JPS59174272A

JPS59174272A - リフロ−炉

Info

Publication number: JPS59174272A
Application number: JP4938183A
Authority: JP
Inventors: Toshihiko Yasumura; 安村　敏彦
Original assignee: Rohm Co Ltd
Current assignee: Rohm Co Ltd
Priority date: 1983-03-23
Filing date: 1983-03-23
Publication date: 1984-10-02

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（イ）産業上の利用分野この発明はハンダ付けの除用いるリフロー炉に関する。

（ロ）従来技術一般に、ハイブリッドＩＣ等の製造においては、予めペ
ーストハンダをのせた基板にチップ部品、ＩＣ等のパー
ツを載置したもの（以下、ワークという）を加熱して、
前記ハンダをとかし、再びこれを冷却してハンダを固め
、これによって部品等を基板に装着することが行われて
いるが、このとき用いられるものかりフロー類である。

従来、この種リフロー炉として、ワークをエンドレスベ
ルトにより直線的に搬送し、この搬送途中においてワー
クを下方から予備加熱し、次いで上方から赤外線ヒータ
により加熱するいわゆるリニアタイプのものが用いられ
ている。

しかし、このリニアタイプのりフロー類では、予備加熱
ヒータ、赤外線ヒータ、冷却ファンなどをほぼ一直線上
に配置しなければならないから、ワークの装填位置から
取出し位置に至るまでの距離が長くなり、操作員の作業
範囲が大きくならざるを得なかった。また、基板に載置
されるパーツの中には、ＩＣ，コンデンサなどのように
その性。

賃上、過熱を避けることが必要なものかあり、そのよう
なパーツに対しては水槽を設けてこれを冷却することが
考えられるが、リニアタイプ独自の構造上、炉全体の構
成が複雑、大型化するとともに、冷却の実効も少なく従
って、パーツが損傷されることは避けられなかったビ＼）目的この発明の目的は、操作員の動作範囲が小さくてすみ、
しかもパーツを効果的に冷却してその損傷を生じせしめ
ないようにした小型でかつ構成の簡単なりフロー類を提
供することにある。

に）構成上記目的を達成するため、この発明で（キワークを保持
するためのワークブラケットを複数個周縁部に配設した
回転テーブルと、前記ワークブラケットに保持された状
態でワークの一方の面を加熱する予備加熱ヒータ及びメ
インヒータとからなるヒータと、前記加熱の際前記ワー
クの他方の面を冷却する水槽とを備えている。

ゆ）実施例第１図はこの発明に係るリフロー炉の概略を示す斜視図
、第２図はその要部を拡大して示す斜視１０は基台、２
０はこの基台上に設置された回転テーブルである。この
回転テーブル２０の駆動機構は基台１０の内部に設けら
れている。３０は前記回転テーブル２０の周縁部に例え
ばアスベスト３１を介して複数個配設されるワークブラ
ケットである。このワークブラケット３０は外方に向っ
て開口しており、ワーク１００を挾持又は把握などして
着脱自在に保持するように構成されている。そして、３
２は遮蔽板で、蝶番３３によって前記ワークブラケット
３０に回動自在に取り付けられている。なお、この遮蔽
板３２はその不使用時にはワークブラケット３０から取
り外しできるようにしてあってもよい。

４０はワークブラケット３０に保持されたワーク１００
の一方の面を上方から赤外線照射して加熱するヒータで
ある。このヒータ４０はワーク１００の全体を一様に照
射できるよう散光を発する予備加熱ヒータ４１と、ワー
ク、１００のハンダ部分を集中的に照射できるよう集光
を発するメインヒータ４２とから構成される。

５０はワークブラケット３０に保持されたワーク１００
の他方の面を下方から冷却するための水槽で、この水槽
は上記ヒータ４０のほぼ真下に設けられている。５１は
水である。５２はサブタンクで、前記水槽５０の上部側
面に設けられており、サブタンク５２と水槽５０との間
には堰５３が設けられている。舅、５５はそれぞれ給水
管、排水管である。６０は前記水槽５０を上下動させる
エアシリンダで、基台１０内に設けられている。７０は
加熱されたワーク１００を冷却するための冷却ファンで
ある。８０は排気ダクトである。なお、ワークブラケッ
ト３０の開口間隔を調整自在にしてあってもよい。

次に上述のように構成されたりフロー類の動作について
説明する。説明の便宜上、回転テーブル２０は時計まわ
り方向に回転するものとし、ワークブラケット３０への
ワーク１００の装填はＡ点で行われ、その取り出しはＢ
点で行われ、また、赤外線照射による加熱は６点で行わ
れるものとする。

回転テーブル２０を一定速度で回転させ、Ａ点でワーク
１００を１つずつ又は複数個ずつワークブラケット３０
に装填する。ワーク１００が赤外線の照射位置Ｃ点に近
ずくと、エアシリンダ印を駆動して水槽園内の水面が所
定の高さになるよう水槽５０を上下動する。この場合、
水槽内の水面の高さは堰５３によって一定に保たれる。

すなわち、赤外線の照射によって水５１が蒸発すること
があっても、給水管５４により給水され、余分の水は排
水管５５により排水されるからである。例えばコンデン
サ１０１は水に浸しても性能に影智されることはないが
、サーミスタ、コイルは水に浸すと性能が低下したり、
使用不能になるので、このようなパーツが基板の下面（
水槽側）に設けであるときは、水槽５０を下方に移動さ
せる。また、基板の上面（照射側）にＩＣ１０２など耐
熱性が弱いパーツが設けであるときは、遮蔽板３２によ
ってＩ　Ｃ１０２の本体のみが遮蔽されるようにする。

而して、予備加熱ヒータ４１の散光によりワーク１００
全体を一様に照射し、次いでメインヒータ４２の集光に
よりワーク１００のハンダ部分を集中的に照射して、予
めワーク１００にのせられたペーストハンダを溶かす。

この時発生する水蒸気その他の気体は排気ダクト８０に
より排出される。そして、冷却ファン７０によって冷却
されハンダか固まったワーク１００はＢ点においてワー
クブラケット３０から取り出さる。

なお、ワークブラケット３０の開口間隔を調整自由にし
ておけば各種寸法の基板に対処できる。

（へ））効果以上詳述したように、この発明ではワーク１００の搬送
は回転テーブル２０によって行うようにしているので、
ワークのワークブラケット３０への装填又は取り出しは
極めて近接した場所で行なうことができる。従って操作
員の作業範囲を小さくできる。また、ワークの装填から
取り出しまでに要する距離を従来のりニヤタイプのもの
と同一にした場合、回転テーブルの直径だけの距離でよ
いから設置に要する面積を大幅に縮小でき、従ってリフ
ロー炉を小型にできる。またワークブラケット３０は回
転テーブル３０の周縁部に設けてありしかも回転テーブ
ルの円周の特定の場所にヒータおよび水槽を設置するこ
とができるから、構成が簡単になる。ワークを加熱する
ヒータは予備加熱ヒータ及びメインヒータによって構成
されているから、ワークを急激に加熱してこれを損傷、
劣化させることがなくなる。さらに、水槽を設けている
からワークの下面に取付けられるパーツを必要により有
効に冷却できる。また、赤外線が直接照射されると劣化
が生ずるパーツについてはワークブラケットに遮蔽板を
設け、これによりパーツを遮蔽することができる。

従って、この発明によるリフロー炉によれは、高品質の
製品を効率よく量産できるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例を示す斜視図、第２図はそ
の要部拡大図である。３０・・・回転テーブル、３０・・・ワークブラケット
、３３・・・遮蔽板、４０・・・ヒータ、４１・・・予
備加熱ヒータ、４２・・・メインヒータ、５０・・・水
槽、１００・＝ワーク。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）ワークを保持するためのワークブラケットを複数
個周縁部に配設した回転テーブルと、前記ワークブラケ
ットに保持された状態で、前記ワークの一方の面を加熱
する予備加熱ヒータ及びメインヒータとからなるヒータ
と、前記加熱の際前記ワークの他方の面を冷却する水槽
とを備えたことを特徴とするりフロー類。
（２）前記ワークブラケットは遮蔽板を取付けられる構
造としたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
りフロー類。