JPS59142822A - ガスの流れを方向づけるための装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般的には、ガス処理に関し、より詳細には、
ガス流１例えば不純物ケ含有する水素流の清浄化に関す
る。

公知の（圧力スイング吸着）ガス重子化システムは、吸
着１段階的減圧、パージ、及び段階的再加圧から成るサ
イクルに従う。ル［かろシステムの場合、水素の回収は
、吸着器の数によって７５％から８５係台になる。また
、水素の回収は、サイクルの終点において吸着器に保存
された水素乞効果的にオリ用してイ［）の吸着容器７杓
加圧し月つパージ川の水素ケ供給することにより最適化
されろ。

他の容器が様々な回収段階にある間に１つの容器が任意
の時間に吸着ン行なっている。他の吸着器がその吸着行
程を完了した時に一度に１つの吸着器が開始′１−るよ
うに、これらのサイクルは時差作動されろ。吸着サイク
ルの終点において、容器は。

４つの行程、すなわち、それそハの吸着器による３つの
独立した圧力均等化行程及び第４吸危器によるパージ行
程において同じ随身］の方向ＶＣ減圧されろ。斯かる減
圧行程中、純粋な水素のみが除去される。この同流方向
減圧行程の後、史に誠比が逆流方向に行なわれ、その結
果、いくらかの不純物が除去さり、ろ。次に、純粋な水
素によって吸着材が低圧でパージされろ。最終的な減圧
行程とパージ行程からのガスが燃料となく）。

更に詳細に説明１−ろと、このＰ、Ｓ、Ａ、システムは
路次のように作％ｉｌ＋　７４″ろ。すなわち、水素７
［］％。

二酸化炭素２０係、−酸化炭素４．係、メタン２係及び
残部の苧素を含むガス７約１２．７〜２１．１Ｋｑ／ａ
ｎ　　（１８０〜３００１）Ｓ１ｇ　）の１王力にて月
９３７、８〜４３．３　’Ｃ（１［Ｊ　Ｏ〜１１０−Ｆ
’　）　ノｒＫ；、Ｗ’、　ｔｃおいて第１吸着容器７
通されろ。これらの条件下で、水素ン除くガスの成分の
全てはこの隘゛器に含まれろ固体粉状材料に強（吸着さ
れろ。この芥器から放出されろ純粋な水素はバルブシス
テム娶通って生成ラインに送られろ。灼時間の後、吸着
材は種々の不純物で飽和され、流入ガスは第２吸着場に
切換えられ、ここで行程が継続されろ。一方。

第一容器は、容器夕１１の中σ）他の茶器にバルブシス
テムを辿して連通され、圧力馨急斂に減ずろことにより
吸危不純物乞排出′１−ろ。ル１かろ類のシステムには
１０個まで゛の茶器が用いられてきており。

従って２０〜４０のニレメン）Ｙ含む相互連結バルブ列
か用いられてきた。

Ｐ’、Ｓ、Ａ、行程は機械的に複雑であり、且つ大規模
なバルブと配管を必要としており、あまりにも経費がか
さむことが分る。

本発明の主な目的は、水素に冨んだガス２清浄化するた
めのより単純化された、より経済的なシステムであって
、他の４′！Ｊｉ類のガスの処理と結びつけて使用でき
且つ作動できるシステムを提供″ｆ７−）ことにある。

基本的に言って、以下に明らかになる如く、この新しい
システムは２吸着、減圧、パージ及び再加圧を制御する
ための、外周吸着容器と結びっ（・て作動′ｆろ回転手
段ケ含む構造体ン糺込んだ制御容器を用いている。その
基本的な而から述べろと、本システムは、以下のガスの
流」１．父方向づけろものである。すなわち、多重容器
間を流れろ１）供給ガス。

１１）生成ガス。

１１１）パージガス、及び ｉｖ）再加圧化ガス である。なお、これらの多重茶器は１例えは、４１、族
ガス以外の供給ガスの成分のための吸着剤を含む４つの
容器Ｖ−１〜Ｖ−ｆＶである。本システム（ま、ａ）１
）〜１■）ガス用の制御１容器ボートにノ制Ｊロ可能で
おり且つ容器Ｖ−１〜Ｖ−ＩＶに連通する容器入ロポー
ト及び容器出ロボートに選択的に連通可能なガス進路馨
画成するロータ手段２含む１７１′ｊ造体を含む制ｉ′
１ｉｌｌ答器、及びｂ）供給ガスがロータ手段から茶器
に連続的に送られ、生成カスが茶器がらロータ手段に連
続的に送られ、パージガスが茶器からロータ手段に連続
的に送られ、Ｊ−１Ｉっ１１ｊ加圧化ガスがロータ手段
から容器に連続的に送られるように、ロータ手段を回転
して、構造体とロータ手段中（Ｄガス通路ン容器に連続
的ｒ連通するだめの手段を含む。

一般的に言って、構造体及びロータ手段は　１）〜１）
ガスのうちの２つの流れ馨’ｄ；ｌ−制御するための通
路ケ含む一次相対回転自在部材、並びに１）〜ｉＶ）ガ
スの（Ｉ！ｊの２つの流れを匍１徊１するための通路を
含む二次相対回転自在部材欠含む。かくして。

−次部材の通路はＩＩ）ガス及びｉｉｉ　）ガスの流れ
を制御し、且つ二次部材の通路は１）ガス及び１いガス
の流ス１．をＩ制御才ろものである。勘か石部材は、相
対回転自在ディスク９例えは、２幻のディスクであって
、一方の対のディスクを工固定され、他方の対のディス
ク（′ｉ固定ディスクと対面摺動係合状態に回転用能で
あろディスクを含む。これらのディスク中の通路は上記
のガス流用の制御容器ポートに連通している。

第１図及び第２図には１例えばＶ−１，Ｖ−１１、Ｖ　
−Ｉｌｌ及びＶ−ＩＶに示されろような多重吸着茶器間
の多重ガス流の、・乱れ父方向付けろための袋路１０が
示されている。

ガス流は以下のカス乞含むのが一般的である。

１）供給ガス。

１１）生成ガス、 ■）パージガス、 １■）再加圧化ガス そして、容器Ｖ−１〜Ｖ−ＩＶは、生ルにガス旬外の供
給ガスの成分に対する吸着利旧を含むのが一般的である
。

一般的に言って１本システムは、１）〜１ｖ）のカスに
対する制御容器ボートに連通τｊ」能なガス通路をＩｉ
囮戎するロータ手段１２生ケ含む描ノ告体１２ケ含′む
Ｍｆｉ制御容器１１７含んで℃・ろ。なお、こね、らの
ボートは、第ろ図及び第４図の例えば相対１６〜１６に
それぞれ示されている。また、これらのボー）ｔ′ｆ、
、、吸着茶器Ｖ−１〜Ｖ−ＩＶに連通１−ろ（例えは符
号１７及び’Ｉ７ａ、１Ｂ及び１８ａ、１９及び１９ａ
、並ひに２０及び２０　；ｉに示さねイ）ような）入口
ボート及び出口ボートに（ロータ手段を経由して）選択
的に連通可能てある。更に、構造体及びロータ手段中の
ガス通路Ｙ　ｕ器Ｖ−１〜Ｖ−ハ１に連続的に連通せし
めろべくロータ手段乞回転するための手段（例えば、ロ
ータシャフト２６を可動する歯車箱２２馨駆動するモー
タ２１ケ含む）が配設されている。これにより以下の作
用か行なわれろ。

■）供給ガスがロータ手段から連続的に茶器に送られろ
。

■１）生成ガスが容器から連続的にロータ手段に送られ
ろ。

■１１）パージガスが容器から連続的にロータ手段に送
られろ。

Ｖｉｉｉ）　Ｍ加圧化ガスがロータ手段から連続的に容
器に送られろ。

これについて説明すると、供給ガスは一般的に不純物馨
含有−ｆる水素に冨んだカスから成り、生成ガスは水素
から成り、パージガスは水素に吸着器からパージされた
不純物乞加えたものから成り、町加圧化ガスは水素から
取ることになる。

更に詳細に説明すると、構造体１２及びロータ手段１２
ジは、図示のようにディスク形であり得る一次相対回転
自在部材６０及びろ１．並びに。

これも図示のようにディスク形であり得ろ二次相対回転
自在部材ろ２及びろ６ケ含む。シャフト２ろが、ディス
ク部材６０及び６２ヶディスク部材６１及びろろに対し
て相対的に回転するためにディスク部拐ろ１及びろろに
１〆続されＬこ状態で示されている。部材ろＯ及びろ１
は符号ろ４において旧市対面相互係合乞も’ｆろのが一
般的であり。

部材ろ２及び３ろは符号ろ５において封正対面相互係合
乞有するのが一般的である。１νｌかろ部材中のガス流
制御通路が第６図の符号３０ａ、３１ａ。

６２見及びろろ且によって概略的に示され−ている。

斯かる通路の特定の通路に連通している茶器中の非回転
流れ制御構造体（例えば配管）か符号ろ６及びろ７に棚
、略的に示されている。そして１４Ｉ「かろ連路の他の
通路に連通している茶器中の回転流れ！ｔｊ制御栴造体
（例えば配管）が符号６８に概略的に示されている。

ディスクろＤ及びろ２は（例えばシャフトに対する多角
形カップリング２有することにより）シャフトに泪って
摺動可能になることができ、またディスクろ０及び６２
を、それぞれディスクろ１及びろ乙の方向に弾力的に付
勢して対面封止馨形成′１−るための手段が配設されて
いる。助かる手段はスラスト軸受ろ９及び４０．並びに
これらのスラスト軸受乞テイスク６０及びろ２に対して
測りするバネン含む。所望するならば、チャンバ４０及
び４１．並びにベロー４２及び４ろ内にガス圧を形成し
て、且つ例えば符号４４及び４５において制御してディ
スク６０及び６２に対する制御可能な圧力作用を行ない
、これにより符号ろ４及びろ５におけろ加圧対面封止の
程度ン制ｔ′ｌｌすることができろ。また、容器の内部
６０を加圧することにより、ガスの大気への漏れ乞防止
することができ且つディスクと外部との間の圧力差を減
らすことができろ。

第９１乃至第１−２　ｃｌについて説明する。以下に述
べろように、ガス流に対する要部が与えられろ。

（１）容器からの生成ガスの流入（吸着）（２）水素の
流入（再加圧化） （３）圧力均等化（供給） （４）　　生成ガス流出 （５）圧力均等化 （６）容器への供給 （７）容器からのパージガス（投棄） （８）パージガス流出 （９１供給ガス（水素に富んだガス）の流入（１０）パ
ージガスの供給 （ＩＩＪ　　パージガスの受入れ θカ　最終的再加圧化 ■　ガス流入 Ｏガス流出 第９三図乃至第１２店図において、ボート１６ン経由す
る流入供給ガス■は、例えば、下部ｕｉ１止テイスク６
６内の適当な配管入口１６１〜１６店（９０度の間隔で
配設）ン経由して下部回転ディスクろ２内の弧状溝５０
に対す４）連通を保持１−ろ。

ディスクろ２が回転−３−ろと、これと糺合っている入
口１６二及び溝５０Ｙ主流入供給ガスを第９１図〜第９
店図の位置（′￥なわち、０°、２２１ｈ０，４５τ及
Ｕ　６７１／２°）にある容器に送る。次に、入口１６
見及び溝５０は流入供給ガスを第１０立〜第１ＱｃＪ図
の容器■−１１に送る。次に、入口１ろ只及び満５０は
流入供給ガスを第１１１図〜第１１休図の容器Ｖ　−［
１１に送る。そして入口１６生及び溝５０は流入供給ガ
スを第１２ａ図〜第１２ｄ図の容器Ｖ−ＩＶに送る。同
様にして、符号１５におけろ「パージカス流出」■ポー
トハ、例えば、下部静止ディスクろろにおいて（９０度
間隔に）配設され且つ流出ボート１５に連通している適
半な配管出口１５ａ〜１５ｄ−ｉ経由して、下部回転デ
ィスクろ２内の弧状溝５１に対する連通乞保持する。か
くして、下部ディスクか回転すると、こ牙］。

ど組合っている出口１５ａ及び溝５１は容器■−１１１
からパージガスを第１２　ｄ図、第９ａ図、第９１）図
、及び第９Ｃ図の位置における流出ボート１５に送る。

次に、出口ｉ５ｂ及び渭５１は容器第１０ｗ図及び第１
０ｓ図の位置におけろ流出ボート１５に送る。出口１５
ｑ及び溝５１は容器■−■からパージガス６第１［ｌｄ
図、ＴＩＮ　１１　ａ　図、第１１に図、及び第１１ｃ
図の位置におけろ流出ボートに送る。そして、出口１５
旦及び溝５１は容器Ｖ−［がらパージガスを第１０（１
図、第１１正図、第１１Ｌ２図、及び第１１兄図のｆ４
置におけろボート１５に送る。

更に、第９八図〜第１２秋図で９１．ボート１４馨経由
する生成ガス流出■が１例えば、」二部静ＩＪ−ティス
ク６１において（９ｏ０の間隔ＶＣ）配設され且つ出口
ボート１４に連通している適尚な配管出口１４吏〜’＋
　４ｄｙ経由して、上部回転ディスクろ０内の弧状溝５
２に対する連通ケ保持する。かくして、上部ディスクが
回転すると、これと糾合っている出口１４ぞ及び溝５２
（ま容器Ｖ−１から生成ガスを第９ａ、図〜第９彷図の
位置におけろ生成ガス流出ボート１４に送る。次に、出
口１４１）及び溝５２は容器Ｖ−１１から第１０ａ図〜
第１゜隻図の位置におけろ流出ボート１４に送る。出口
１４ｃ及び溝５２が次に容ａ　Ｖ　−＋＋＋から生成ガ
ス乞第１１ａ図〜第１１ｄ図の位置における流出ボート
１４に送る。そして最後に、出口１４ｄ及び満５２が容
器Ｖ−ＩＶから生成ガス乞第１２ａ図〜第１２凹図の位
置におけろ流出ボート１４に送る。

同様にして、第９ａ図〜第９ｄ図では、ボート１６を経
由１−る再加圧化流入供給■は１例えば。

上部静止ディスク６１内の適肖な配管入口１６匹。

１（５ｂ、１（５ｃ、１（５ｄ及び１（５ｅ、１（５ｆ
。

１６ｇ及び１６ｈ’４経白して、上部回転ディスク１Ｒ
■−■１ト響■■−■■−訃 乙０内σ）弧状？！ｉ５４，５５及び５６に対する可変
連通状態にある。ディスク６０が回転１−ろと、入口１
６ａ及び溝５４が圧力均等化ガスを第９ａ図における容
器Ｖ　−１１に送り５第９ｂ図では、入口１６ａがパー
ジガスヲ容器Ｖ　−ＩＩＩに送り且つ入口１６Ｃが内加
圧化ガスヲ容器Ｖ　−ＩＩに送り、第９Ｃ図及び第９ｄ
図では、入口１６ｅか再加圧化ガス暑容器Ｖ−１に送り
且つ入口１６ａか加圧均等化ガス乞容器Ｖ−Ｉｎに送る
。

乞容器Ｖ−１に送り、第１Ｑｂ図では、入口１６居カハ
ージガスを容器Ｖ　−ＩＶ　Ｋ送り旧っ入口１６五が再
加圧化ガスを容器Ｖ　−＋＋＋に送り、第１０ｃ図及び
第１０生図では、入口１（５ｆが再加圧化ガス乞容器Ｖ
　−Ｉｌｌに送り且つ入口１６几が加圧均等化ガス暑容
器Ｖ−ＩＶに送ろ。こ」ｔらの関係は、図示のように、
第１１九〜第１１彷図並びに第１２三〜第１２彷図にお
いて繰返されろ。

ボート１６〜１６と入口及び出口１３ａ〜１６吠・１４
μ〜１４俵・１５史〜１５吠、及び１６忌〜１６ユとの
間乞連通ぜしめるのに要する固定配管は、上記に、ある
いは第５図〜第８スに示したように、符号乙７及びろ８
で断路的に示されている。

ディスクは２０分毎に１〜２０回転の用変速串にて回転
させるのが一般的である。

容器Ｉ〜１■に好適な吸篇器１１ユ公知であイ）。

【図面の簡単な説明】

第１図（工率発明？含む装置ケ示１−路側面図、第２図
は本発明を含む類似の装置馨示す略平面図。 第６図（まガス流を導ひくロータ手段６含む制徊ｊ容器
の詳細ケ示す側断面図、第４図は第ろ図の線４−４につ
いての平面図、第５図（工第６図のｉｖｉ！５−５につ
いての断面図、第６図は第６図の線６−６についての断
面図、第７図（・工第ろ図の線７−７についての断面図
、第８図は線８−８についての断乃り 面図、第９ａ図〆ｌ第９ｄ・図はロータの回転の第１四
分サイクル中の上部ロータ位置と下部ロータ位置の略図
、第１Ｑａ図乃至第１Ｑｄ図Ｖエロータの回転の第２四
分サイクル中の」二部ロータ位置と下部ロータ位置の１
略図、第１１２１図乃至第１１ｄ図はロータの回転の第
６四分サイクル中の上部ロータ位置と下部ロータ位１６
の略図、第１２ａ図乃至第１２ｄ１ｇｋエロータの回転
の第４四分ザイクル中の上部ロータ位置と下部ロータ位
置の略図。 １０・・・装置、　　１１・・・制御容器、　　１２・
・・構造体、　　１２ａ・・・ローフ手段、　　　１７
，１３．１９゜２０・・・容器入口ポート、　　１７ａ
、１８ａ、１９ａ、２０ａ・・・容器出口ポート％　　
２６・・・ロータシャ７）、　　Ｖ−１，Ｖ−１，Ｖ−
１１１＋Ｖ　−ＩＶ−容器。 特許出願人　　力イネテイソクス・テクノロジー・イン
ターナショナル−コーポレーション（外４名） ｊへＪ。。 ■　　　　　　　　　　　■ Ａｒｍ　、ｌｃ　− ■　　　　　　　　　　■ Ａｃｓ、　ｌ０ｃ− ■ ｔｃ、　、　ＩＯｄ。 ■　　　　　　　　　　　■ ｉ、ｃ、　、　Ｊｉｏ　。 ■ 云ｃ、−Ｉｌｌ、。 ■　　　　　　　　　■ ア―、Ｉｆｔ。 ■　　　　　　　　　　　■ ■ ■ ■ ■ ｊ、ｃ、、　ｌ１ｔｌ、 手　　続　　補　　正　　書　　　　　　　　　１゜昭
和５９年４月λに日 ２、発明の名称 ガスの流れを方向づけるための装置 ６、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 住所 名　称　　　カイネティノクス・テクノロジー・インタ
ーナショナル・コーポレーション４、代理人 ５、補正の対象 欄 本願特許請求の範囲の記・敗を次の一姐りに訂「。 「１）生成ガス頃外の供給ガスの成分に対する吸着材料
を含む多重容器＼／−１，Ｖ−ｎ。 ＼７−　Ｉｌｌ及びＶ−ＩＶ間で以下のガス、すなわち
、１）供給ガス、 １１）生成ガス、 １１１）パージガス、 ｉｖｌ　　再υ日王化ガス の流れを方向づけるためのｉｔｔにおいて、ａ）＠ｉ）
〜１■）ガス用のｆｌｉｌＪ　（ａ各藩ボートに・嚇通
町・指であり目、つ該容器Ｖ−１〜Ｖ−１ｖに連通する
８器入口ポーｌ−及び各型出ロポートに選択的に連【由
０Ｔ能なガス通路を両［戊するロータ手段を含む溝へ体
を含む１ｊｌｌ　ａｌｌ容器ム　。 ｂ）洪恰ガスが該ロータ手段から６亥容器に連続ｌ灼に
送られ、生成ガスが咳容器から該ロータ手段に連続的に
送られ、パージガスが核容器から該ロータ手段に連続的
に送られ、且つ再加圧化ガスがｉ／　ｏ−夕手段から該
ｇ器に連続的に送られるように、核ロータ手段を軸のま
わりに回転して、核構造体とロータ手段中の該ガス通路
を該容器に連続的に連岨するため手段とを含み、 こと全特徴とするガス００′ｌれを方向づけるための装
置。 圀咳−次部材が相対回転自在ディスクを含むことを特徴
とする特許請求の範１引第１１頁に記載の装置。 ３２　Ｂ二次部材が相対回転自任ディスクを含むことを
特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の装置。 と咳−成部材が対面摺動係合状態にある固定ディスクと
回転ディスクを含み、咳ディスク中の通［烙が核：：　
ｌ　　ガス及びｉｖ）ガス用の制飢容器ポートに常に連
通していることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記
載の装置。 上咳ディスク中の通路が核容器■−■〜Ｖ−ＩＶに連通
している容器入口ポート及び容器出口ボートに選択的に
連通して−ることを特徴とする特許請求の範囲第４項に
記載の装置。 ６＋ｉ３−一次部材が対面摺動係合状態にある第１同定
デイスク及び第１回転ディスクを含み、該第１ディスク
中の通路が該１）ガス及びユ　ガス用の咳制＠容器ポー
トに常に連通し：核二次部材が対面摺・助係令状蝶にあ
る第２固定デイスク及び第２回転ディスクを含み、該第
２デイスク中の通路が核」　ガス及び至ガス用の咳制薗
容器ボートに常に連通し、核ロータ手段を回転するだめ
の核手段が該第１回転ディスク及び第２回転ディスクを
同時に回転するためにこれらのディスクに連結されたη
Ｋ　ａ　４＋置を含むことを特徴とする特許請求の俤囲
第１項に記載の装置。 Ｌ核ディスクの加圧対面封止保合を制（財）するだめの
手段を含むことを特徴とする特許請求の範囲第６項に記
載の装置。 ８）該通路が、該第１固定デイスク及び核＠２固定ディ
スクによって画成された回転軸の１刈りの四分円の位置
においてこれらのディスクに連通することを特徴とする
特許請求の範囲第６項に記載の装置。 Ｌ該第１回転ディスク中の該通路が該軸の回りに延びた
２つの弧状溝を含むことを特徴とする特許請求の範囲第
８　＃ｉに記載の装置。 −耳■該第２回曵ディスク中の該通路が該軸の回りに延
びた４つの弧状溝を含み、該第１スクは各々該固定ディ
スクと組合わされた回の範囲＄９＠に記載の装置。 １１）該供給ガスが不純物を含有する水素から成り、 該生成ガスが清浄化された水素から成ることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項乃至第１０頃のいずれかに記載
の装置。」 ２、本願明細書において次のｄりに訂正。 頁　行　訂正前　訂正後 ９　　１０　　　　　ｉｉ＋ガス及び　　　　１）ガス
及び１１１）ガス　　　　　　ｌ１１）ガスｉｔ　　　
１１　　　　　ｉ＋ガス及び　　　　ｉｉｌガス及びｉ
ｖｌガスｉｖｌガス １２　　３　　３０及び３１　　３２及び３６〃　　　
５　　６２及び６６　　　６０及び６１１５　　６　　
　にある容器に送る　にて容器Ｖ−に送る 貞　行　訂正ｉ″ｌ■　　訂ｌＥ陵 １５　４−５　　　　第１０ｄ図の容　　第１０ｄ図の
位置に器Ｖ−１１で容器Ｖ−１１ ／／　　　６−７　　　、磨１１ｄ図つ容　　第１１ｄ
図の立直に器Ｖ−１１１テ容ｇ＝ｖ−１１１ 〃　８−９　　　第１２ｄ図の容　　第１２ｄ図の位置
に器Ｖ　−ＩＶ　　　　　　　テｇ器Ｖ　−ＩＶ／／　
　１５−１６　　　これと組合って　　　出口１５二及
び郡いる出口１５旦　　　と組合っている溝及び溝５１
　　　　５１ 〃　　１８　　　第９ｃ図の位置　　第９ｃ図の位置に
でにおける １６　　１　　　第１０ｃ図つ立　　第１０ｓ図の位置
にて区餡げる ／／　　１５−１６　　　これと和合って　　出口１４
巴及びこれいる出口１４二　　と岨合っている溝 及び溝５２　　　５２ 頁　行　訂正前　訂ＩＥ後 １６　１７　　　第９亘図の位　　　第９亘図のＩ立首
にて置における 〃　１９〜２０　第１町止図の　　第１ｏｄ図の位置位
置における　　　にて １７　　２　　　第１１ｄ図の　　　第１１ｄ図の位置
位置にふ村る　　　にて 〃　　　５　　　第１２亘図の　　　第１２生図の位置
位置における　　　にて ／／　　１６−１４　　　第９ａ図にお　　　第９０図
の位置にてける １８１３　　断路的　　　　概括的 以上

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）生成ガスり外の供給ガスの成分に対する吸着材相ケ
   含む多重容器Ｖ−１、Ｖ−１１、Ｖ−１１１及びＶ　−
   ＩＶ間で以下のガス、ｔなわち。 １）供給ガス。 １１）生成ガス。 ！ｉ　）パージガス。 ｉｖ）町加圧化ガス の流れぞ方［餌３）るための装置゛において。 ａ）該１）・〜１■）ガス用の制御容器ボートに連通可
   能であり且つ該容器Ｖ−］〜Ｖ−ＩＶＫ連通′ｆろ容器
   入口ボート及び容器出口ポートに選択的に連通可能なガ
   ス通路を画成するロータ手段７含む構造体を含む制御容
   器、及び ｂ）供給ガスが該ロータ手段から該容器に連続的に送ら
   れ、生成ガスが該容器から該ロータ手段に連続的に送ら
   れ、パージガスが該容器から該ロータ手段に連続的に送
   られ１月っＰ１加圧化ガスが該ロータ手段から該容器に
   連続的に送られろように、該ロータ手段２同転、して、
   該１’：１ｉ遺体とロータ手段中の該ガス通路を該茶器
   に連続的に連通ずるため手段 を含むことケ特徴とするガスの流牙１？方向づけろため
   の装置。 ２）該構造体及びロータ手段が該１）〜１■）ガスのう
   ち２つの流れビ制衝１するためσ）通路馨含む一次相対
   回転自在部相、並びに該１）〜ｉＶ）ガスの他の２つの
   流れ７制ｍ＋′ｆるための辿路娶含む二次相対回転自在
   部材を含むことを特徴とする特許請求の軸囲第１項に記
   載の装ｆ５゜ ろ）該−次部材の該通路が該１１）ガス及びｉＶ）ガス
   の流れ？制御￥ろことケ特徴とする特許請求の範囲第２
   項に記載の戴置。 ４）該二次部材の該通路が該１）ガス及び１１１）カス
   の流れを制御′１−ることを判もｙと１−ろ特許請求の
   範囲第６項に記載の装置。 ５）該−次部材が相対回転自在ティスフ２含むこと馨特
   徴とする特許請求の範囲第２項乃至第４項のいずれかに
   記載の装動。 ６）該二次部材が相対回転自在テイスクビ含むことケ特
   徴とする４モ許稍求の範囲第２項乃至第５項のいずれか
   に言己小兄の装置６゛。 ７）該−次部拐が対面摺動係合状態にあろ固定ディスク
   と回転ディスクを含み、該ディスク中の通路か該１１）
   カス及び１いガス用のＷｔｌＪ　ｆｌｌ　容器ポートに
   常に連通していることケ特徴とする特許請求の範囲第６
   項に記載の装に、。 ８）該ディスク中の通路が該容器Ｖ−１〜■−ＩＶに連
   通している容器入口ボート及び容器出口ボートに選択的
   に連通していることを特徴とする特許請求の範囲第７項
   に記載θ）装置。 ９）該−次部月が対面摺動係合状態にあろ第１固定デイ
   スク及び第１回転ティスフ２含み、該第１デイスク中の
   通路が該１１）ガス及び１■）ガス用の該制御′８器ボ
   ートに常に連通し；該二次部材が対面摺動係合状態−に
   ある第２固定テイスク及び第２回転テイスクケ含み、該
   第２デイスク中の通路が該１）ガス及び１１１）ガス用
   の該別ｔ１．ｌ　ｇ　’ｄベボートに常に連通し、該ロ
   ータ手、段２回転するための該手段が該第１回転ディス
   ク及び第２回転ディスクを同時に回転するためにこれら
   のディスクに沖結さノまた、駆゛動装置を含むことケ特
   徴とてろ’ｌ’Ｊ’　＊Ｆ　ｒｔｊｔ求の範囲第４項に
   記載の装置。 １０）該ディスクの加圧対面旧市係合”／！：’　１ｉ
   ｌｊ　（ｉｌｌｌ　ｉ−ろための手段７含むことを特徴
   とする特♂ｌ’　１．ｉ’−＋求の範囲第９項に記載の
   装り。 １１）該通路が、該第１固定デイスク及び該第２固定テ
   イスクによって画成された回転ｆ！Ｉｔの回りの四分円
   の位置においてこれらのディスクに連ｊ１（１すること
   を特徴とする特許請求の範囲第９項に６■１載の装ｈ０ １２）該第１回転ディスク中の該１０１路力’＝　５７
   　ｉ！Ｊ１１の回り！ｌ′Ｉ７延びた２つの弧状溝７含
   むこと？特徴とずろ特許請求の範囲第１１項に記載の装
   ｊｉ″ｊ。 １３）該第２回転ディスク中の該′Ｊ４１１路か該仙１
   の回りに延びた４つの弧状溝を含むこと馨特徴と１−ろ
   特許請求の範囲第１２項に記載の装に１゜１４）該供給
   ガスが不純物乞含有する水素から成り、 該生成ガスが清浄化された水素から成ること？特徴と−
   Ｊ−７−）特許請求の範囲第１項乃至第１６項のいずれ
   かに記載の装置。