JPS59121983A - 光半導体素子アレイと光フアイバとの光学的結合方法 - Google Patents
光半導体素子アレイと光フアイバとの光学的結合方法Info
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- JPS59121983A JPS59121983A JP57228751A JP22875182A JPS59121983A JP S59121983 A JPS59121983 A JP S59121983A JP 57228751 A JP57228751 A JP 57228751A JP 22875182 A JP22875182 A JP 22875182A JP S59121983 A JPS59121983 A JP S59121983A
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- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/4201—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
- G02B6/4249—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details comprising arrays of active devices and fibres
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
- Led Devices (AREA)
- Mechanical Coupling Of Light Guides (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
- Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(a)発明の技術分析
本発明は半導体基板上に設けられたアレイ状の複数個の
光半導体素子それぞれに光ファイバを位置合せし固定す
る方法に関する。
光半導体素子それぞれに光ファイバを位置合せし固定す
る方法に関する。
(b)発明の技術分野
LEDなどの発光素子或いは光ダイオードなどの受光素
子は、必要とする波長帯域により単体半導体或いは化合
物半導体を基板として形成されているが、これら個別の
光半導体素子以外に半導体基板上に多数の光半導体素子
が配設され、該素子の発光部或いは受光部それぞれに光
ファイバを結合させた光半導体装置がある。
子は、必要とする波長帯域により単体半導体或いは化合
物半導体を基板として形成されているが、これら個別の
光半導体素子以外に半導体基板上に多数の光半導体素子
が配設され、該素子の発光部或いは受光部それぞれに光
ファイバを結合させた光半導体装置がある。
(C)従来技術と問題点
第1図は従来行われていたアレイ状の光半導体素子と光
ファイバとの結合方法を示すもので、L字形の結合用治
具1と支持板2および光フアイバ保持具3とを用いて複
数の光半導体素子それぞれと光ファイバを結合させるも
のである。
ファイバとの結合方法を示すもので、L字形の結合用治
具1と支持板2および光フアイバ保持具3とを用いて複
数の光半導体素子それぞれと光ファイバを結合させるも
のである。
即ち、複数の光半導体素子が形成された半導体基板4を
支持板2の所定の位置に固定し、一方。
支持板2の所定の位置に固定し、一方。
L字形の結合用治具1により位置決めされ、且つ。
結合用治具1に沿ってスライド可能な光フアイバ保持具
3には光半導体素子の配列パターンに合せて精密に加工
された複数個の孔5が設けられており、この孔5に光フ
ァイバを通した後矢印6の方向、即ち、支持板2に接触
させるようそれぞれの光半導体素子の発光部或いは受光
部と光ファイバとを光学的に結合していた。
3には光半導体素子の配列パターンに合せて精密に加工
された複数個の孔5が設けられており、この孔5に光フ
ァイバを通した後矢印6の方向、即ち、支持板2に接触
させるようそれぞれの光半導体素子の発光部或いは受光
部と光ファイバとを光学的に結合していた。
然し、保持具3の孔は機械加工により作られているため
位置精度が悪く、また、支持板2および保持具3を用い
るためアレイ自体が大きくなる欠点があった。
位置精度が悪く、また、支持板2および保持具3を用い
るためアレイ自体が大きくなる欠点があった。
(d)発明の目的
本発明は半導体基板上に形成された複数個の光半導体素
子と光ファイバとを位置精度良く且つ。
子と光ファイバとを位置精度良く且つ。
これよりも広い面積を必要とせすに良好な光学的結合が
可能な方法を提供することを目的とする。
可能な方法を提供することを目的とする。
(e)発明の構成
本発明の目的は複数個の光半導体素子が配列された基板
と、前記光半導体素子と対応する位置に角を有する開口
が設けられた位置合せ用の基板とを対向させ、前記位置
合せ用の基板の開口に光ファイバを挿入し、前記開口の
角に光ファイバの側面を当接して前記光半導体素子と光
ファイバとを光学的に結合させる方法を用いることによ
り達成できる。
と、前記光半導体素子と対応する位置に角を有する開口
が設けられた位置合せ用の基板とを対向させ、前記位置
合せ用の基板の開口に光ファイバを挿入し、前記開口の
角に光ファイバの側面を当接して前記光半導体素子と光
ファイバとを光学的に結合させる方法を用いることによ
り達成できる。
(f)発明の実施例
本発明は半導体ICや磁気バブルメモリなどの電子部品
においてパターン形成に用いられている微細パターン形
成技術を用い位置合せ用基板に多数の光フアイバ挿着用
の角穴を設けるもので、この角穴の角を利用して多数個
の光ファイバと多数個の光半導体素子とを正しく位置決
めし固定するものである。
においてパターン形成に用いられている微細パターン形
成技術を用い位置合せ用基板に多数の光フアイバ挿着用
の角穴を設けるもので、この角穴の角を利用して多数個
の光ファイバと多数個の光半導体素子とを正しく位置決
めし固定するものである。
ここで微細パターン形成技術にはホトレジストとエツチ
ングを用いる写真蝕刻技術(ホトリソグラフィ)がよく
用いられておりエンチングにも化学薬品を用いるケミカ
ルエツチングとイオンミーリングやプラズマエツチング
などの物理的手法を用いるドライエツチングがある。
ングを用いる写真蝕刻技術(ホトリソグラフィ)がよく
用いられておりエンチングにも化学薬品を用いるケミカ
ルエツチングとイオンミーリングやプラズマエツチング
などの物理的手法を用いるドライエツチングがある。
また1本発明に用いる角穴にも三角形状や四角形状のも
のなど各種のものがあり、角度が180〔〕より小、特
に鋭角であれば如何なる角度のものでも差支えない。
のなど各種のものがあり、角度が180〔〕より小、特
に鋭角であれば如何なる角度のものでも差支えない。
ここでは半導体基板を位置合せ板としケミカルエツチン
グにより菱形の鋭角部を作る実施例について説明する。
グにより菱形の鋭角部を作る実施例について説明する。
ダイヤモンド形半導体例えばシリコン(Si)。
ゲルマニウム(Ge)或いは閃亜鉛鉱形半導体例えばガ
リウム砒素(Ga As ) 、 インジウム・アンチ
モン(In Sb)などは結晶面の方位によりエツチン
グ速度が異なるため、この異方性エツチングにより菱形
のエツチング孔を作ることができる。
リウム砒素(Ga As ) 、 インジウム・アンチ
モン(In Sb)などは結晶面の方位によりエツチン
グ速度が異なるため、この異方性エツチングにより菱形
のエツチング孔を作ることができる。
ここでSiに例をとると最も単純な結晶面である(10
0)、 (110)及び(111)の各結晶面につい
て比較すると、この順序でエツチング速度は減少してい
る。
0)、 (110)及び(111)の各結晶面につい
て比較すると、この順序でエツチング速度は減少してい
る。
それで比較的緩やかな工・ノチンダ液例えばピロカテコ
ールECs H+ (OH)2 ]、エチレンジアミン
(H2NCH2CH,Nl2 )および水(H2O)か
らなる混合液を用いると異方性エツチングを行うことが
できる。
ールECs H+ (OH)2 ]、エチレンジアミン
(H2NCH2CH,Nl2 )および水(H2O)か
らなる混合液を用いると異方性エツチングを行うことが
できる。
即ち、 (110)を切断面とするとSiウェハを局
部的に垂直にエツチングすると(111)を断面とする
エツチング孔ができるが、この場合隣接する断面との交
叉角が70.52°をなすことおよび写真蝕刻技術が精
度よく行われることを利用して位置合せ用の穿孔を形成
する。以下図面により本発明を実施例について説明する
。
部的に垂直にエツチングすると(111)を断面とする
エツチング孔ができるが、この場合隣接する断面との交
叉角が70.52°をなすことおよび写真蝕刻技術が精
度よく行われることを利用して位置合せ用の穿孔を形成
する。以下図面により本発明を実施例について説明する
。
第2図(A)は厚さ約300〔μm〕のガリウム砒素(
GaAs)基板7の上に4個のLEDを形成し、これに
厚さ約300 Cμm〕のSi薄板からなる位置合せ板
8を用い、この各々に直径125 〔μm〕の光ファイ
バ9を結合した状態を示す斜視図であって、10は一部
破断外観斜視図である。
GaAs)基板7の上に4個のLEDを形成し、これに
厚さ約300 Cμm〕のSi薄板からなる位置合せ板
8を用い、この各々に直径125 〔μm〕の光ファイ
バ9を結合した状態を示す斜視図であって、10は一部
破断外観斜視図である。
また、同図(B)はこの上面平面図である。
ここでSiからなる位置合せ板8は、金(Au)・亜鉛
(Zn )合金の蒸着膜よりなる電極11のとり出しの
ためGaAs基板7より幅狭く形成されている。
(Zn )合金の蒸着膜よりなる電極11のとり出しの
ためGaAs基板7より幅狭く形成されている。
ここで位置合せ用のエツチング孔1iの作り方は、
(110)面をウェハ面とするSi薄板8にホトレジス
ト膜を形成後Ga As基板上に形成されている発光部
と位置合せ用のメサ部13が入る菱形の開口部を複数個
(この場合41固)持っマスクを用いて露光し1先に述
べたエツチング液を用いてホトエツチングを行う。この
場合エンチング速度は(111)面が最も遅いため直角
にエツチングされて、この側壁の結晶面は(111)面
ととなる。本発明に係る固定板はこのように正確な角を
もつエツチング孔の対向する2隅を利用して位置合せを
行う。
(110)面をウェハ面とするSi薄板8にホトレジス
ト膜を形成後Ga As基板上に形成されている発光部
と位置合せ用のメサ部13が入る菱形の開口部を複数個
(この場合41固)持っマスクを用いて露光し1先に述
べたエツチング液を用いてホトエツチングを行う。この
場合エンチング速度は(111)面が最も遅いため直角
にエツチングされて、この側壁の結晶面は(111)面
ととなる。本発明に係る固定板はこのように正確な角を
もつエツチング孔の対向する2隅を利用して位置合せを
行う。
ここで光半導体素子の発光部と光ファイバとを位置合せ
を行うには各種の方法がある。
を行うには各種の方法がある。
第2図は各素子の発光部に隣接してメサ状突起部13を
設けた例で、メサ状突起部13はメンキを厚めに形成し
、これを選択エツチングして残すか或゛いはGa As
基板をエンチングしこれに金属球を嵌め込み接着するな
どの方法で形成する。
設けた例で、メサ状突起部13はメンキを厚めに形成し
、これを選択エツチングして残すか或゛いはGa As
基板をエンチングしこれに金属球を嵌め込み接着するな
どの方法で形成する。
なお、1&者の場合はメサ状突起部13は台状とならず
半球状となる。
半球状となる。
次に光ファイバ9を各光半導体素子の発光部9゜への接
合法としては位置合せ板8の位置合せ用孔12内にGa
As基板7上に形成されている各光半導体素子のメサ
状突起部13を挿入した後、第2図(B)に示すように
該メサ状突起f?l113が位置合せ用孔12の一方の
鋭角部14に当接するまで位置合せ板8をスライドさせ
る。
合法としては位置合せ板8の位置合せ用孔12内にGa
As基板7上に形成されている各光半導体素子のメサ
状突起部13を挿入した後、第2図(B)に示すように
該メサ状突起f?l113が位置合せ用孔12の一方の
鋭角部14に当接するまで位置合せ板8をスライドさせ
る。
この場合、各素子の発光部9゛は必ず位置合せ用孔12
内の前記鋭角の対角位置即ち、他方の鋭角の位置にある
ので複数本の光ファイバ9を位置合せ用孔1“12に挿
入して対角位置14Bに当接させればよい。
内の前記鋭角の対角位置即ち、他方の鋭角の位置にある
ので複数本の光ファイバ9を位置合せ用孔1“12に挿
入して対角位置14Bに当接させればよい。
次にこの状態で接着剤を用い電極とり出し部11を除い
てGa As基基板7値 光ファイバ9を固定すればよい。
てGa As基基板7値 光ファイバ9を固定すればよい。
第3図は他の方法を示すもので第2図(B)に対応する
平面図であり,この場合はLEDの発光部9″をメサ状
に形成することにより位置合せを容易にしている。
平面図であり,この場合はLEDの発光部9″をメサ状
に形成することにより位置合せを容易にしている。
この場合はGa As基板7上に形成されたLED素子
のメサ状発光部9″が位置合せ坂8の位置合せ用孔12
に入るように位置合せ板8を装着した後位置合せ用孔1
2の角14Bの位置にまでスライドさせて位置決めし.
以後は第2図の場合と同様に固定すればよい。
のメサ状発光部9″が位置合せ坂8の位置合せ用孔12
に入るように位置合せ板8を装着した後位置合せ用孔1
2の角14Bの位置にまでスライドさせて位置決めし.
以後は第2図の場合と同様に固定すればよい。
以上のようにして光半導体素子の発光部または受光部と
光フアイバアレイとの接合がなされるが。
光フアイバアレイとの接合がなされるが。
固定板を2個重ねて用いると光ファイバの固定を完全に
行うことができる。
行うことができる。
第4図は本発明に係る位置合せ板8”の斜視図で,この
実施例の場合は32個の位置合せ用孔12が従来の方法
で開けられてきる。
実施例の場合は32個の位置合せ用孔12が従来の方法
で開けられてきる。
第5図はかかる2個の位置合せ板を重ねた状態で一組の
エツチング孔12″,12″′の位置関係を示すもので
,第3図で示した方法で発光部9″に光ファイバ9を接
合し固定する場合を示している。
エツチング孔12″,12″′の位置関係を示すもので
,第3図で示した方法で発光部9″に光ファイバ9を接
合し固定する場合を示している。
即ち,光ファイバを接合した後上側の位置合せ板を矢印
16の方向に引き.光ファイバを対角の部分で挾むこと
により光ファイバが固定される。
16の方向に引き.光ファイバを対角の部分で挾むこと
により光ファイバが固定される。
第6図は本発明の方法を利用して32本の光フフイバ9
からなるアレイを配列した場合の斜視図で,光ファイバ
9は下側の位置合せ板8′と上側の位置合せ板8″の両
者により挾持されるため安定に固定されることになる。
からなるアレイを配列した場合の斜視図で,光ファイバ
9は下側の位置合せ板8′と上側の位置合せ板8″の両
者により挾持されるため安定に固定されることになる。
以上のようにホトエツチングにより形成した菱形の穿孔
の鋭角部を用いれば簡単に位置決めを行うことができる
。
の鋭角部を用いれば簡単に位置決めを行うことができる
。
なお1以上の実施例は位置合せ坂としてSiを用いた場
合について説明したが金B坂を用い正確に孔明けされた
角穴の角部を用いても同様に結合できることはいうまで
もない。
合について説明したが金B坂を用い正確に孔明けされた
角穴の角部を用いても同様に結合できることはいうまで
もない。
(g)発明の効果
本発明の実施により今まで位置合せ精度が悪いため修正
に時間を要していたのが改善され,また小形の位置合せ
板で光半導体素子アレイと光ファイバとの光学的結合を
極めて容易に且つ高い精度をもって行うことができる。
に時間を要していたのが改善され,また小形の位置合せ
板で光半導体素子アレイと光ファイバとの光学的結合を
極めて容易に且つ高い精度をもって行うことができる。
第1図は従来の光フアイバアレイの接合方法を説明する
斜視図,第2図は本発明に係る接合方法の説明図で(A
)は斜視図、 (B)は平面図、第3図は本発明に係る
別な接合方法を説明する平面図、第4図は本発明に係る
固定板の斜視図、第5図は本発明に係る光フアイバ固定
法の説明図2また第6図はこの実施法を示す斜視図であ
る。 図において 4は半導体基板、7ばGa As基板、8.8’ 。 8″は位置合せ板、9は光ファイバ、9° は発光部、
9″ばメサ状発光部、12.12’ 、12”は位置合
せ用孔、13はメサ状突起部。 第1 区1 竿2図(A)
斜視図,第2図は本発明に係る接合方法の説明図で(A
)は斜視図、 (B)は平面図、第3図は本発明に係る
別な接合方法を説明する平面図、第4図は本発明に係る
固定板の斜視図、第5図は本発明に係る光フアイバ固定
法の説明図2また第6図はこの実施法を示す斜視図であ
る。 図において 4は半導体基板、7ばGa As基板、8.8’ 。 8″は位置合せ板、9は光ファイバ、9° は発光部、
9″ばメサ状発光部、12.12’ 、12”は位置合
せ用孔、13はメサ状突起部。 第1 区1 竿2図(A)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 複数個の光半導体素子が配列された基板と前記光半導体
素子と対応する位置に角を有する開口が設けられた位置
合せ用の基板とを対向させ、前記位置合せ用の基板の開
口に光ファイバを挿入し。 前記開口の角に光ファイバの側面を当接して前記光半導
体素子と光ファイバとを光学的に結合させることを特徴
とする光半導体素子アレイと光ファイバとの光学的結合
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57228751A JPS59121983A (ja) | 1982-12-28 | 1982-12-28 | 光半導体素子アレイと光フアイバとの光学的結合方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57228751A JPS59121983A (ja) | 1982-12-28 | 1982-12-28 | 光半導体素子アレイと光フアイバとの光学的結合方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59121983A true JPS59121983A (ja) | 1984-07-14 |
| JPH0226395B2 JPH0226395B2 (ja) | 1990-06-08 |
Family
ID=16881247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57228751A Granted JPS59121983A (ja) | 1982-12-28 | 1982-12-28 | 光半導体素子アレイと光フアイバとの光学的結合方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59121983A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63114060U (ja) * | 1987-01-19 | 1988-07-22 | ||
| US6542676B2 (en) * | 2000-11-16 | 2003-04-01 | Schott Glas | Method for locating a large number of fibre ends in a pre-determined position |
| US7027707B2 (en) | 2002-12-03 | 2006-04-11 | Japan Aviation Electronics Industry Limited | Aligning implement for optical fibers and optical fiber array fabricated by use of the aligning implement |
| JP2007212973A (ja) * | 2006-02-13 | 2007-08-23 | Fujikura Ltd | 光ファイバコネクターフェルールおよびこれを用いた接続方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57155517U (ja) * | 1981-03-27 | 1982-09-30 | ||
| JPS57168206A (en) * | 1981-04-10 | 1982-10-16 | Fujitsu Ltd | Photosemiconductor device |
-
1982
- 1982-12-28 JP JP57228751A patent/JPS59121983A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57155517U (ja) * | 1981-03-27 | 1982-09-30 | ||
| JPS57168206A (en) * | 1981-04-10 | 1982-10-16 | Fujitsu Ltd | Photosemiconductor device |
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| EP1217398A3 (de) * | 2000-11-16 | 2004-05-12 | Schott Glas | Verfahren zur Positionierung einer Vielzahl von Glasfaserenden in einer Matrixstruktur |
| US7027707B2 (en) | 2002-12-03 | 2006-04-11 | Japan Aviation Electronics Industry Limited | Aligning implement for optical fibers and optical fiber array fabricated by use of the aligning implement |
| JP2007212973A (ja) * | 2006-02-13 | 2007-08-23 | Fujikura Ltd | 光ファイバコネクターフェルールおよびこれを用いた接続方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0226395B2 (ja) | 1990-06-08 |
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