JPS59130224A - α−ケト酸類の新規な製造法 - Google Patents

α−ケト酸類の新規な製造法

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JPS59130224A
JPS59130224A JP16845583A JP16845583A JPS59130224A JP S59130224 A JPS59130224 A JP S59130224A JP 16845583 A JP16845583 A JP 16845583A JP 16845583 A JP16845583 A JP 16845583A JP S59130224 A JPS59130224 A JP S59130224A
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alkyl
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oxidizing
oxygen
keto
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JP16845583A
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JPS6021970B2 (ja
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Mitsuaki Mukoyama
向山 光昭
Takeshi Takeda
猛 武田
Kuniharu Atsumi
渥美 國治
Kiyoaki Niuchi
似内 清明
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
    • B01J19/122—Incoherent waves

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
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  • Toxicology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はJ−ケト酸類の新規な製造方法に関する。さら
に詳しくは本発明は4級塩を酸化することによりカルボ
ニル化合物を得る新規な製造方法に関するものである。
本発明によって得られる区−ケト酸類は医薬品あるいは
工業薬品としても有用であり。
さらにこれらの中間体としても有用である。
本発明の方法によって区−り)1類を製造する方法はこ
れまで全く知られていない。本発明によシ緩和な条件で
収率よく目的とする献−ケト酸類が得られるため9本発
明を適用することによシ従来合成が困難であったC(−
ケト酸類のば成が可能となったから9本発明は■−ケト
酸類の価値ある製法でめる。
本発明者らは、カルボニル化合物の新規な製造方法につ
いて鋭意研究を重ねた結果、4級塩を酸化することによ
p、カルボニル化合物が得られることを見出し、この知
見に基づき本発明を完成するに至った。
本発明は一般式(11 〔式(り中、 &はアルキル基、アラアルキル基でめシ
、&ハアルキル基アラアルキル基、フェニル基、芳香族
Il素#kまたはアルコキシカルボニルアルキル基であ
り、A+は (&、丸は水素原子又はアルキル基を、aSはアルキル
基をあられす)、X′″はへログ/イオンをあられす〕
で示される4級塩を光照射のもとで酸化すること金特徴
とする一般式(2) (式(2)中のR+、&は前記したと同じ意味をあられ
す)で示されるd−ケト酸類の新規な製造法を提供する
ものである。
本発明において原料として用いる一般式(1)で示され
る4級塩社相尚するα−ハロカルボニル誘導体とピリジ
ン類あるいはN−アルキルα−チオピリドン類よシ公知
の方法により合成することができる。上記4級塩のR+
 、 Raは前記した範囲内で炭素数、構造の如何に特
に制限されるものではなく。
Rs 、 R4は水素原子又はアルキル基であシ、アル
キル基としては0+−Ohが好ましい。a、はアルキル
基でアシ、とくにOI〜Osが好ましい。X″″はプロ
ムイオ/またはヨードイオンでおる。適当な4級塩を下
記に例示する。
本発明方法は下記の反応式で説明される。
(式中R1e k g A+e X−は前記と同じ意味
をあられす) 本発明の方法は不活性溶媒中で上記4級塩を酸化するこ
とにより行われる。さらに本発明の方法は不活性溶媒中
上記4級塩を必要によF) (nBu )4N+I″″
(Buはブチル基をあられす)の存在下、光照射のもと
で酸化することによシ全般的に収率の向上が見られる。
具体的にはX−がブロムイオンの場合には(nElu 
)、 N” I−の共存が好ましく、X−がヨードイオ
ンの場合Kt;j、(nBu)やN+I−が共存しなく
てもよい。本反応は水および/またはアセトニトリル。
アルコール、アセトンなどの有機溶媒中で行なわれ、好
ましくはアセトニトリルあるいは水−アセトニトリルの
混合溶媒が使用される。酸化はどのような方法で行なわ
れてもよいが、酸素あるいは空気の如き酸素含有ガスな
どのガス状の形で酸素を反応系に導入することが好まし
く、酸化剤は反応系に必要以上存在してもよい。反応温
度はとくに制限はないが9通常は常温付近の緩和な条件
で行なわれる。反応は長時間性なってもさしつかえない
が9通常は10分ないし2時間又はそれ以上(数日間)
行なわれる。(nB−)・N”I−の使用量は特に定っ
ていないが、相当する4級塩に対して0.73ないし6
.7モル倍用いることが好ましい。光照射は通常の光反
応の光源を用いて行なわれるが、高圧水銀27グによる
照射が好ましい。4級塩はブロム塩あるいはヨード塩と
して用いられるが、特にヨード塩として用いることが好
ましい。反応混合物は亜硫酸す) 17ウム水溶液中で
処理されたのち、常法によシ生酸物を単離精製すること
ができる。さらに本反応は弱アルカリ性水溶液中でも進
行し、同様に高収率で目的物が得られる。弱アルカリ性
水溶液としては重曹水溶液が好ましい。酸性条件下では
本反応は進行し離い。
次に本発明の方法によって製造されるベーケト酸類のい
くつかの例をあげるが9本発明の方法によって得られる
d−ケト酸類は下記の例に限定されるものではない0 次に本発明を実施例を挙げて具体的に説明する。
実施例1 2−オキソ−n−ドデカン酸エチルの合成噴射管を装備
したパイレックス試験管3011dに田つ化1−エトキ
シーカルボニルウンデシルビリジニクムl mmotと
四つ化テト2− n−ブチル−アンモニウムQ、73m
motをとシ、アセトニトリル2)jで溶解した。噴射
管よシ酸素ガスを通じながら400W高圧水銀灯により
ti分間照射した。照射後9反応液を亜硫酸ナトリウム
飽和水溶液50−に加え。
ついでエーテル30mを加えてヨウ素の色が消失するま
で振とうしたのち、エーテル層を分離した。
水層をさらにエーテルJ−で2回抽出し、エーテル溶液
をあわせ、無水硫酸す) IJウムにより乾燥した。減
圧下に溶媒を留去後残渣を、シリカゲル薄層クロマドグ
2フイーにより分離しく展開溶媒:ベンゼン)、2−オ
キソ−n−ドデカ/酸エチルが831の収率で得られた
。
元素分析(%) ova kb@ O−として計算値 
 0 : 69.38  H: 10.81測定値  
0 : 69.15  n : 10.6!1IR(儒
−1)  2910(8) 、 2840(S) 、 
1755(19) 。
1725(a) 、 1460(m) 、 1255(
8)NMR(ODOA バ♂)0.77〜1.03(m
、3++)。
1 、10〜1.67(m、 19H) 。
2.86(t、2H,J=7Hg)  。
4.55((1,2H,J=7Hz)  。
実施例2 オキソ−フェニルエタン酸エチルの合成噴射管を装備し
たパイレックス試験管58−にヨウ化エトキシカルボニ
ルベンジルビリジニウム1mmotとヨウ化テトラ−n
−ブチルアンモニウム0.75 mmotをとり、アセ
トニトリル四−で溶解した。噴射管よシ酸素ガスを通じ
ながら400W高圧水銀灯によシ甜分間照射した。照射
後1反応液を亜硫酸す) IJウム飽和水溶液に加え、
ついでエーテル30−を加えて、ヨウ素の色が消失する
まで振とうしたのち、エーテル層を分離した。水層をさ
らにエーテル<50m1 )で2回抽出し、エーテル溶
液をあわせ無水硫酸ナトリウムによシ乾燥した。
減圧下に溶媒を留去後、残渣をシリカゲル薄層クロマト
グラフィーに付しく展開溶媒:ベンゼン)。
A−dFソーフェニルエタン酸エチルが86%のJll
率”C得られた。
元素分析(チ) 0+・Hl・0皇として計算値   
o : 67.40  H: 5.66測定値   0
 : 67.26  H: 5.70IR(3−’) 
  3050(W) 、 2962(m) 、 173
3(S) 。
1685(8) 、 1595(m) 、 1448(
m) 。
1!120(8) 、 1300(a)NMR(ODO
6s )(J) 1.17(t、6H,J=7H2)。
4.52(q、2H,J=7nz)  。
7.65〜7.8Ll(m、3H)。
8.01J 〜8.1.5(m、21()実施例6〜7 以下前記実施例1.2に記したものと同じようにして次
表に示す化合物が得られた。
実施例8 オキソフェニルエタン酸エチルの合成 噴射管を装備したパイレックス試験管(30m/)ニ、
ヨウ化1−メチル−2−(α−エトキシカルボニルベン
ジルチオ)−ヒ’)ジニウムimmotトヨウ化テトラ
−n−ブチルアンモニウム5−7  mmotをと9.
アセトニトリル20−で俗解した。噴射管から酸素ガス
を通じなから400 W高圧水銀灯で甜分間光照射した
。照射後1反応液を亜硫酸ナトリウム飽和水溶液に注ぎ
、さらに塩化メチレン30−を加えElつ素の色が消失
するまで振とうした。塩化メチレン層を分離後、水層を
さらに塩化メチレン(30−t )によって2回抽出し
、塩化メチレン溶液をあわせ無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。減圧下に溶媒を留去後、残渣をシリカゲルクロー
/ )グラフィーに付しく展開溶媒:ベンゼン)、オキ
ソフェニルエタン酸エチルが85%の収率で得られた。
実施例9 2−オキソ−n−ドデカン酸エチルの合成噴射管を装備
したパイレックス試験管(30m/)ニ、ヨウ化1−メ
チル−2−(1−エトキシカルボニル−n−ランチシル
チオ)−ヒリシニウム1mm0tトヨウ化テトラ−n−
グナルアンモニウム3.7+nmotをと9.アセトニ
トリル20−で溶解しに爾噴射管から酸素ガスを通じな
がら40LIWi%圧水銀灯により1分間光照射した。
照射後1反応液を亜硫酸飽和水溶液に加え、さらに塩化
メチレン30 mlを加えてヨウ素の色が消失するまで
振とうし、その後塩化メチレン層を分離した。水層をさ
らに塩化メチレン5)−によって2回抽出し、塩化メチ
レン溶液をあわせ無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
減圧下に溶媒を留去俊、残面をシリカゲル薄層クロマト
グンフイーに付し、(展開溶媒:ベンゼン)。
2−オキソ−n−ドデカン酸エデルが58%の収率で侍
られた。
実施例10〜12 以下前記実施例8.νに記したものと同じようにして次
表に示す化合物が相当するチオピリジニウム塩より得ら
れた。
特許出願人 三井東圧化学株式会社 代理人 弁理士 横 1) 晋  1t − 手続補正書(あ入) 昭和左2年4月S日 特許庁長宮茗ネジf1つ夫殿 l 事件の表示 fill 11左f;”p 1自4.’1  vRm 
/l’ +S”t jり−号wprrr”7fγr’f
: /’l 4J%7’f 7)Zブトit’Maイ’
grvf−qt−q) −IQ  −

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 〔式ill中、 fLtはアルキル基、アラアルΦル基
    であり、&はアルキル基アラアルキル基、)、アルキル
    基をあられす)、rはノ10ゲンイオンをあられす〕で
    示される4級塩を光照射のもとで酸化することを特徴と
    する一般式(りられす)で示されるメーケト酸類の新規
    な製造法
JP58168455A 1983-09-14 1983-09-14 α−ケト酸類の新規な製造法 Expired JPS6021970B2 (ja)

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JPS6021970B2 JPS6021970B2 (ja) 1985-05-30

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5499448U (ja) * 1977-12-26 1979-07-13

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5499448U (ja) * 1977-12-26 1979-07-13

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