JPS59155355A - ４−チアゾリルオキシ−および４−チアゾリルチオ−フエニル酢酸誘導体の新規製造法 - Google Patents
４−チアゾリルオキシ−および４−チアゾリルチオ−フエニル酢酸誘導体の新規製造法Info
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- JPS59155355A JPS59155355A JP2830883A JP2830883A JPS59155355A JP S59155355 A JPS59155355 A JP S59155355A JP 2830883 A JP2830883 A JP 2830883A JP 2830883 A JP2830883 A JP 2830883A JP S59155355 A JPS59155355 A JP S59155355A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はり一チアゾリルオキシーおよびグーデアゾリル
チオフェニル酢酸誘導体の新規な製造法に関する。更に
詳しくは、温和な条件下でデアゾール環を形成すること
を特徴とするチアゾリルオキシ−およびチアゾリルチオ
フェニル酢酸誘導体の製造法である。
チオフェニル酢酸誘導体の新規な製造法に関する。更に
詳しくは、温和な条件下でデアゾール環を形成すること
を特徴とするチアゾリルオキシ−およびチアゾリルチオ
フェニル酢酸誘導体の製造法である。
デアゾリルオキシ−およびチアゾリルチオ−フェニル酢
酸誘導体が抗炎症作用または鎮痛作用を有するこ・とは
既に知られている（特許公告公報昭ｊ乙−３７グ７号）
。同化合物の製造方法としては、前記の特許公報に記載
されているハロゲノチアゾールとフェニル酢酸誘導体を
縮合させる方法チアゾリルオキシフェニルアセトニトリ
ルをアルキル化し加水分解する方法（特許公告公報昭３
３−３７！３；乙）、ｌ−アルコキシースーハロゲノエ
チルイソチオシアナートを出発物質としチアゾリン誘導
体を経由する方法（特許公開公報昭３グー／θ９９乙９
号）などが確立さＪｌ、でいるが９本発明はこノ１．ら
の方法よりより温和な条件で反応を行なう優れた方法で
ある。
酸誘導体が抗炎症作用または鎮痛作用を有するこ・とは
既に知られている（特許公告公報昭ｊ乙−３７グ７号）
。同化合物の製造方法としては、前記の特許公報に記載
されているハロゲノチアゾールとフェニル酢酸誘導体を
縮合させる方法チアゾリルオキシフェニルアセトニトリ
ルをアルキル化し加水分解する方法（特許公告公報昭３
３−３７！３；乙）、ｌ−アルコキシースーハロゲノエ
チルイソチオシアナートを出発物質としチアゾリン誘導
体を経由する方法（特許公開公報昭３グー／θ９９乙９
号）などが確立さＪｌ、でいるが９本発明はこノ１．ら
の方法よりより温和な条件で反応を行なう優れた方法で
ある。
本発明方法の要旨を以下に図示する。
■
（式中、Ａは酸素または硫黄 Ｒ／およびＲ２はそれぞ
れ水素、低級アルキルまたはハロゲン、妃は水素または
低級アルキル、Ｒ″は低級アルキル、Ｙは水素、シアン
または低級アルコキシカルボニルを表わす。） 本発明方法は以下の四工程よりなる。
れ水素、低級アルキルまたはハロゲン、妃は水素または
低級アルキル、Ｒ″は低級アルキル、Ｙは水素、シアン
または低級アルコキシカルボニルを表わす。） 本発明方法は以下の四工程よりなる。
工程■ ヒドロキシまたはメルカプトフェニル酢酸誘導
体・（ｖ）にハロゲノシアンを反応さセテシアナトーま
たはチオシアナト−フェニル酢酸誘導体（ＩＶ）を得る
。
体・（ｖ）にハロゲノシアンを反応さセテシアナトーま
たはチオシアナト−フェニル酢酸誘導体（ＩＶ）を得る
。
工程■ 化合物（Ｖｌ）に硫化水素を反応させてチオカ
ルバモイルオキシ−またはチオカルバモイルチオ−フェ
ニル酢酸誘導体（ｍ）を得る。
ルバモイルオキシ−またはチオカルバモイルチオ−フェ
ニル酢酸誘導体（ｍ）を得る。
工程■ 化合物（ＩＴＩ）に酸の存在Ｆハロゲノアセト
アルデヒドまたはその反応性誘導体を反応させてチアソ
リルオキシーまたはチアゾリルチオ−フェニル酢酸誘導
体（Ｉｒ）を得る。
アルデヒドまたはその反応性誘導体を反応させてチアソ
リルオキシーまたはチアゾリルチオ−フェニル酢酸誘導
体（Ｉｒ）を得る。
工程■ 化合物（Ｉ［）を加水分解反応に付して目的の
グーチアゾリルオキシ−またはグーチアゾリルチオ−フ
ェニル酢酸誘導体の遊離カルボン酸（Ｉ）を得る。
グーチアゾリルオキシ−またはグーチアゾリルチオ−フ
ェニル酢酸誘導体の遊離カルボン酸（Ｉ）を得る。
本発明の原料化合物（Ｖ）はψ位にヒドロキシまたはメ
ルカプト基を有するデエニル酢酸アルキルエステルであ
り、フェニル酢酸の酢酸６位のメチレンはシアノまたは
低級アルコキシカルボニル基で置換されていてもよく、
ベンセン環は／−２の低級アルキルまたはハロゲンで置
換されていてもよい。
ルカプト基を有するデエニル酢酸アルキルエステルであ
り、フェニル酢酸の酢酸６位のメチレンはシアノまたは
低級アルコキシカルボニル基で置換されていてもよく、
ベンセン環は／−２の低級アルキルまたはハロゲンで置
換されていてもよい。
本発明でいう低級アルキルとは９例えば、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル。
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル。
イソブチル、む−ブチルなどの炭素数／〜グの直鎖また
は分枝した炭化水素基を意味し、ノ１０ゲンとは、フッ
素、塩素、臭素およびヨウ素を意味する。低級アルコキ
シカルボニルとは上記のアルキルにオキシカルボニルが
ついた基を意味し、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボ
ニル、ブトキシカルボニル、１．−ブトキシカルボニル
などが例示される。
は分枝した炭化水素基を意味し、ノ１０ゲンとは、フッ
素、塩素、臭素およびヨウ素を意味する。低級アルコキ
シカルボニルとは上記のアルキルにオキシカルボニルが
ついた基を意味し、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボ
ニル、ブトキシカルボニル、１．−ブトキシカルボニル
などが例示される。
本発明方法は前記のようにｌ工程よりなる。各工程につ
いて以下に詳記する。
いて以下に詳記する。
工程■ 化合物［■をエーテル系溶媒（例えば。
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）巾で
、トリアルキルアミン（例えば、トリエチルアミン）や
Ｎ−アルキルピペリジン（例えば。
、トリアルキルアミン（例えば、トリエチルアミン）や
Ｎ−アルキルピペリジン（例えば。
Ｎ−メチルピペリジン）などの三級アミンの存在下ハロ
ゲノシアン（例えば臭化シアン、塩化シアンなど）を反
応させて対応するシアナトまたはチオシアナト化合物［
■にする。反応はＥ、 Ｖｏｗｉｎｋｃｌら（ｃｈｃｎ
ｔＢｃｒ、 、 １０７．／２／３（／９７’ｌ−）
）の方法に準じて行ない冷却下、好ましくは約−２θ
〜θ℃。
ゲノシアン（例えば臭化シアン、塩化シアンなど）を反
応させて対応するシアナトまたはチオシアナト化合物［
■にする。反応はＥ、 Ｖｏｗｉｎｋｃｌら（ｃｈｃｎ
ｔＢｃｒ、 、 １０７．／２／３（／９７’ｌ−）
）の方法に準じて行ない冷却下、好ましくは約−２θ
〜θ℃。
最も好ましくは約−７０°Ｃで行なう。
工程■ 工程■で得られた化合物ｙをエーテル系溶媒中
、塩基の存在下硫化水素と反応させてチオカルバモイル
オキシーまたはチオカルバモイルチオ−フェニル酢酸誘
導体［ｍｌを得る。具体的には化合物１−Ｉｖ］をエー
テル系溶媒に溶かし、同溶液に硫化水素ガスを通じるこ
とにより実施する。
、塩基の存在下硫化水素と反応させてチオカルバモイル
オキシーまたはチオカルバモイルチオ−フェニル酢酸誘
導体［ｍｌを得る。具体的には化合物１−Ｉｖ］をエー
テル系溶媒に溶かし、同溶液に硫化水素ガスを通じるこ
とにより実施する。
用いるエーテル系溶媒および塩基は工程■で例示さノ］
、たものである。反応は室温で容易に進行する。
、たものである。反応は室温で容易に進行する。
本工程はＧｒｉｇａＣら（Ｃｂｅｎｔ Ｂｅｒ、 ９７
、３θ２２（／ワ乙り））の方法に準じて行なうとよ
い。なお、本工程は工程■の生成物を単離することなく
、工程■に続けて行なってもよい。
、３θ２２（／ワ乙り））の方法に準じて行なうとよ
い。なお、本工程は工程■の生成物を単離することなく
、工程■に続けて行なってもよい。
工程■ 工程■の生成物１−■］に無水状態で酸の存在
Ｆハロケノアセトアルデヒドまたはその反応性誘導体を
反応させて、デアゾリルオキシ−またはデアゾリルチオ
−フェニル酢酸誘導体ＩＪＴＩを製媒量用いる。例えば
ｐ −１−ルエンスルホン酸、硫酸水素ナトリウム、ピ
リジン塩酸塩、硫酸、’Ｊン酸、ポリリン酸が用いられ
る。ハロゲノアセトアルテヒドとしてはクロロアセトア
ルテヒド、ブロモアセトアルデヒドが例示され、同反応
性誘導体とはジアルキルアセタール（例えば、ブロモア
セトアルテヒドシメチルア士タール、クロロアセトアル
デヒドジエチルアセタールなど）、１２−ジハロゲノエ
チルアルキルエーテル（例えば、１２−ジクロロエチル
メチルエーテルなど）、／−アセトキシースーハロケノ
エチルアルキルエーテル（例えば／−アセトキシースー
ブロモエチルエチルエーテルなど）、ｌ−アセトキシ−
２ｘ−ジハロゲノエタン（例えば、／−アセトキシ−１
２，−ジクロロエタンなど）が例示される。溶媒として
。
Ｆハロケノアセトアルデヒドまたはその反応性誘導体を
反応させて、デアゾリルオキシ−またはデアゾリルチオ
−フェニル酢酸誘導体ＩＪＴＩを製媒量用いる。例えば
ｐ −１−ルエンスルホン酸、硫酸水素ナトリウム、ピ
リジン塩酸塩、硫酸、’Ｊン酸、ポリリン酸が用いられ
る。ハロゲノアセトアルテヒドとしてはクロロアセトア
ルテヒド、ブロモアセトアルデヒドが例示され、同反応
性誘導体とはジアルキルアセタール（例えば、ブロモア
セトアルテヒドシメチルア士タール、クロロアセトアル
デヒドジエチルアセタールなど）、１２−ジハロゲノエ
チルアルキルエーテル（例えば、１２−ジクロロエチル
メチルエーテルなど）、／−アセトキシースーハロケノ
エチルアルキルエーテル（例えば／−アセトキシースー
ブロモエチルエチルエーテルなど）、ｌ−アセトキシ−
２ｘ−ジハロゲノエタン（例えば、／−アセトキシ−１
２，−ジクロロエタンなど）が例示される。溶媒として
。
アルコール’ｆＡ（例えば、メタノール、エタノール。
プロパツールなど）、カルボン酸類（例えば、酢酸、プ
ロピオン酸など）、エーテル類（例えば。
ロピオン酸など）、エーテル類（例えば。
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）。
アセトン、アセトニトリル等を単独でまたは組合せて用
いる。好ましい反応条件はクロロアセトアルデヒドジエ
チルアセクールを用い、Ｐ−トルエンスルホン酸の存在
下、酢酸−エーテル（より好ましくは／’ｌ／、（／ｖ
）を溶媒として用いる。反応は加熱下、好ましくは約３
０〜１００°Ｃで行なう。
いる。好ましい反応条件はクロロアセトアルデヒドジエ
チルアセクールを用い、Ｐ−トルエンスルホン酸の存在
下、酢酸−エーテル（より好ましくは／’ｌ／、（／ｖ
）を溶媒として用いる。反応は加熱下、好ましくは約３
０〜１００°Ｃで行なう。
工程■ 工程■で得らｉｔた化合物［ＴＯを酸またはア
ルカリ存在下に加水分解反応に伺す。本工程でいう加水
分解反応とは酢酸エステル部分のエステル残基の除去の
みを意味するのではなく、酢酸残基のメチレンを置換す
るシアノ基、アルコキシカルボニル基の除去に必要な加
水分解反応、脱炭酸反応をも含む。これらの反応はアル
カリ（例えば、水酸化すｌ・リウム、水酸化カリウム、
炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなど）の存在下、水性ア
ルコール（例えば、メタノール−水、エタノール−水、
プロパノ−ルー水など）中で室温または加熱下に行う。
ルカリ存在下に加水分解反応に伺す。本工程でいう加水
分解反応とは酢酸エステル部分のエステル残基の除去の
みを意味するのではなく、酢酸残基のメチレンを置換す
るシアノ基、アルコキシカルボニル基の除去に必要な加
水分解反応、脱炭酸反応をも含む。これらの反応はアル
カリ（例えば、水酸化すｌ・リウム、水酸化カリウム、
炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなど）の存在下、水性ア
ルコール（例えば、メタノール−水、エタノール−水、
プロパノ−ルー水など）中で室温または加熱下に行う。
一般に脱エステルと脱炭酸反応は同時に起こるが、必要
に応じて脱エステル反応ののち、更に加熱により脱炭酸
反応を行ってもよい。
に応じて脱エステル反応ののち、更に加熱により脱炭酸
反応を行ってもよい。
次に実施例において本発明の実施態様を示すが。
こｉ］、ら実施例は何ら本発明を限定するものではない
。なお、実施例の図式中Ｍｅ はメチルを、Ｅｌ。
。なお、実施例の図式中Ｍｅ はメチルを、Ｅｌ。
はエチルを意味する。
（以下余白）
実施例／
（ａ）（ｂ）（Ｃ）
（ｄ）
（１） ジエチル°２−（ｇ−ヒドロキシフェニル）
−２−メチル−マロネート（ａ、）ｚθｙ、トリエチル
アミン３．θｔｔｙ 、無水エーテルグθｍｌの混液を
。
−２−メチル−マロネート（ａ、）ｚθｙ、トリエチル
アミン３．θｔｔｙ 、無水エーテルグθｍｌの混液を
。
−７０°Ｃに冷却した臭化シアン３．２１を含む無水エ
ーテルグθＮｔ、溶液に３θ分を要して滴下、更に同温
度で乙θ分反応させる。不溶物をＰ去後エーテルを留去
し、残渣、粗−ジエチルニー（クーシト アナフェニル）−ノーメチルマロネート（１））＆７＆
△ 一／ ｙを得る。ＩＲ（ＣＣ〜）、、７．．２７θ、、２，２
．を夕、２２３θ（Ｊ（２） 上記で得られたジエチ
ル、２−（ｌｌ−−−シアナトフェニル）−ノーメチル
マロネート（ｂ）＆７１１−１を触媒量のトリエチルア
ミンと共に無水エーテル１００ｒｔｔｌに溶解し、室温
、攪拌下に水素ガスをグ０分導入せしめる。エーテルを
留去、残渣をエーテル／θＯｍｌに溶解し不溶物を枦去
、ニーアルを／ヶに濃縮し析出した黄色結晶を沖取。ｍ
ｐ７ざ〜Ｌｆ２°のジエチル２−（４−チオカルバモイ
ルオキシフェニル）−ユーメチルマロネー＋−（Ｃ）９
２乙ｙを得る。ＩＲ（Ｎｏ、１ｏｎ）３３３０．３２７
０，３／７θ、／乙２３ｃｔｎ ’元素分析 Ｃ、、Ｊ
（、、Ｏ，、、ＮＳとして計算値（係）二〇、第３３７
：Ｈ，３ノ９；Ｎ、グ３／；Ｓ、９．了乙 実験値（係）：Ｃ，３３３／、Ｈ，３，９２，：Ｎ、’
Ａ／３；Ｓ、９タフ （３）上記で得たジエチルス−（ケーチオカルノくモイ
ルオキシフェニル）−ノーメチルマロネート（ａ）９２
乙ｇにクロロアセトアルデヒドジエチルアセタール３．
２２ｆ、ｐ−）ルエンスルホン酸９ｇｍｇ 。
ーテルグθＮｔ、溶液に３θ分を要して滴下、更に同温
度で乙θ分反応させる。不溶物をＰ去後エーテルを留去
し、残渣、粗−ジエチルニー（クーシト アナフェニル）−ノーメチルマロネート（１））＆７＆
△ 一／ ｙを得る。ＩＲ（ＣＣ〜）、、７．．２７θ、、２，２
．を夕、２２３θ（Ｊ（２） 上記で得られたジエチ
ル、２−（ｌｌ−−−シアナトフェニル）−ノーメチル
マロネート（ｂ）＆７１１−１を触媒量のトリエチルア
ミンと共に無水エーテル１００ｒｔｔｌに溶解し、室温
、攪拌下に水素ガスをグ０分導入せしめる。エーテルを
留去、残渣をエーテル／θＯｍｌに溶解し不溶物を枦去
、ニーアルを／ヶに濃縮し析出した黄色結晶を沖取。ｍ
ｐ７ざ〜Ｌｆ２°のジエチル２−（４−チオカルバモイ
ルオキシフェニル）−ユーメチルマロネー＋−（Ｃ）９
２乙ｙを得る。ＩＲ（Ｎｏ、１ｏｎ）３３３０．３２７
０，３／７θ、／乙２３ｃｔｎ ’元素分析 Ｃ、、Ｊ
（、、Ｏ，、、ＮＳとして計算値（係）二〇、第３３７
：Ｈ，３ノ９；Ｎ、グ３／；Ｓ、９．了乙 実験値（係）：Ｃ，３３３／、Ｈ，３，９２，：Ｎ、’
Ａ／３；Ｓ、９タフ （３）上記で得たジエチルス−（ケーチオカルノくモイ
ルオキシフェニル）−ノーメチルマロネート（ａ）９２
乙ｇにクロロアセトアルデヒドジエチルアセタール３．
２２ｆ、ｐ−）ルエンスルホン酸９ｇｍｇ 。
氷酢酸グ乙ｍｔを加え、９θ℃油浴中３時間攪拌反応せ
しめる。酢酸を減圧留去し、残渣にベンゼン／θθｍｌ
を加え、７幅炭酸水素ナトリウム水溶液３０ｍ１にて３
回洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾燥。シリカゲルベン
センのカラムクロマトにイ」シジエチル２−［ｇ−（，
２−チアゾリルオキシ）−フェニルコース−メチルマロ
ネート（ｄ）Ｋ９’ｌ−ｆを得る。ＮＭＲδＣＩ）（Ｊ
！、乙、ｒ ５ （（Ｊ、 ）旧／（Ｊ＝３．７Ｈ７，
）（４）」二記で得たジエチル２−［４を−（２−チア
ゾリルオキシ）フェニル］−２−メチルマロネート（ｄ
）、１５＞９ゲｇに炭酸カリ３．ざ９９．メタノールグ
ｊだｌと水グＳ献を加え／弘時間攪拌還流せしめる０メ
タノールを減圧留去し残渣を水に溶解して塩化メチレン
にて３回洗浄する。水層を活性炭処理後塩酸にてｐＨ弘
に調整し２−［４／−−（２−チアゾリルオキシ）フェ
ニル］プロピオン酸（ｅ）を得る。
しめる。酢酸を減圧留去し、残渣にベンゼン／θθｍｌ
を加え、７幅炭酸水素ナトリウム水溶液３０ｍ１にて３
回洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾燥。シリカゲルベン
センのカラムクロマトにイ」シジエチル２−［ｇ−（，
２−チアゾリルオキシ）−フェニルコース−メチルマロ
ネート（ｄ）Ｋ９’ｌ−ｆを得る。ＮＭＲδＣＩ）（Ｊ
！、乙、ｒ ５ （（Ｊ、 ）旧／（Ｊ＝３．７Ｈ７，
）（４）」二記で得たジエチル２−［４を−（２−チア
ゾリルオキシ）フェニル］−２−メチルマロネート（ｄ
）、１５＞９ゲｇに炭酸カリ３．ざ９９．メタノールグ
ｊだｌと水グＳ献を加え／弘時間攪拌還流せしめる０メ
タノールを減圧留去し残渣を水に溶解して塩化メチレン
にて３回洗浄する。水層を活性炭処理後塩酸にてｐＨ弘
に調整し２−［４／−−（２−チアゾリルオキシ）フェ
ニル］プロピオン酸（ｅ）を得る。
ジクロロエタンにて再結晶Ｌ ”ｐ ／ ２ ／ ／
、１２″Ｃの精製品５３グダを得る。
、１２″Ｃの精製品５３グダを得る。
ＩＲ（Ｎｏ、ｉｏＪ ’） ２．！；２０ 、 ／
７／ タＣノ〃−′元素分析 Ｃ，、Ｈ，、，０３ＮＳ
として計算値（憾）：Ｃ，，３−７ざ／；Ｈβ４４
’Ｊ−ｉＮ、Ｊ侶ス；Ｓ、／、２Ｉ１５’乙 実験値（係）：Ｃ，５７乙θ；Ｈ９≠ググｉＮ、左ｊθ
二Ｓ 、 ＩＱ９ｇ （ｆ） （ｇ） （１＋
）（以下余白） （ｅ’） （１） メチル２−（ｇ−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオネート（ｆ）！；ｆとトリエチルアミンλ、ｇｙを
無水エーテル３０ｍ１に溶解し、３２ｙの臭化シアンを
含む無水エーテル溶液３θｍｌに−／θ°Ｃで攪拌下２
０分を要して滴下する。さらに同温度で３θ分間反応さ
せ、析出したトリエチルアミン臭化水素酸塩を炉去し次
いで減圧下エーテルを留去して粗、メチル、１−（４ｔ
−シアナトフェニル）プロピオネ−）（ｇ）ｊ：乙ｇを
得る。ＩＲ（ＣＣ／、）２２．！；０゜２２３θ、／７
≠θα−′本品は精製することなく次工程に使用する。
７／ タＣノ〃−′元素分析 Ｃ，、Ｈ，、，０３ＮＳ
として計算値（憾）：Ｃ，，３−７ざ／；Ｈβ４４
’Ｊ−ｉＮ、Ｊ侶ス；Ｓ、／、２Ｉ１５’乙 実験値（係）：Ｃ，５７乙θ；Ｈ９≠ググｉＮ、左ｊθ
二Ｓ 、 ＩＱ９ｇ （ｆ） （ｇ） （１＋
）（以下余白） （ｅ’） （１） メチル２−（ｇ−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオネート（ｆ）！；ｆとトリエチルアミンλ、ｇｙを
無水エーテル３０ｍ１に溶解し、３２ｙの臭化シアンを
含む無水エーテル溶液３θｍｌに−／θ°Ｃで攪拌下２
０分を要して滴下する。さらに同温度で３θ分間反応さ
せ、析出したトリエチルアミン臭化水素酸塩を炉去し次
いで減圧下エーテルを留去して粗、メチル、１−（４ｔ
−シアナトフェニル）プロピオネ−）（ｇ）ｊ：乙ｇを
得る。ＩＲ（ＣＣ／、）２２．！；０゜２２３θ、／７
≠θα−′本品は精製することなく次工程に使用する。
（２）上記で得られたメチル２−（ｌｌ−−シアナトフ
ェニル）プロピオネート（ｇ） 、！；、乙ｇを無水エ
ーテル２０ｍ／、に溶解しトリエチルアミンｇ−３滴を
加え攪拌下ユθ〜２３°Ｃで硫化水素カスを通じる。
ェニル）プロピオネート（ｇ） 、！；、乙ｇを無水エ
ーテル２０ｍ／、に溶解しトリエチルアミンｇ−３滴を
加え攪拌下ユθ〜２３°Ｃで硫化水素カスを通じる。
析出した結晶を１取しエーテルで洗浄してｔ’ｐ／３１
〜／り／”０のメチルニー（クーチオカル）＜モイルオ
キシフェニル）プロピオネ−１−（１＋）Ｊ：３ｇを得
る。氷晶をクロロホルムより再結晶ず」］、ば望／ψ３
〜／ググ℃を示す。
〜／り／”０のメチルニー（クーチオカル）＜モイルオ
キシフェニル）プロピオネ−１−（１＋）Ｊ：３ｇを得
る。氷晶をクロロホルムより再結晶ず」］、ば望／ψ３
〜／ググ℃を示す。
元素分析 Ｃ７７Ｈ，恕３ＮＳとして
計算値（幻： Ｃ，３！；、２／：Ｈ，Ｊグざ菩Ｎ、ｊ
ざｊ；Ｓ、／３ｔ／Ｘθ 実験値（幻： Ｃ、３１１−，９７；Ｔ（’、よググ：
Ｎ、３７ス；Ｓ、／３．３９ ＩＲ（Ｎｏ、１ｏｌ）３３３３．３２９．！；、３／ざ
０．／乙３３゜／７／、！；ｏノ、−／ （３）前工程で得られたメチル２−（≠−チオカルバモ
イルオキシフェニル）プロピオネート（ｈ）３ｙを氷酢
酸’ｉ’Ｏｍｌ、クロロア士トアルテヒドシエチルア士
タール３１１．無水■）−トルエンスルボン酸０．／ｆ
／と共にと３〜９θ°Ｃで２時間加熱攪拌する。減圧上
酢酸を留去したのち、残渣をエーテルに溶解し、希炭酸
水素ナトリウム水溶液、希水酸化ナトリウム水溶液、希
塩酸：水で順次洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶
媒を留去しメチル、２−［ｇ−（２−チアゾリルオキシ
）フエニノ四プロピオネート（’＋’＞夕θ１を得る。
ざｊ；Ｓ、／３ｔ／Ｘθ 実験値（幻： Ｃ、３１１−，９７；Ｔ（’、よググ：
Ｎ、３７ス；Ｓ、／３．３９ ＩＲ（Ｎｏ、１ｏｌ）３３３３．３２９．！；、３／ざ
０．／乙３３゜／７／、！；ｏノ、−／ （３）前工程で得られたメチル２−（≠−チオカルバモ
イルオキシフェニル）プロピオネート（ｈ）３ｙを氷酢
酸’ｉ’Ｏｍｌ、クロロア士トアルテヒドシエチルア士
タール３１１．無水■）−トルエンスルボン酸０．／ｆ
／と共にと３〜９θ°Ｃで２時間加熱攪拌する。減圧上
酢酸を留去したのち、残渣をエーテルに溶解し、希炭酸
水素ナトリウム水溶液、希水酸化ナトリウム水溶液、希
塩酸：水で順次洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶
媒を留去しメチル、２−［ｇ−（２−チアゾリルオキシ
）フエニノ四プロピオネート（’＋’＞夕θ１を得る。
氷晶は精製することなく１次工程に使用する。
（４）上記工程で得たメチル２−［ｇ−（２−チアゾリ
ルオキシ）フェニル］プロピオネート（ｉ）ｊθｙをθ
９ｙの水酸化ナトリウムとｊ０係メタノール水溶液２３
ｍｌと共に室温で２時間攪拌する。
ルオキシ）フェニル］プロピオネート（ｉ）ｊθｙをθ
９ｙの水酸化ナトリウムとｊ０係メタノール水溶液２３
ｍｌと共に室温で２時間攪拌する。
塩酸で［１１和後再び炭酸水素すトリウムでアルカリ性
としたのち、減圧下メタノールを留去する。残渣を水に
溶解して塩化メチレンで洗浄し、活性炭処理ののち希塩
酸でｐＨ３にｄ１和する。析出するニー［ｇ−１，２−
チアゾ凹ルオキシ）フェニル］プロピオン酸（ｅ）’Ａ
２ｆ！を得る。ジクロロエタンより再結晶すノ１ば苧／
２／〜／、２２°Ｃの結晶を得る。
としたのち、減圧下メタノールを留去する。残渣を水に
溶解して塩化メチレンで洗浄し、活性炭処理ののち希塩
酸でｐＨ３にｄ１和する。析出するニー［ｇ−１，２−
チアゾ凹ルオキシ）フェニル］プロピオン酸（ｅ）’Ａ
２ｆ！を得る。ジクロロエタンより再結晶すノ１ば苧／
２／〜／、２２°Ｃの結晶を得る。
ＴＲ（ＮｕｊｏＩ ）２３２０ 、 ／７／ Ｏａｎ
’元素分析 Ｃ，、Ｈ，、Ｏ，ＮＳとして計算値（
係）：ＣＪ７ざ／；Ｈ１≠グ汐；Ｎ、夕乙ユ；Ｓ、／、
２．，５＞乙 実験値（噛）： Ｃ、Ｓ７７．２．Ｈ，ＩＩＩＯ２Ｎ、
夕乙９；Ｓ、／２．７θ 実施例３−／／ 実施例／またはスと同様に反応処理し、下記の化合物を
得る。
’元素分析 Ｃ，、Ｈ，、Ｏ，ＮＳとして計算値（
係）：ＣＪ７ざ／；Ｈ１≠グ汐；Ｎ、夕乙ユ；Ｓ、／、
２．，５＞乙 実験値（噛）： Ｃ、Ｓ７７．２．Ｈ，ＩＩＩＯ２Ｎ、
夕乙９；Ｓ、／２．７θ 実施例３−／／ 実施例／またはスと同様に反応処理し、下記の化合物を
得る。
■
ｃ以下余白）
ｒ十 〜 上段は計算値、下段は実験値を各々示す。
※４ チアゾール環の５位または５位の吸収のδ値を示
す。
す。
・・・五 再結晶溶媒の略弓は下記のとおりである。
Ａ−酢酸エチル、Ｂ−ベンナン。
Ｄ−ジクロロエタン、Ｅ−エーテル。
Ｈニへ片サン
特許出願人 塩野義製薬株式会社
手続？巾正書（む勝）
１、事件の表示
昭和５８年特許願第２８１０８号
２、発明の名称
４−チアゾリルオキシ−および４−チアゾリルチオ−フ
ェニル酢酸誘導体の新規製造法３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 ４、代理人 住所 大阪市福島区鷺洲５丁目１２番４号〒５５３塩野
義製薬株式会社 特許部 （電話０６−４５８−５８６１） 夕補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄。
ェニル酢酸誘導体の新規製造法３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 ４、代理人 住所 大阪市福島区鷺洲５丁目１２番４号〒５５３塩野
義製薬株式会社 特許部 （電話０６−４５８−５８６１） 夕補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄。
乙補正の内容
（１）明細書１３頁９行の［−水素ガス」を「硫化水素
カスＪに訂正する。
カスＪに訂正する。
（２）同書メグ頁９行の「シリカゲルベンゼン」を「シ
リカゲル／ベンゼン」に訂正する。
リカゲル／ベンゼン」に訂正する。
（３）同書、２３頁７行とｇ行の間に「なお、化合物■
から化合物Ｈの収率は各工程のみの収率を表オつすが、
化合物■の収率は全工程を通じた総収率を表オフす。」
を挿入する。
から化合物Ｈの収率は各工程のみの収率を表オつすが、
化合物■の収率は全工程を通じた総収率を表オフす。」
を挿入する。
以 」二
Claims (3)
- （１）一般式 （式中、Ａは酸素または硫黄、Ｒ／およびＲ２はそれぞ
れ水素、低級アルキルまたはハロゲン、Ｒ３は水素また
は低級アルキル、Ｒ″は低級アルキル、Ｙは水素、シア
ノまたは低級アルコキシカルボニルを表わす。） で表わされる化合物に酸の存在下ハロケノアセトアルテ
ヒドまたはその反応性誘導体を反応させたのち加水分解
反応にイ」シて一般式 Ｃ式中、Ａ、Ｒ’、＆およびＲ３は前記と同意義を表わ
す。） で表わされる化合物を得ることを特徴とするｇ −チア
ゾリルオキシ−またはグーチアゾリルチオ−フェニル酢
酸誘導体の新規製造法。 - （２）下記の一般式で表わされるフェニル酢酸誘導体。 ３ Ｒ′ （式中、Ａは酸素または硫黄、Ｒ′およびＲ，２はそれ
ぞ）］、水素、低級アルキルまたはハロゲン、Ｒ３は水
素または低級アルキル、Ｒ″は低級アルキル、Ｙは水素
、シアンまたは低級アルコキシカルボニルを表わす。） - （３）一般式 ｃ式中、Ａは酸素または硫黄 Ｂ／およびＲ′はそれぞ
れ水素、低級アルキルまたはハロゲン Ｒ３は水素また
は低級アルキル、Ｒ″は低級アルキル、Ｙは水素、シア
ノまたは低級アルコキシカルボニルを表わす。） で表わされる化合物に塩基の存在下硫化水素を反応させ
、ついで酸の存在下ハロゲノアセトアルデヒドまたはそ
の反応性誘導体を反応させたのち加水分解反応に付して
一般式 （式ｒ４１．Ａ、Ｒ’、Ｒ’およびｄは前記と同意義を
表わす。） で表わさノ］、る化合物を得ることを特徴とするグーチ
アソリルオキシーまたはｔ−チアゾリルチオ−フェニル
酢酸誘導体の新規製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2830883A JPS59155355A (ja) | 1983-02-21 | 1983-02-21 | ４−チアゾリルオキシ−および４−チアゾリルチオ−フエニル酢酸誘導体の新規製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2830883A JPS59155355A (ja) | 1983-02-21 | 1983-02-21 | ４−チアゾリルオキシ−および４−チアゾリルチオ−フエニル酢酸誘導体の新規製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59155355A true JPS59155355A (ja) | 1984-09-04 |
Family
ID=12244983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2830883A Pending JPS59155355A (ja) | 1983-02-21 | 1983-02-21 | ４−チアゾリルオキシ−および４−チアゾリルチオ−フエニル酢酸誘導体の新規製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59155355A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990011278A1 (fr) * | 1989-03-24 | 1990-10-04 | The Green Cross Corporation | Composes de thiazole et leurs applications |
| WO2003059896A1 (de) * | 2002-01-15 | 2003-07-24 | Bayer Cropscience Aktiengesellschaft | Verfahren zur herstellung von halogenierten 2-(3-butenylsulfanyl)-1,3-thiazolen |
-
1983
- 1983-02-21 JP JP2830883A patent/JPS59155355A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990011278A1 (fr) * | 1989-03-24 | 1990-10-04 | The Green Cross Corporation | Composes de thiazole et leurs applications |
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| JP2005519896A (ja) * | 2002-01-15 | 2005-07-07 | バイエル・クロツプサイエンス・アクチエンゲゼルシヤフト | ハロゲン化２−（３−ブテニルスルファニル）−１，３−チアゾールを製造する方法 |
| US7385093B2 (en) | 2002-01-15 | 2008-06-10 | Makhteshim Chemical Works Ltd. | Method for producing halogenated 2-(3-butenylsulphanyl)-1,3-thiazoles |
| US7439408B2 (en) | 2002-01-15 | 2008-10-21 | Bayer Cropscience Ag | Method for producing halogenated 2-(3-butenylsulphanyl)-1,3-thiazoles |
| JP2010111682A (ja) * | 2002-01-15 | 2010-05-20 | Makhteshim Chemical Works Ltd | ハロゲン化２−（３−ブテニルスルファニル）−１，３−チアゾールを製造する方法 |
| JP2010132661A (ja) * | 2002-01-15 | 2010-06-17 | Makhteshim Chemical Works Ltd | ハロゲン化２−（３−ブテニルスルファニル）−１，３−チアゾールを製造する方法 |
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