場５０へ光線５を偏向す
る。丸い円筒形内部反射の環状鏡１は、輻射線５０を受
取って物品６，８．９の環状外側密封領域に当る如（そ
の軸線７へ内方に該輻射線を偏向する様な軸方向位置で
、′ａ３の軸Ｎ１Ａ７と同心状に配置され、該物品のチ
ューブ９は、鏡１．３と同心状に設置される。
第２図の実施例では、熱交換器２２は、鏡３を冷却する
ため、鏡３の背後に配置される。熱交換器２２は、導管
２１を介して冷却用流体を供給され、導管２３は、熱交
換器２２から流体を外へ導く。鏡３は、ロツＰ４で鏡１
に支持される。第２図の実施例では、ロッド４は、輻射
場５０またはレーデ光線５を通って延びな（てもよい。
ｉ＠２図の実施例では、レーず光線は、鏡３の反射面を
介し同心状に方向づけられる如（レーデ光？ｆｌＡ５を
偏向する平坦な鏡１５へ鏡１，２の軸ｓｒに直角に放射
されてもよい。
第３図は、レーずユニットを示し、該ユニットのレーデ
光１１ｉ１５は、外部反射の円錐形ｆＲ３の上部へ同心
状に肖り、鏡３は、円錐形の周辺の場５０ヘ光線５を偏
向する。内部反射の円筒形鏡１は、鏡３と同心状に配置
され、輻射線５０を受取って、輻射線５０が物品６−８
の環状密封領域に当る如（その軸線へ輻射線を偏向する
様な鏡３に対する軸方向位置に設置され、物品のチュー
ブは、鏡１゜３と同心状に設置される。第６図の実施例
では、鏡３の円錐角は、９０°　よりも小さくなければ
ならない。
創意に富む装置に当るレーず光線は、通常、その横断面
にわたり強さの正規分布を有している。
これは、光線５がその中心部分に比較的大きい強さを■
し、その周辺部分に比較的小さい強さｖ；’ｔｉｔする
ことを意味する。従って、輻射線５０は、その巾にわた
り非対称の強さ分布を封している。第１図の実施例では
、場５０は、袋が第１図に示される態様に方向づけられ
るとき、袋６の内部に向い最大強さを有している。第２
図、第３図の実施例では、場５０の一大強さは、袋の喉
の口に向って横たわる。この場合では、レーデ光線で供
給されるエネルヤは、袋の喉の材料を燃焼する傾向があ
り、袋の口から遠い袋材料は、小さい輻射強さに晒され
、従って、何月な密な密封は、その該一端での燃焼にも
拘わらず得られる。第１図の実施例では、場の最大輻射
強さは、袋の内部に隣接して横たわり、従って、密封領
域での最大強さの領域を袋の口に一層隣接して配置する
如く、配列された強さ分布が成る通常の態様で変更され
なければ、漏洩の慣れが生じ得る。
ｆ！＃、３の上部領域の過熱を防止する如く、該鏡は、
冷却用気体の流れをそれに向って送る冷却ファンの様な
冷却装置を備えてもよい。これと異なり、該鏡は、第２
図に示す如く、冷却用流体がその中を圧送される真実の
熱交換器を備えてもよ（、第１図、第６図の実施例では
、冷却用流体は、ロツｒ４のチャンネルを介し供給され
て除去されてもよい。
第１図から第６図までに示される物品は、喉８を荷する
袋６を包含し、該袋と、喉とは、重ねた２枚の熱可塑性
シートを通常の密封ないし溶接で成形されてもよい。従
って、突出る自由フィンが袋の喉領域８に形成されるこ
とは、真実であるが、該フィンは、袋の喉８をチューブ
９に密に密封するのに関連する如何なる問題をも生じさ
せないことが判明した。しかしながら、弾力的な熱可塑
性フィルムに孔を形成し、該孔がチューブ９の外側寸法
よりも小さい寸法′４Ｉ：封し、該孔の端縁に隣接する
フィルム材料が引張られて反転される如くフィルムにチ
ューブを押込み、従って、環状端縁部分がチュー−ｌ″
９の周辺の軸方向へ延びる部分に結合されることが考え
られる。次に、フィルムは、該孔にはソ一致する線に沿
って折曲げられてもよ（、次に、フィルムの端縁は、フ
ィルムの孔の端縁領域が物品の前記袋の喉を形成する如
く通常の熱密封ないし溶接で相互に密封可能である。
鏡１，２．３は、Ｍ利に回転対称でもよ（、直線の形状
の母線なπしてもよい。しかしながら、該母線は、所望
により、場が物品の処理領域で所望の巾を有する様に輻
射線を収斂または拡散する如（彎曲形状を有してもよい
ことが明白である。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の装置の第１実施例の図式的な縦断面図
、第２図は本発明の第２実施例の図式的な縦断面図、第
３図は本発明の第３実施例の図式的な縦断面図を示す。 １．２・・・環状鏡　　　３・・・円錐形鏡５・・・レ
ーず光線　　　７・・・鏡の軸線代理人　浅　村　　　
　皓 外４名 手続補正書（方式） く和５８年８月　５日 特許庁長官殿 １、事件の表示 昭和　５８年特許願第　　２４９４３　　　号３、補正
をする者 事件との関係　特許出願人 ４、代理人 ５、補正命令の日付 昭和５８年７月２６日 ６、補正により増加する発明の数

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）輻射エネルヤ線による物品の外側環状周辺領域の
    処理装置、特に、密封領域において管状熱可塑性フィル
    ムで包囲される熱可塑性チューブの外側面へのレーず光
    磁による該フィルムの環状密封装置において。 入射？ｔｓ（５）と同心状に設置され、その軸線（７）
    に対して成る角度を形成して該軸線のまわりに延びる輻
    射場へ該入射線を偏向する如く配置される円錐形の第１
    鏡装置（３）と、該第１鏡装置（３ンとはｙ同心状に設
    置され、該輻射場を受取ってその軸線に向って内方へ該
    輻射場を偏向する如く配置される環状の第２鏡装置（１
    ，２）とを備え、前記物品の周辺領域が、該輻射場に肖
    る様な該第２鏡装置に対する軸方向位置で該第２鏡装置
    （１，２）と同心状に設置される如く意図されるごとを
    特徴とする処理装置。
  2. （２）前記第１鏡装置が、前記入射ａ（５）に面する如
    （その上部を向ける外部反射の鏡であることを特徴とす
    る 特許請求の範囲第１項記載の処理装置。
  3. （３）前記第１鏡装置（３）が、前記入射ＷＡＣ５）に
    遠く面する如くその上部を向ける内部反射の円錐形鏡で
    あることを特徴とする 特許請求の範囲第１項記載の処理装置。
  4. （４）前記第２鏡装置が、好ましくは前記第１鏡装置（
    ３）と同心状に配置される内部反射の環状鏡（１）を備
    えることを特徴とする 特許請求の範囲第１項から第３項のいずれか１つの項に
    記載の処理装置。
  5. （５）前記第２鏡装置（１，２）が、截頭円錐形内部反
    射の第１環状鏡（１）および第２環状鏡（２〕を備え、
    該第１ｍ状鏡が、前記第゛１鏡装置から輻射場を受取っ
    て該第２環状鏡へ該輻射場を偏向し。 該第２環状鏡が、該輻射場を好ましくはその軸−に対し
    て直角に偏向する如（配置されることな特徴とする 特許請求の範囲第１項から第６項のいずれか１つの項に
    記載の処理装置。
  6. （６）前記第１鏡装置と、第２鏡装置とが、回転対称の
    鏡（３，１，１，２，３）で形成されることを特徴とす
    る 特許請求の範囲第１項から第５項のいずれか１つの項に
    記載の処理装置。
  7. （７）前記第１鏡装置の円錐角が、少なくとも６０゜で
    あることを特徴とする 特許請求の範囲第６項から第６項のいずれか１つの項に
    記載の処理装置。
  8. （８）前記第２鏡装置の漂状鏡（１）が、丸い円筒形で
    あることを特徴とする 特許請求の範囲第１項から第４項、第６項、第７項のい
    ずれか１つの項に記載の処理装置。
JP58024943A 1982-02-18 1983-02-18 輻射エネルギ線による物品の外側環状周辺領域の処理装置 Pending JPS591212A (ja)

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SE82010208 1982-02-18

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JP58024943A Pending JPS591212A (ja) 1982-02-18 1983-02-18 輻射エネルギ線による物品の外側環状周辺領域の処理装置

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SE8201020L (sv) 1983-08-19
EP0087403A1 (en) 1983-08-31
SE434480B (sv) 1984-07-30

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