JPS59150400A - 螢光スクリ−ン及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、基板にフ゛アイ・々−ル−ト（光学繊維束
板）を用いその面上に螢光体層を形成した螢光スクリー
ン及びその製造方法の改良に関する。

〔発明の技術的背景及び問題点〕

一般に螢光スクリーンを内蔵するイメージ管例えばＸ線
螢光増倍管は、医療用を主に工業用非破壊検査などＸ線
工業テレビを併用して広範囲に応用されている。この種
のＸ線螢光増倍管は第１図に示すように構成され、主と
してガラス、一部は金属薄板よりなる真空外囲器１の入
力側内部に入力面考が配設されている。一方、真空外囲
器１の出力側内部には、陽極３が配設されると共に出力
面ｆが設けられ、更に真空外囲器１内部の側壁に沿って
集束電極５が配設されている。前記入力面互は球面状の
Ａ７からなる基板６の出力側（凹面側）にＣ８Ｉ／Ｎａ
の入力螢光体層７が形成され、この入力螢光体層７の上
に更に光電面８が形成されている。又、出力面ｆは基板
９に出力螢光体層１０を形成してなっている。そして動
作時には、Ｘ線（図示せず）は被写体（図示せず）を通
過する際、被写体のＸ線透過率によって変調されて、入
力螢光体層７を励起する。入力螢光体層７の励起光は入
力螢光体層７の内面に形成されている光電面８にエネル
ギーを与え、光電面８より電子を放出させる。この電子
は陽極３、集束電極５で構成される電子レンズ作用によ
り出力螢光体層１０上に加速集束し、出力螢光体層１０
を発光させる。

このような過程で電子ｐ増倍が行なわれ、入力螢光体層
７で得られる光像よシ格段に明るい像が出力螢光体層１
０に得られ、この光像によシ被写体の観察を容易に行な
うことができる。

ところで、上記のようａＸ線螢光増倍管の出力螢光体層
１０の保持基板９としてファイ・クーグレートを用いる
例は、下記のように幾つか開示されている。先ず、特開
昭５３−２４７７０号公報に開示されたように、ファイ
バ−グレートに出力螢光体層を形成してコントラストを
改善する提案がある。この提案によると、第２図に示す
ようにファイバーｆし一ト１１は芯材１０１、被覆材１
０２及び吸収体１０３からなる単繊維が多数集って構成
され、芯材１０１、被覆材１０２の屈折率の相違を利用
して、出力螢光体層の発光を制限されたある範囲内にて
反射を繰シ返し光出力面１０５に取出し、ファイバ−グ
レート１１内の側方光散乱を防止することにより、コン
トラスト向上を図るものである。

”ことで、ファイバープレート１ノの芯材１０１の屈折
率をｎｌ、被覆材１θ２の屈折率をｎ２とし、真空の屈
折率をｎ。とする。又、ファイバープレート１１への光
入射角をθ。とすると、θ０は次の式で表わされる。

Ｄｏｓｆｎｌ！ｌ。−ｒ１７ｇ　　　　（一般ＶＣｎｌ
　＞　ｎｔ）更に、芯材１０ノと被覆材１０２の境界面
に達した光の入射角をφ１とする。このような関係式の
中で、ファイバープレート１１に入射した光が光入射面
１０４を経て芯材１０１と被覆材１０２の境界面で全反
射角（臨界角）φ。を満たすように入射角φ、がなった
場合、ファイバーグレート１１内の光は全反射をしなが
らファイノぐ−プレート１１の単繊維内を伝帳し１１反
射面である光出力面１０５に伝わる。

又、ファイバーグレート１１には各単繊維の周囲に吸収
体１０３を設け、隣接する繊維内に光の入射するのを防
止する種類のものが多い。

そして、第３図（、）に示すように、ファイバーグレー
ト１１内に螢光体粒子２０１とメタルバック層２０２か
らなる出力螢光体層１０を形成した場合の光の伝達は、
−上記の説明のような理論的な考察と若干相違し、光入
射面１０４即ち螢光体層１θとの境界面での光学的な接
触度合によって、全反射角φ。を満たさない光が７アイ
・々−プレート１１内に入射することがあり得る。

このような光は同図に示すように、光が入射した単繊維
内にはとどまらず、被覆材１０２に侵入し、光強度が強
い場合には更に吸収体１０３をも突き抜は相接する単繊
維内にも入射してしまう。このとき、ファイバーグレー
ト１１は本・来の原理的な機能を充分発揮できず、光出
力面１０５における出力光像ぽ鮮鋭度の悪い低コントラ
ストの像となる。

更に改良したファイバーグレートに螢光体層を、形成す
る他の提案として実公昭４０−１９８５５号公報、ＵＳ
Ｐ４，２６４，４０８号明細書に開示された技術がある
。これらは第３図（ｂ）に示すように、光入射面１０４
に１、凹み２０３を設け、この凹み２０３中に螢光体粒
子２０１を埋め込むという内容であり、これは螢光体粒
子２０１とファイバ−グレート特に芯材１０１、被覆材
１０２の接触度が大きいため、コントラストが悪い。

まとめると、上記提案はいずれも螢光体層１０の発光を
ファイバープレート１１内に入射させるために、特に光
入射面１０４の形状や光入射時の入射角度θ。に注目し
、できるだけ単繊維内に入射した光は、その単繊維内に
相当する光出力面１θ５から光を取出し、出力光像を得
ようとするものである。

ところがファイバープレート１１は、第２図、第３図に
示されているように、多数の単繊維から々す、各単繊維
は芯材１０１、被覆材１０２及び吸収体１０３から形成
されており、ガラス系の場合、添加成分の配合によって
屈折率を変えたり着色したりしている。即ち、第３図か
ら明らかなようにファイバープレート１ノへの入射光は
、単繊維内のみの反射によって光出力面１０５に到達す
るのではなく、隣接する複数の単繊維内にも入射するこ
とがある。従って、１つの単繊維から取出される光は、
その単繊維内のみを通過してきた行路の短い強い光と、
他の単繊維内から侵入してきた行路の長い微弱な光の和
として考えることができる。このことは第４図（ａ）　
ｔ　（ｂ）に示すように、光の進路を矢印の線で表わす
と、ファイバ−グレート１ノが完全な横方向への光散乱
を防止することが難しく、特に１ｆｉ以下の面欠点の非
常に少ないファイバープレートを実用化する際には（ｔ
ｉ≦１闇。

ｔ２　）　１　ｔａｎ　）、　７アイノぐ一グレート１
１内部の全反射回数が少ないまま、光強度の大きい光が
他の単繊維内に侵入し、その部分のパックグランド光を
上げてしまう。又、その光出力面１θ５における距離は
短いため（ｄｉ　＜、　ａ、　）、ファイ・ぐ−グレー
ト１１全体にその現象が表われ、ファイバープレート１
１を使用しているにも拘らず、低コントラストの出力光
像となってしまう欠点がある。ファイバーグレードの芯
材１０ノは１つの画素を構成するが、今までは芯材１０
１の光出力面１０５から放射される光の内容を説明して
きたが、芯材１０１とそれ以外の部分の光出力面１０５
から放射される光を比較してみると、芯材１０１画上か
らは明るくコントラストの良い像が得られ、それ以外の
面上からは暗くコントラストの悪い散乱光が放射される
。ファイバープレート１１の板厚が１澗以下となると後
者の面上からは明るくコントラストの悪い散乱光が放射
され、芯材１０１面上から得られる像の周縁部を取り囲
み、相互の影響によってここでも低コントラストの出力
光像となってしまう。

〔発明の目的〕

この発明の目的は、螢光体層を形成する基板に改良され
たファイバーグレートラ用いて、コントラストの優れた
高品位の画像が得られる螢光スクリーン及びその製造方
法を提供することである。

〔発明の概要〕

この発明は、ファイバーグレートの少なくとも光出力面
に、少なくとも芯材部の大部分の面を除いて光遮断吸収
膜を形成し、少なくとも芯材部分以外から光が入射又は
出力されることのないようにしてコントラストを大幅に
向上させた螢光スクリーン及びその製造方法である。

〔発明の実施例〕

出力螢光体層を有する螢光スクリーンの基板としてファ
イバーグレートを使用し、前述の如きイメージ管に適用
する場合には、いずれの例においてもコントラストの向
上をそれぞれの構成の差によるが主目的としている。し
かし一般に、ファイバープレートには製造上に起因する
光学的な欠陥が存在し、例えば黒点、繊維の失透、繊維
束の配列の乱れ等があり、画像の面欠点となる。この光
学的欠陥は、ファイバーグレ−トを薄く研磨することに
よシ改善され、薄くなればなるほどファイバーグレート
の光透過率は向上し、螢光体層の発光を有効に生かし高
輝度々画像が得られる２つの利点かある。その反面、最
大の目的であるコントラストの向上は前述の如く望めず
、高価なファイバーグレートを用いた意味を失なってし
まう。

そこで、この発明の螢光スクリーンは第５図（ａ）に示
すように構成され、従来例と同一箇所は同一符号を付す
ことにすると、ファイバープレート１１の光出力面１θ
５の表面には、少なくとも芯材１０ノの表面を除いて、
光を通過させることのない光遮断吸収膜３０ノが形成さ
れている。この光遮断吸収膜３０１は、通常金属の蒸着
により形成されるため、用いた材料の固有な色を呈して
いる。より効果的には、光遮断吸収膜３０ノが光吸収膜
となる黒色に近い方が、この部位に到達した微弱な光は
全て吸収されるので、光出力面１０５にて反射されるこ
とがなくなり、コントラスト低下を引き起さない。この
ように光遮断吸収膜３０１は、形成する材料の色に応じ
て光遮断と光吸収との両機能を有し、被覆材１０２又は
吸収体１０３の光出力面１０５より、この面における光
のファイ／ぐ−プレート１１内面への戻り反射及び外部
への放射をｔ’′ｔＬｔｘ完全に近く防ぐことができる
。この他に、全１蒸着膜から光遮断吸収膜３θ１が形成
される場合、金属色の反射率へ高い膜ともなりうる７５
：、光反射と光遮断の機能を有することになり、これは
光出力面１０５での戻シ反射の低減に役立たないのでな
るべく避けた方が良い。

この事実は、ファイバーグレート１１の単繊維について
輝度に関して検討してみると、単繊維上の光出力面１０
５に相当する面から外部へ放射される光は、芯材１０ノ
の光出力面１０５からのみであるため、光の量即ち７ア
イ・々−グレート１１を通過した螢光体の発光量、輝度
はほぼ被覆材１０２０部分だけ低下することにカる。単
に光出力面１０５上の表面積を同心球の単繊維として比
較すると、芯材１０１の直径を１０μｍ、被覆材１０２
の直径を１３μｍとして、芯材１０１以外に光遮断吸収
膜３０１を設けると、その表面積の差は５４．２μ−で
あり、光遮断吸収膜３０１を設は寿い場合よｐ　４０．
８チ減ることになる。これは、ファイバープレート１１
内の光が、外部へ放射できうる面積が、この例ではほぼ
６割になってしまうことを示している。但し、被覆材１
０２の周囲には吸収体１０３があるため、ファイバーグ
レート１１内の光の均一性は仮定できない故に６割よシ
若干増加することは考えられることはあるにせよ、外部
へ取出し得る面積が、光遮断吸収膜３０１を設けること
によって減少するので、結果的に輝度低下をもたらす。

この輝度低下を補償する方法としては、光遮断吸収膜３
０１を設けるとファイバープレートｌｌ自体の板厚を薄
くすることが可能となシ、ファイバープレート１ノ素材
の光透過率を上昇させる方法がある。尚、ファイバーグ
レート１１の素材分析例を示すと下表のようになシ、こ
の他、添加物を入れて着色している。

又、他の実施例としては、第５図（ｂ）に示すように、
光遮断吸収膜３０ノを光入射面１０４上の少なくとも芯
材１０１の表面部を除いたファイバープレート１１の表
面上にも形成することができる。この場合、光遮断吸収
膜３０１が光入射面１θ４上にも形成されるため、この
部分に到達する螢光体層１０からの発光は吸収体１０３
には全く入射せずゝ、被覆材１０２にも殆ど入射しない
。即ち、両者からファイノクープレ−トノ１内に入射す
る光は遮断され、芯材１０１に入射するのを防止できる
。そして、ファイバープレート１ノ内にて拡がる光は、
前述の如く光出力面１０５上の光遮断吸収膜３０１によ
って微弱な光は外部へ放射されなくなる。

又、ファイバープレート１１上に形成される光遮断吸収
膜３θ１は上記の２つの実施例の他に、ファイバープレ
ー１・１１の光入射面１０４上のみに形成してもよいが
、入射する螢光体層１０の光を少なくとも芯材１０１に
限るもので、ファイバープレート１１内を拡がる光のう
ち、単繊維内のみの光と他の単繊維内からの光を遮断吸
収することができない不利がある。しかし、光遮断吸収
膜３０１を形成しない従来のファイバープレートを用い
る螢光スクリーンに対して、コントラスト向上の効果が
ある。

尚、光入射面１０４上に形成される光遮断吸収膜３０１
は、螢光体層１０が形成される面ともなり得るので、前
述と同様のアルミニウム、ニッケル、クロム等の安定な
金属の蒸着膜が好ましく、その膜厚は螢光体層１θを形
成するのに支障とならない範囲であシ、且つ光遮断吸収
の効果を有する膜厚以上が必要であり、２００Ｘ〜１μ
ｍが最適である。反面、金属蒸着膜の他に、光遮断吸収
の機能を有し、且つ螢光体層形成の主に化学薬品、熱処
理に耐え得る拐料を用いて上記螢光スクリーンを形成で
きることは君う迄もない。

さて、光遮断吸収膜３０１の形成は、次に記述する各工
程の製造方法によシ行なわれる。

■　先ず、ファイバープレート１１の表面を清浄にし、
光出力面１０５となる片面に光感応樹脂の薄層を全面均
一に塗布する。

■　次に、上記光感応樹脂を塗布した面の反対の面から
、タングステンランプ光等の光を照射してファイバーグ
レート１ノの芯材１θ１の上面部に位置する光感応樹脂
を光化学的に変化させる。このとき、樹脂の種類、厚さ
、塗膜条件゛、更には照射光の光強度等の条件によって
、芯材１０１に近い光透過率を有する被覆材１０２の上
面部に位置する樹脂にも相当量の照射光が到達し、樹脂
の光化学的変化を生ぜしめる可能性がある。ここにあげ
た複数の条件を厳しく選択することによって、次の樹脂
の溶解の工程で、芯材１０ノ同様固着しないようにする
ことができる。

■　次に、ファイバープレート１１内を通過した照射光
によって、感光された塗膜樹脂以外の部分（吸収体１０
３上、被覆材１０２上の殆ど）の樹脂を溶剤によって溶
出させ、ファイツク−クレート１１の光出力面１０５を
表面に露出させる。

■　次に、この光出力面１０５上に、真空蒸着法によっ
てアルミニウム、ニッケル、クロム等の安定金属を１μ
ｍを限度として膜形成し、光遮断吸収膜３０１とする。

■　次に、芯材１０ノ、被覆材１０２の一部の上面に固
着している樹脂を全て取除く。

■　次に、上記光遮断吸収膜３０１が形成されたファイ
バープレート１１の反対面上に、螢光体粒子２０１を懸
濁液中の沈降被着や強制遠心法被着によって、所望の厚
さに形成し、最後にメタルバック層２０２を形成して螢
光体層１０とする。

、以上により、光出力面１θ５上に光遮断吸収膜３０１
を有する螢光ス゛クリーンが得られるが、前述ρ他の実
施例に示されているように、ファイバー　グレート１１
の両面あるいは光入射面１０４上に同様の光遮断吸収膜
３０１を設ける場合には、上記製造方法の工程■〜■の
組合せ乃至は小変更によって、前述の如き光遮断吸収膜
３０１を有する螢光スクリーンを得ることができる。

尚、上記実施例では光遮断吸収膜３０１は、軽金属の蒸
着膜としたが、光の吸収効果を高めるために、黒化蒸着
法を採用しても良い。又、上記■の工程において樹脂と
一緒に溶は出すものでなく、且つイメー）管の管内材料
として適するものであれば、既述の如く他の材料例えば
金属酸化物、顔料を用いて光遮断吸収膜３０１の機能を
有する製造方法を採用できることは言う迄もない。

この他に、光遮断吸収膜３０１が第５図（ａ）。

（ｂ）に示すように、少なくとも芯材１θノを除く面上
を覆って形成される構造がコントラスト向上に最も良い
が、ホトエツチングプロセスの一部を用いる製造上の問
題即ち光感応樹脂のミクロン単位での解像力の点から、
第６図に示すように被覆材１０２の芯材１０ノ側に一部
光遮断吸収膜３０１が欠ける場合も発生する。これは、
第５図の場合よりコントラストに対する寄与は低下する
ので、高度な微細加工技術を用いて、極力、この発生を
避けるようにしている。しかしながら、ファイバーグレ
ート１１にはその製造技術に起因する欠陥があること、
この発明のようにイメージ管の出力面として用いる場合
、出力画像の径は２０満とファイバーグレートの単繊維
の５〜１５μｍに比較して広大であるため、やむを得ず
部分的に欠けることがある。又、逆に上記■の工程で樹
脂の光化学変化した部分を完全に除去できない場合には
、結果として光遮断吸収膜３０１は芯材１０１の面上の
周縁部に形成されることもあり得る。このような製造上
のバラツキの発生は避けることが望ましいが、発明者ら
の実験によると、確率的には小さいが、これらの問題は
発生することが判り、これらの謂わば光遮断吸収膜３，
０１とファイバーグレート１１の位置ずれを有するファ
イバーグレート１ノ上に螢光体層１θを形成し、そのコ
ントラスト特性を比較したところ、性能面の大きな相異
は見られなかった。

既に公知例において記述した如く、ファイバーグレート
１１に凹み２０□３を形成して螢光スクリーンを得る技
術を紹介したが、基板９と螢光体層１０の間に隙間を形
成し、螢光体層１θの発光をＩ／ｌは完全拡散面として
基板９内に入射させるもので、この発明では上述の如く
加工されたファイバープレートゝを用いても実用に供す
ることができる。

又、イメージ管では、第１図に示されているように、フ
ァイバープレートを真空外囲器１内に配設する構成と、
第７・図に示すようにファイバープレートを真空外囲器
の一部として用いる構造があるが、これは同時に螢光ス
クリーンを構成しているので、この発明の光遮断吸収膜
３０１を第５図又は第６図の如く形成できることが判る
。

〔発明の効果〕

この発明によれば、ファイバーグレート固有の性能を一
層発揮させることができ、これによってコントラスト特
性が格段と向上するので、高品位の画像を提供できる螢
光スクリーンが得られる。

この優れたコントラスト特性が得られる理由を、ファイ
バープレート１１内の光伝播図を用い、第５図（、）で
はａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅの５方向の光、第５図（ｂ）では
ａ、ｂ、ｃ、ｆの４方向の光、第６図ではａ、ｂ、ｃ、
ｄの４方向の光について説明する。先ず、ａの方向の光
は、芯材１０１を通過する。ｂの方向をもつ光は、単繊
維の中で全反射を繰り返しながら伝播して、光出力面１
０５から取出される。ｅ、ｅの方向の光は、被覆材１θ
２、吸収体１０３を通過して隣接する単繊維内に光は侵
入し、コントラスト低下の原因となるが、光出力面１０
５に達したときに光遮断吸収膜３０１があるために、再
びファイバーグレート１．１内へ、あるいは光出力面１
０５から外へ光が進行するのを防止できる。

次にｄの方向の光は、螢光体粒子２０１からの発光が７
アイ／４−プレート１１内に入射したときに、現在の７
アイバーゾレートの製造技術では完全な吸収体１０３を
設けることが難しいため、やむを得ず発生する光出力面
１０５での反射光であるが、ファイバ−グレート１１を
薄くしたり、光遮断吸収Ｍ３０１を芯材１０１へ拡げる
ことによ凱この方向の長石路を経た光損失した微弱な光
の量を低減し、コントラスト低下を防止することができ
゛る。最後にｆの方向をもつ螢光体層の発光は第６図の
ｄの方向の光の如き吸収体１０３又は被覆材１０２に入
射し、その素材による光吸収のだめの光強度は弱まるが
、主たる光伝播部となる芯材１０ノ内の光と重なり合い
、コントラスト低下の原因となるため、光遮断吸収膜３
０１によって遮断吸収されるので、このような螢光スク
リーンはより鮮鋭な画像を提供するのに寄与できる。

又、この発明では、光遮断吸収膜３０１をファイバープ
レート１ノの光出力面１０５上に設けているので、被覆
材１θ２、吸収体１０３の光出力面１０５からのファイ
バーグレート１ノ外への光の放射を遮断することと同時
に、ファイバーグレート内での光の反射を防ぐ光の吸収
をすることの２つの効果がある。これは、ファイバープ
レート１ノの固有の機能であるコントラスト特性をより
一層優れたものとすると共に、ファイバーグレート１１
の有する面欠点を減らし、良好な画像を明るく得るため
に１゛叫以下の薄板化も実施することができる。更に、
光遮断吸収膜３０１を設けることによシ生ずる軽度の輝
度低下は、イメージ管の輝度構成要素である入力面、光
電面、出力螢光体の改良技術によシ補完することができ
る。

従って、この発明の技術を用いることによシ、従来には
ない極めてコントラスト特性の優れた螢光スクリーンを
実用に供することが可能となシ、医療用に使用されるＸ
線螢光増倍管の画像の診断能の進歩に大きく貢献し得る
。

具体的な効果を、螢光スクリーンのコントラスト測定法
によって比較すると、下表の通シ大きな効果が得られた
。即ち、板厚０．５　ｍ＋のファイバーグレート１１を
用い、螢光体層１０の発光径を２０薗とし、全面均一に
電子ビームによって螢光体粒子２０１を発光させる。発
光径の中心部に面積比で１０チ（直径約６．３　ｔａｎ
　）の電子ビーム遮蔽板を密着させる。そして、遮蔽板
を置かないときと、置いたときの輝度比でコントラスト
を定義する。

尚、上記実施例ではイメージ管用出力面について述べた
が、この発明は出力面に限定されるものではなく、ファ
イ・々−グレートの面上に螢光体層を形成する構造のス
クリーンに広く適用できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は一般的なイメージ管（Ｘ線螢光増倍管）を示す
概略構成図、第２図はファイバープレートの光伝達状態
を示す断面図、第３図（ａ）。 （ｂ）は従来の螢光スクリーンの２例を示す断面図、第
４図（ａ）　ｌ　（ｂ）は厚さの異なるファイバープレ
ートにおける光伝達の範囲を説明する断面図、第５図（
ａ）　、　（ｂ）はこの発明の一実施例及び他の実施例
に係る螢光スクリーンを示す断面図、第６−図及び第７
図はこの発明の別の他の実施例を示す断面図である。 １０・・・螢光体層、１１・・・ファイバ−グレート、
１０１・・・芯材、１０２・・・被覆材、１０３・・・
吸収体、１０４・・・光入射面、１０５・・・光出力面
、２０１・・・螢光体粒子、２０２・・・メタル／ぐツ
ク層、２０３・・・凹み、３０１．・・・光遮断吸収膜
。 出願人代理人　弁理士　鈴　江　武　彦特願昭５８−２
００９７号 ３．補正をする者 事件との関係　特許出願人 （３０７）　　東京芝浦′老気株式会社６　補正の対象 明細書 ７、補正の内容 （１）願書添付明細書中、＠１頁の「２、特許請求の範
囲」の項全文を別紙の如く訂正する。 （２）　　同じく第９０第４行目に「ファイバーグレー
ド」とあるのを「ファイバープレート」と訂正する。 （３）　　同じく第１１員第１５行目に「蒸着により形
成」とあるのを「蒸着によりその膜厚が１００Ｘ〜１μ
ｍの範囲に形成」と訂正する。 （４）　　同じく第１２頁第１９行目に「同心球」とあ
るのを「同心柱状」と訂正する。 （５）　　同じく第１４頁の上半分に記載の「表」の後
に、下記を加入＄る。 記 なお、芯材１０１と被覆材１０２とからなるファイバー
プレートを用いる場合にも成分の違いによる屈折率の相
違があればファイバープレートの機能上、差支えないの
で吸収体１０３がない場合もし文は点在するファイバー
プレートであっても少なくとも芯材上を除いて光遮断吸
収膜を形成することができる。 （６）　　同じく第２０頁第１２行目の「・・・見られ
なかった。」の後に、下記を加入１−る。 記 他の製造法としては、芯材１０ノとそれ以外を区別する
マスク材を用いて芯材１０１面以外に光遮断吸収膜３０
１を形成することができる。この場合、芯材１０１個々
は独立しているためマスク材は芯材１０１を桜う部分と
それを連結する部分とからなり、ファイバープレートに
密着させて前述の金属のｋ　’４膜形成によって光遮断
吸収膜３０１を形成した後、マスク材を取り除けば良く
作業が曲中である。 ２特許請求の範囲 （１）単繊維が芯材、被５２Ｕ及び吸収体からなり、−
面が光入射面にして他面が光出力面であるファイバープ
レートの上記光入射面に螢光体層を形成してなる螢光ス
クリーンにおいて、上記ファイバープレートの上記光入
射面と光出力面のうち少なくとも光出力面−に１．上記
芯材部の大部分を除すて光遮断吸収膜を形成したことを
特徴とする螢光スクリーン。 （２）　　上記芯材部分の直径が１５μｍ以下であり、
上記光遮断吸収膜の厚さが１μｍ以下である特許請求の
範囲第１項記載の螢光スクリーン。 （３）少なくともＴｈ工程を具備することを特徴とする
螢光スクリーンの製造方法。 ■　芯材、被覆材及び吸収体からなる単繊維を多数配列
して構成されたファイバープレートの一面に光感応樹脂
を塗膜する。 ■　次に、上記ファイバープレートの他面から光を照射
し、芯材及び被覆材の一部分以外に塗膜された光感応樹
脂を光化学的に変化させる。 ■　次に、感光された塗膜樹脂以外を溶出させ、その溶
出部に相当するファイバープレート面上に光遮断吸収膜
を形成した後、残部の樹脂を全て取除く。 ■　次に、ファイバープレートの一面（光遮断吸収膜が
形成されていない曲）に螢光体層を形成する。 （４）　　上記工程ω〜■と呵様な工程により、上記フ
ァイバープレートの両面に光遮断吸収膜な形成する特許
請求の範囲第３項記載の螢光スクリーンの製造方法。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）単繊維が芯材、被綴材及び吸収体からなり、−面
   が光入射面にして他面が光出力面であるファイバープレ
   ートの上記光入射面に螢光体層を形成してなる螢光スク
   リーンにおいて、上記ファイバープレートの上記光入射
   面と光出力面のうち少なくとも光出力面に、上記芯材部
   の大部分を除いて光遮断吸収膜を形成したことを特徴と
   する螢光スクリーン。
2. （２）上記芯材部分の直径が１５μｍ以下であり。 上記光遮断吸収膜の厚さが１μｍ以下である特許請求の
   範囲第１項記載の螢光スクリーン。
3. （３）少なくとも下記、工程を具備することを特徴とす
   る螢光スクリーンの製造方法。 ■　芯材、被覆材及び吸収体からなる単繊維を多数配列
   して構成されたファイバーグレートの一面に光感応樹脂
   を塗膜する。 ■　次に、上記ファイバーグレートの他面から光を照射
   し、芯材及び被覆材の一部分以外に塗膜された光感応樹
   脂を光化学的に変化させる。 ■　次に、感光された塗膜樹脂以外を溶出させ、その溶
   出部に相当するファイバープレート面上に安定金属を１
   μｍ以下の膜厚に真空蒸着して光遮断吸収膜を形成した
   後、残部の樹脂を全て取除く。 ■　次に、ファイバーグレートの一面（光遮断吸収膜が
   形成されていない面）に螢光体層を形成する。
4. （４）上記工程■〜■と同様な工程により、上記ファイ
   バ−グレートの両面に光遮断吸収膜を形成する特許請求
   の範囲第３項記載の螢光スクリーンの製造方法。