JPS5914100B2 - 高ニツケルクロム合金への無電解ニツケルメツキ法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は高ニッケル、クロム合金、たとえば高級ステン
レス鋼、カーペンタ−、バスアロイ、インコネル６００
等への密着性のすぐれた無電解ニッケルメッキを施す方
法に関するものである。

一般に高ニッケルクロム合金への直接ニッケルメッキは
通常の電気メッキ法によると密着性が乏５ しく、実用
できない。したがつて密着性を向上させるために行なわ
れている前処理（脱脂、酸洗）→ニッケルストライクメ
ッキ→電気ニッケルメッキの工程が示すように、ニッケ
ルストライクメッキが必要条件であり、さらにその前処
理としての１０脱脂、酸洗による表面活性化がメッキの
密着性を改善する重要なポイントとなる。ところで高ニ
ッケル、クロム合金に密着性のよい無電解ニッケルメッ
キを施す必要がある場合、たとえば無電解ニッケルメッ
キで得られるＮｉ−Ｐ１５合金による硬度を要求する場
合がある。

本発明の方法はこの場合の要求に応えるものであるが、
従来直接無電解メッキによつては前工程の如何にかかわ
らず密着性のあるニッケルメッキを施すことは困難であ
つた。たとえは、前処理として溶剤脱２０脂後、硝フッ
酸による酸洗、活性化を強力に施し、たゞちに無電解メ
ッキを行なつても、密着性のあるニッケルメッキを得る
ことはできない。これは無電解メッキ液中においてニッ
ケルの還元析出に先だつて被処理面の不活性化が進行す
るためと考２５えられる。したがつて無電解ニッケルメ
ッキの前工程として上述の電気メッキ工程におけると同
様ニッケルストライクメッキが必要であり、高ニッケル
、クロム被処理面に適切な事前活性化を行なうことで密
着性のあるニッケルストライクメッキ３０は可能である
。ところが、つゞいて電気ニッケルメッキの場合には通
常の方法で好結果が得られるが、無電解ニッケルメッキ
で仕上げる場合にはニッケルストライク面と無電解ニッ
ケルメッキ面の密着性が悪く、剥離現象を起す。３５本
発明者等はこの密着性を改善するために種々試験検討し
た結果、ストライクニッケル面に対してさらに硝フッ酸
溶液等の強酸で酸処理、活性化を行ない、水洗後たマち
に無電解ニツケルメツキを施すことで、ほマ完全に近い
密着性が得られることを見出した。

また酸処理活性化の代りにニツケルメツキ液中において
陽極とし、比較的低電流密度で電解溶出してもほゾ同様
な効果が得られる。密着性はメツキ仕上げ試料を１８０
０に２つ折りとし、折り曲げ部剥離亀裂のないことを目
安とした。一連のメツキ工程において、ストライクメツ
キにより析出したニツケル面に対してさらに酸処理、活
性化を行なうことは、これまでに実例もなく文献等にも
紹介されていないことであり、これは本発明の新規な処
理であつて、現状では密着性改善作用の機構について明
らかにされるに至つていないが、酸処理によるストライ
クニツケル表面の溶出作用によつて、ミクロ的には素地
合金の部分的顕出等も考えられ、表面に存在する金属の
電位関係が無電解ニツケルメツキの析出と、密着性に好
結果に作用していると考えられる。このように本発明の
方法は前処理（脱脂、酸濁につマいてストライクニツケ
ルメツキ→酸処理活性化→無電解ニツケルメツキの一連
の処理工程を特徴とする高ニツケル、クロム合金の無電
解ニツケルメツキ法である。ニツケルストライクメツキ
浴は代表的にはＮｉｃｔ２２４Ｏ９／Ｔ，ＨｃｔｌＯＯ
〜１２５１１１′ｔを含む。

本発明の方法において、無電解ニツケルメツキの直前に
なされる活性化処理に使用される酸としてはＨｃｔ，Ｈ
Ｆ，およびＨＮＯ３とＨＣｔまたはＨＦの混合物である
。

その濃度は通常２０％以下である。本発明の方法におい
てニツケルストライクメツキ層の活性化のための陽極電
解溶出処理はニツケルメツキ液中で陽極酸化を起さない
で溶出の起る程度の条件で実施する。

本発明の方法に使用される無電解ニツケルメツキ液は代
表的にはＮｌＣｔ２３Ｏｆ！／ｔ１次亜りん酸ナトリウ
ム３０９／ｔ１酢酸ナトリウム１０９／ｔを含みＰＨ５
に調整されたものであるが、諸種の添加剤を含む市販品
がある。

浴は通常９０〜１００゜Ｃに加熱される。次に本発明の
実施例を示す。

実施例−１ インコネル６００（組成、Ｎｉ：７６．０％、Ｃｒ：１
６．０％、Ｆｅ：７．０％）板材（厚さ１ＴｆＬ０を、
トリクレン蒸気脱脂によつて予備脱脂し、水洗後、Ｎａ
ｓＰＯ４４５９／Ｔ，．Ｎａ２ＣＯ３ｌｌ９／Ｔ．Ｎａ
ＯＨ２３９／ｔを含む７『Ｃの電解液中で２．８Ａ／Ｄ
ｍ２（陰極）の電流密度で２分間電解脱脂し、水洗後、
ＨＮＯ３ｌ５％、ＨＦ３７Ｏを含む硝フツ酸混液に５５
゜Ｃで２分間浸して酸処理活性化を行い、ついでＮｉＣ
ｔ２２４Ｏｆ！／Ｔ．ＨＣｔｌＯＯｃｃ／ｔを含むスト
ライクメツキ液中で常温で１０Ａ／Ｄｍ２Ｏ）電流密度
で２分間ストライクメツキを行い、水洗後、再び上記の
酸処理活性化（ＨＮＯ３ｌ５％，ＨＦ３％，５５゜Ｃ）
を３０秒間行い、水洗後直ちに無電解ニツケルメツキを
施した。

無電解ニツケルメツキはカニゼン「ブルーシェーマ一」
を用い、９『Ｃで１０分浸漬した。

この無電解ニツケルメツキによつて４μのニツケルメツ
キ層が形成された。本実施例により無電解ニツケルメツ
キ仕上げした試料のメツキ密着性を１８０メ、２つ折り
曲げ試験により調べた、その結果剥離亀裂は存在せず十
分な密着性を有するものであつた。

これに対し上記と同じ条件で、たゾしニツケルストライ
クメツキ後の酸処理活性化を省略して得た試料は１８０
キ折り曲げ試験により折り曲げ部全面の剥離を生じ、ス
トライクニツケル面と無電解メツキ面が容易に剥離し、
密着性は得られなかつた。

実施例−２ インゴネル６００の代りにハステロイＧ（組成、Ｆｅ：
１９．５７０，．Ｃｒ：２２％、ＭＯ：６．５％、Ｃｕ
：２７０，．Ｎｂ：２％、Ｎｉ：残部）の１闘厚の板材
を用いて同じ条件でたゾし、無電解ニツケルメツキの直
前の活性処理を、陽極電解溶出処理によつて行い、無電
解ニツケルメツキを施し、厚さ４μのメツキ層を得た。

陽極電解溶出処理は、ＮｌＣｔ，２４ＯみＡｌＨＣｌｌ
ＯＯＣＣ／ｔを含む電解液を用い、常温で、０．５Ａ／
Ｄｍ２の電流密度で３分間通電して行つた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 無電解ニッケルメッキの前工程としてニッケルスト
   ライクメッキを施し、これに続いてニッケルストライク
   メッキを施した面の活性化処理を行なうことを特徴とす
   る高ニッケルクロム合金への無電解ニッケルメッキ法。 ２ 該活性化処理が強酸による処理であることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載の無電解ニッケルメッキ
   法。 ３ 該強酸が塩酸、フッ化水素酸、または硝酸と塩酸ま
   たはフッ化水素酸の混合物である特許請求の範囲第２項
   記載の無電解ニッケルメッキ法。 ４ 該活性処理が陽極電解溶出処理であることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載の無電解ニッケルメッキ
   法。