JPS59164653A - 金属被覆光フアイバ−の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は金属被覆光ファイバーの製造方法に係わる。

〔背景技術〕

石英ガラス等よりなる光ファイバーでは、通常紡糸直後
に、樹脂捷たは金属によるプライマリ−コーテングを施
し、光フアイバ表面に微細の傷の発生するのを防雨し、
光ファイバーの強度向上をはかつている。

本発明は」−記被覆のうち、金属を被覆する方法に係わ
るものであるが、捷ず第１図により従来法を説明する。

図において、１は紡糸された光ファイバーであり、２Ｕ
［カーボンるつぼを示し、３は前記るつほに貯えられた
アルミ、鉛、錫等比較的融点の低い溶融金属を示してい
る。

光ファイバー”　ｆニーｈ方より下方に送り、カーボン
るつぼ２の下方のノズル９より前記溶融金属が徐々に流
出する状態で、光ファイバー１を接し、被覆を行えば、
４で示す金属被覆層をそなえる金属被覆光ファイバー１
′が得られる。

ところがこのような製造方法では、光ファイバー１が溶
融金属に直接接触し、高温にさらされるため、冷却後熱
膨張係数の違いから光ファイバー１と被覆金属４に残留
応力を発生し、光ファイバー１′の伝送ロスが増大する
ことがある。

〔発明の開示〕

以」二説明したように、金属を溶融させて光ファイバー
に被覆すると最終的に光ファイバーの伝送ロスを増大さ
せるおそれがあるので、本発明は有機金属化合物の紫外
線による分解反応を用いることにより、光フアイバー上
に金属被覆層を形成させ、安定性の優れた金属被覆光フ
ァイバーを提供しようとするものである。

第２図に本発明を実施する装置の一例を概略的に示す。

図において５は反応容器であり、後述の紫外線を通過さ
せる窓を有するもの、あるいは全体紫外線を通過させ、
且つその材質は内部で生ずる反応に関与しないものが選
択される。

反応容器口はその上下面中心に光ファイバー１，１′を
通過させる挿通孔６，６′を備え、捷た上方には排気孔
７、下方には有機金属原料ガス等供給孔８おいて均一に
生じさせるように配置されることが望ましい。

有機金属化合物としては（ＣＨ３）　３Ｇａ　、　（Ｃ
’２Ｈ’５　）　３Ｇａ　。

（ＣＨ８）ａＡ／＜、　（Ｃ２Ｈ８）３Ａ／、（ＣＨ３
）２Ｚｎ、　（Ｃ２Ｈ５）２Ｚｎ等が用いられる。

図において１１は恒温槽を示し、１２は有機金属化合物
（液体）を示し、有機金属化物１２はキャリヤガスＨ２
により、有機金属原料ガスとして前記有機金属原料ガス
等供給孔８より反応容器５の内部に供給される。」１方
より下方に送られる光ファイバー１は反応容器５に入る
前に、必要に応じ加熱炉等を通し、反応を生ずる適温に
保持される。

前記有機金属原料ガス等供給孔８より反応容器５内に供
給さね、た有機金属原料ガスは光ファイバー１および被
覆を生じた光ファイバー１′に接するが、特に光ファイ
バー１の外表面に紫外線が照射するようにしておけば、
この光ファイバー１の外表面に接したガスはここで、例
えば次の反応を起して光ファイバー１の外表面に金属を
被覆し、照射を受ける間に、その厚みを順次増加させる
。

例えば有機金属原料ガスに（ＣＩ！３）３Ｇａか用いら
れているときの反応に１−次のとおりである。

（ＣＨｇ）３Ｇａ　−ｗ　Ｇａ十３　（ＣＨ３）同様に
（ＣＨ３）　３Ａｇ　、　（Ｃｔｌｇ　）　２Ｚｎ等を
用いれは、光ファイバー１の表面にＡＣ＋　Ｚｎの被覆
膜を得るこ占ができる。

前記紫外線源としては、紫外線ランプ、エキシマ−−レ
ーザー、Ｙへ〇レーザーの第２高調波、アルゴンイオン
化レーザー等が用いられる。

また光ファイバーの温度は金属被覆膜の結晶成長を容易
にするだめ、できるだけ高温が望捷しいが、本発明の低
温での被覆により伝送ロスの増大現象を低下させるとい
う点からはできるだけ低温がよく、実用的な温度範囲と
して光ファイバーの表面温度が２００〜４００°Ｃが望
捷しい。更に前記反応例においては、一種の有機金属原
料ガスのみを供給するように説明したが、同時に複数種
の有機金属原料ガスを供給し、合金組成の金属被覆膜を
形成＝５− することもできるし、区分した反応容器を使用すれば、
異種金属被覆膜を重複被覆することもできる。

〔実施例〕

（””　８　）　Ｂ　Ａ（３ＹＣ用い、キャリヤガスと
してＨ２を用いて、次の試作、試験を行った。

石英光ファイバーの線径：１２５７１ｍ（屈折率差１％
のグレーデツトインデックスファイバー） 被　覆　金　属　　　　ニアルミニウム被　　覆　　厚
　　　　　＝５μｍ 装置温度　　：３５０°Ｃ 試作品の特性 伝送特性（ｏス）　　　　：　１　ｄＢ／ｋｍ（ａｔ　
１．３　μｍ）　　で変化なし 強　　さ　　　　　　　：初期強度５　Ｋｇ／　１本で
経時変化殆んどなし、樹脂被覆した光ファイ バーに比較し防水性安定 〔作用、効果〕 以上説明したように本発明は紫外線による光分解反応（
光誘起反応）を利用するため、光ファイバーの温度が低
くてよく、光ファイバー七金属＝６一 被覆膜との間に残留歪みを生じることなく、密着性がよ
く、且つ防水性を有し、伝送損失の増大を招くことかな
い金属被覆光ファイバーを得ることかできる。

また原料が気体の形で供給されるため、拡散によって光
ファイバーの円周方向に均一に金属膜が形成され、捷だ
原料有機金属化合物の濃度、供給量の制御が容易であり
、これにより金属膜厚の制御か簡単に実施できるように
なった。

更に有機金属化合物を複数種類使用することにより、合
金の形成が可能となり、純金属の使用の場合に比較して
高強度被覆が可能となる。

まだ本発明は光フアイバー防止の直後に実施することが
好適である。

以上のように本発明によれば、極めて良質の金属被覆光
ファイバーを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来法を実施する装置の概略図である。 第２図は本発明を実施する装置の概略図である。 １・・光ファイバー、１′・・・金属被覆された光ファ
イバー、２・・・カーボンるつぼ、３・・溶融金属、４
・・・金属被覆層、５・・・反応容器、６．６′・・・
光フアイバー挿通孔、７・・・排気孔、８　有機金属原
料ガス等供給孔、９・・・ノズル、１０・・・紫外線源
、１１・・・恒温槽、１２・・・有機金属化合物。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （＋）　　有機金属化合物の紫外線による分解反応を用
   いることにより、光フアイバー上に金属被覆層を形成す
   ることを特徴とする金属被覆光ファイバーの製造方法。 （２）　　有機金属化合物として、（ＣＨ８）８Ｇａ。 （Ｃ２Ｈ５）ＢＧａ、　（ＣＨ３）ＢＡ７（、（Ｃ２Ｈ
   ｓ）ａＡｊ？、　（ＣＨＢ）２Ｚｎ。 （Ｃ１１２Ｈ５）　２Ｚｎの一種または複数種を用いる
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の金属被覆
   光ファイバーの製造方法。 （３）　　光ファイバーの温度ヲ２００〜４００℃に保
   つことを特徴とする特許請求の範囲第１項もしくは第２
   項記載の金属被覆光ファイバーの製造方法。