JPS59176879A - 図形の特異点抽出方法 - Google Patents
図形の特異点抽出方法Info
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- JPS59176879A JPS59176879A JP5102683A JP5102683A JPS59176879A JP S59176879 A JPS59176879 A JP S59176879A JP 5102683 A JP5102683 A JP 5102683A JP 5102683 A JP5102683 A JP 5102683A JP S59176879 A JPS59176879 A JP S59176879A
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- point
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈発明の技術分野〉
本発明は、例えば小切手等に押された印鑑の真偽を判別
する場合において、小切手から印影を読み取って画像化
し、印影画像から輪郭線が急峻に変化する点(以下特異
点という)を抽出して、印影等の照合処理を実行する図
形の特異点抽出方法に関する。
する場合において、小切手から印影を読み取って画像化
し、印影画像から輪郭線が急峻に変化する点(以下特異
点という)を抽出して、印影等の照合処理を実行する図
形の特異点抽出方法に関する。
〈発明の背景〉
従来この種特異点抽出方法は、例えは印影を画像化した
後、画像全体につき印影の輪郭線をテーク抽出し、然る
後輪郭線をデータ追跡することにより、輪郭線か急峻に
変化する部分を検出して、これを特異点としている。こ
れがため特異点の抽出処理か複雑化して、処理効率か悪
く、またメモリの大容量化を招く等の不利かあった。
後、画像全体につき印影の輪郭線をテーク抽出し、然る
後輪郭線をデータ追跡することにより、輪郭線か急峻に
変化する部分を検出して、これを特異点としている。こ
れがため特異点の抽出処理か複雑化して、処理効率か悪
く、またメモリの大容量化を招く等の不利かあった。
そこで発明者は、画像化された図形に対し、矩形状視野
をもつマスクを設定し、マスク内を走査してマスク内の
パターン輪郭線およびマスク各辺と交叉する図形パター
ンの端点を検出すると共に、端点間の中点からパターン
輪郭線までの距離計算を実行し、しかる後その極大距離
にかかる点を特異点として抽出する方法を011発した
。
をもつマスクを設定し、マスク内を走査してマスク内の
パターン輪郭線およびマスク各辺と交叉する図形パター
ンの端点を検出すると共に、端点間の中点からパターン
輪郭線までの距離計算を実行し、しかる後その極大距離
にかかる点を特異点として抽出する方法を011発した
。
この方法によれば、画像全体の輪郭線を抽出する必要が
なく、また輪郭線上をデー久追跡してゆく必要もないか
ら、特異点抽出処理が簡略化され、処理効率の向上、メ
モリ容量の節減を実現できる。ところがこの方法におい
て、前記距離計算の結果、極大点が2以上存在すること
があり、かかる場合には特異点の特定が困難であり、特
異点抽出不能として処理することにしていた。このため
特異点の抽出数が少なく、印鑑等の照合精度が低下する
等の不利かあった。
なく、また輪郭線上をデー久追跡してゆく必要もないか
ら、特異点抽出処理が簡略化され、処理効率の向上、メ
モリ容量の節減を実現できる。ところがこの方法におい
て、前記距離計算の結果、極大点が2以上存在すること
があり、かかる場合には特異点の特定が困難であり、特
異点抽出不能として処理することにしていた。このため
特異点の抽出数が少なく、印鑑等の照合精度が低下する
等の不利かあった。
〈発明の目的〉
本発明は、矩形状マスクを用いた特異点の抽出方法に更
に改良を加えて、特異点の抽出数を増すことによって、
特異点抽出処理の効率向上並びにメモリ容量の節減を実
現すると共に、印鑑等の照合精度を向上させた新規な図
形の特異点抽出方法を提供することを目的とする。
に改良を加えて、特異点の抽出数を増すことによって、
特異点抽出処理の効率向上並びにメモリ容量の節減を実
現すると共に、印鑑等の照合精度を向上させた新規な図
形の特異点抽出方法を提供することを目的とする。
〈発明の構成および効果〉
上記目的を達成するため、本発明では、極大点が2以上
存在するような場合、各極大点間の中点を求め、これを
特異点として抽出するようにした。
存在するような場合、各極大点間の中点を求め、これを
特異点として抽出するようにした。
本発明によれば、画像全体の輪郭線をデータ抽出する旧
来の方式に比較して、特異点抽出処理が簡略化され、処
理効率の向」−、メモリ容i+1の節減を実現し得ると
共に、特異点の抽出数減少による印鑑等の照合精度の低
下を防止できる等、発明目的を達成した優れた効果を奏
する。
来の方式に比較して、特異点抽出処理が簡略化され、処
理効率の向」−、メモリ容i+1の節減を実現し得ると
共に、特異点の抽出数減少による印鑑等の照合精度の低
下を防止できる等、発明目的を達成した優れた効果を奏
する。
〈実施例の説明〉
第1図は、小切手に抽された印鑑か真正印鑑か、偽造印
鑑かを判別する装置例を示す。
鑑かを判別する装置例を示す。
図示例の装置は、ケース10内に収容した複数枚の小切
手1を最)部より1枚つつ取り出して、搬送ベル)+1
上へ送り出す。
手1を最)部より1枚つつ取り出して、搬送ベル)+1
上へ送り出す。
各小切手lは、その搬送途中において、小切手に押され
た印影がチェックされ、搬送路士流の振分は装置2か判
別結果に基つき、真正印パイが使用された小切手、偽造
印鑑か使用された小切手および、判別不能な小切手の3
種に振り分け、夫々回収ケース2 + 、22.23へ
送り込む。
た印影がチェックされ、搬送路士流の振分は装置2か判
別結果に基つき、真正印パイが使用された小切手、偽造
印鑑か使用された小切手および、判別不能な小切手の3
種に振り分け、夫々回収ケース2 + 、22.23へ
送り込む。
前記の搬送路途中には、小切手1に印字されたコード番
号を光学的若しくは磁気的方法にて読み取る読取袋(/
l 50と、小切手1に押印された印影を画像化するカ
メラ装置3とか、配備してあり、読取装置50の出力は
外部メモリ5へ、またカメラ装置3の出力は画像プロセ
ッサ4へ、夫々データバス40を介して送られる。前記
外部メモリ5には、複数個の参照印影が格納されており
、読取装置50で読み取られたコード番号に基つき、対
応する参照印影の画像データか取り出されて、画像プロ
セッサ4へ送られる。
号を光学的若しくは磁気的方法にて読み取る読取袋(/
l 50と、小切手1に押印された印影を画像化するカ
メラ装置3とか、配備してあり、読取装置50の出力は
外部メモリ5へ、またカメラ装置3の出力は画像プロセ
ッサ4へ、夫々データバス40を介して送られる。前記
外部メモリ5には、複数個の参照印影が格納されており
、読取装置50で読み取られたコード番号に基つき、対
応する参照印影の画像データか取り出されて、画像プロ
セッサ4へ送られる。
前記刀メラ装@3は、第2図に示す如く、読取ラインセ
ンサ31と二値化回路32とを含み、読取ラインセンサ
31は被照合印影を画像化し、この印影画像を行毎に走
査することにより画像構成に応じた光信号を取り出すと
共に、この光信号を光電変換してアナログ量の画像信号
1□を出力する。また二値化回路32は、画像信号を二
値化し、この二値信号12を列対芯のピットシリアルに
データバス40を介して+Ni iRプロセッサ4へ送
出する。図中発振器33は、読取ラインセンサ31に読
出しパルスを供給すると共に、現信号のポイント座標を
計算するためのX軸II)’″標カウンタ34にクロッ
クパルスを供給する。
ンサ31と二値化回路32とを含み、読取ラインセンサ
31は被照合印影を画像化し、この印影画像を行毎に走
査することにより画像構成に応じた光信号を取り出すと
共に、この光信号を光電変換してアナログ量の画像信号
1□を出力する。また二値化回路32は、画像信号を二
値化し、この二値信号12を列対芯のピットシリアルに
データバス40を介して+Ni iRプロセッサ4へ送
出する。図中発振器33は、読取ラインセンサ31に読
出しパルスを供給すると共に、現信号のポイント座標を
計算するためのX軸II)’″標カウンタ34にクロッ
クパルスを供給する。
更にこのX軸座標カウンタ34からは桁上は仔;号1□
が出力され、この桁上げ信号11.はY軸座標を計算す
るためのY軸座標カウンタ35に供給され、これらX軸
座標カウンタ34およびY軸座標カウンタ35の各出力
は、データバス40を介して画像プロセッサ4に入力さ
れる。
が出力され、この桁上げ信号11.はY軸座標を計算す
るためのY軸座標カウンタ35に供給され、これらX軸
座標カウンタ34およびY軸座標カウンタ35の各出力
は、データバス40を介して画像プロセッサ4に入力さ
れる。
画像プロセッサ4は、第6図および第7図に示す特異点
抽出用プログラム、更には印影の照合や真偽判別に必要
な各種プロクラムを格納するプログラムメモリ41と、
印影画像をXY座標と対応させて特定するためのデータ
をストアするエリアA(第10図に示す)、後記するマ
スクのサイズや各辺の座標に関するデータをストアする
エリアB、Cおよび、特異点に関するデータをストアす
るエリアD、Eを有する画像メモリ43と、画像メモリ
43よりデータを読み出しプログラムを解読実行して特
異点押出史には印影照合にかかる各種演算や一連の処理
を制御する演算制御部42(以下単にCP Uという)
とから構成され、CPU42は更に印鑑の真偽判別結果
に基つき、出力機器24を介して前記振分は装jK11
2へ制御命令を下す。
抽出用プログラム、更には印影の照合や真偽判別に必要
な各種プロクラムを格納するプログラムメモリ41と、
印影画像をXY座標と対応させて特定するためのデータ
をストアするエリアA(第10図に示す)、後記するマ
スクのサイズや各辺の座標に関するデータをストアする
エリアB、Cおよび、特異点に関するデータをストアす
るエリアD、Eを有する画像メモリ43と、画像メモリ
43よりデータを読み出しプログラムを解読実行して特
異点押出史には印影照合にかかる各種演算や一連の処理
を制御する演算制御部42(以下単にCP Uという)
とから構成され、CPU42は更に印鑑の真偽判別結果
に基つき、出力機器24を介して前記振分は装jK11
2へ制御命令を下す。
第3図は特異点抽出方法の一例を示す。図示例では、印
影画像を含む画面60上に縦aヒツト、横bビットの矩
形状視野をもつマスク6を横方向に走査してゆき、走査
過程において、第4図fl) t2)に示す如く、マス
ク6の視野内に特異点を有する字画部分7が含まれたと
き、マスク6内を走査して特異点の存在位置を検出する
。
影画像を含む画面60上に縦aヒツト、横bビットの矩
形状視野をもつマスク6を横方向に走査してゆき、走査
過程において、第4図fl) t2)に示す如く、マス
ク6の視野内に特異点を有する字画部分7が含まれたと
き、マスク6内を走査して特異点の存在位置を検出する
。
第5図はマスク6内に含まれた特異点Pを有する字画部
分7のパターン例を示し、第5図(1)〜(4)に示す
第1〜第4のパターンは特異点Pか字画部分7の右端、
下端、左端、上端に夫々存在位jibtL、第5図(5
)〜(8)に示す第5〜第8のパターンは字画部分7の
右下端、左下端、左上端、右上端に夫々存在位置する。
分7のパターン例を示し、第5図(1)〜(4)に示す
第1〜第4のパターンは特異点Pか字画部分7の右端、
下端、左端、上端に夫々存在位jibtL、第5図(5
)〜(8)に示す第5〜第8のパターンは字画部分7の
右下端、左下端、左上端、右上端に夫々存在位置する。
上記の各パターンにおいて /J+〜第4のパターンは
字画部分7がマスク6の1辺と交叉し、第5〜第8のパ
ターンは字画部分7がマスク6の隣接する2辺と交叉し
ている。
字画部分7がマスク6の1辺と交叉し、第5〜第8のパ
ターンは字画部分7がマスク6の隣接する2辺と交叉し
ている。
第6図および第7図は特異点抽出動作の具体例を示す。
まず第6図のステップ80において、前記マスク6の視
野サイズ等、各種初期値か画像メモリ43のエリアA等
に設定さ!1だ後、ステップ81でマスク6が画面60
」二を1列分走査したの)否かをチェックする。図示例
の場合、CPU42内のメモリエリア44(第9図に示
す)に列カウンタMを設定し、列カウンタMの内容か設
定値mに達したか否かを判定することにより、画面1列
分の走査完了を判断している。この場合、ステップ81
の判定は’No”であるから、ステップ82へ進み、つ
きに横フラクFHかセット済か否かをチェックする。こ
の横フラクFI+は、マスク内に第1−第8のいずハか
パターンか含まハたときにセットされるフラグであり、
この場合、ステップ82のrFH=IJの判定は” N
O”となって、ステップ83へ進み、マスクステップ
84て列カウンタMの内容か1加算される。
野サイズ等、各種初期値か画像メモリ43のエリアA等
に設定さ!1だ後、ステップ81でマスク6が画面60
」二を1列分走査したの)否かをチェックする。図示例
の場合、CPU42内のメモリエリア44(第9図に示
す)に列カウンタMを設定し、列カウンタMの内容か設
定値mに達したか否かを判定することにより、画面1列
分の走査完了を判断している。この場合、ステップ81
の判定は’No”であるから、ステップ82へ進み、つ
きに横フラクFHかセット済か否かをチェックする。こ
の横フラクFI+は、マスク内に第1−第8のいずハか
パターンか含まハたときにセットされるフラグであり、
この場合、ステップ82のrFH=IJの判定は” N
O”となって、ステップ83へ進み、マスクステップ
84て列カウンタMの内容か1加算される。
つきのステップ85はマスク6が画面60上の全行に亘
る走査を完了したか否かをチェックするものであり、図
示例の場合、メモリエリア44内に設定された行カウン
タNの内容か設定値1〕に達したか否かをもって判断す
る。この場合ステップ85の判定は’No”であるから
、ステップ86へ進み、マスク6内に第1〜第8のいず
れかパターンが含まれているか否かの判断処理に移る。
る走査を完了したか否かをチェックするものであり、図
示例の場合、メモリエリア44内に設定された行カウン
タNの内容か設定値1〕に達したか否かをもって判断す
る。この場合ステップ85の判定は’No”であるから
、ステップ86へ進み、マスク6内に第1〜第8のいず
れかパターンが含まれているか否かの判断処理に移る。
この処理は、まずマスク6の各辺を順次走査し、4辺の
内1辺または隣接する2辺にのみ印影の構成点(以下「
黒画素」と称する)が存在する場合に、マスク6内に特
異点を有する字画部分7か含まれていると推定する。
内1辺または隣接する2辺にのみ印影の構成点(以下「
黒画素」と称する)が存在する場合に、マスク6内に特
異点を有する字画部分7か含まれていると推定する。
つぎにステップ87で前記4辺走査の結果に基つき、マ
スク6内に第1〜第8のパターンの)いずれかに相当す
る字画部分か存在したか否か)を判定し、その判定が”
N O”であると、ステップ81へ戻ることになる。
スク6内に第1〜第8のパターンの)いずれかに相当す
る字画部分か存在したか否か)を判定し、その判定が”
N O”であると、ステップ81へ戻ることになる。
同様の操作が繰り返し実行され、画面1列分の走査が完
了すると、列カウンタMの内容か設定値mに達して、ス
テップ81の判定か“”YES”となり、ステップ88
へ進み、つきに縦フラグFvがセット済か否かをチェッ
クする。この縦フラグFvは、各行の走査において、特
異点Pが抽出されたときにセットされるフラグであり、
ステップ88のl”Fv−IJの判定か’No”の場合
、カウンタNの内容が1加算される。
了すると、列カウンタMの内容か設定値mに達して、ス
テップ81の判定か“”YES”となり、ステップ88
へ進み、つきに縦フラグFvがセット済か否かをチェッ
クする。この縦フラグFvは、各行の走査において、特
異点Pが抽出されたときにセットされるフラグであり、
ステップ88のl”Fv−IJの判定か’No”の場合
、カウンタNの内容が1加算される。
上記マスク6の走査過程において、ステップ87の判定
が’YES”となって、マスク6内に特異点を有する字
画部分が存在する可能性があると判断されたとき、ステ
ップ91へ進み、4・1異点としての条件を充足すれは
、その特異点の座標データを算出する。
が’YES”となって、マスク6内に特異点を有する字
画部分が存在する可能性があると判断されたとき、ステ
ップ91へ進み、4・1異点としての条件を充足すれは
、その特異点の座標データを算出する。
斯くて特異点の条件を充足せず、特異点の抽出がなかっ
たときは、ステップ92の判定が” N O”′となり
、ステップ81へ戻るか、特異点を抽出てきたとき、ス
テップ92の判定かゞ’Y E S ”となり、ステッ
プ93で横フラグFHか、ステップ94て縦フラグFv
か夫々セットされる。これによりステップ82のrFH
=14の判定か゛’Yl逐゛となり、ステップ95て横
フラグFHかクリアされた後、ステップ96てマスク6
は1マスク分(1〕ビツト)横移動し、ステップ97て
列カウンタMの内容が2加算される。かかるステップ9
6.97の処理は、マスク6が同一の特異点を2度抽出
しないことを考慮したものである。
たときは、ステップ92の判定が” N O”′となり
、ステップ81へ戻るか、特異点を抽出てきたとき、ス
テップ92の判定かゞ’Y E S ”となり、ステッ
プ93で横フラグFHか、ステップ94て縦フラグFv
か夫々セットされる。これによりステップ82のrFH
=14の判定か゛’Yl逐゛となり、ステップ95て横
フラグFHかクリアされた後、ステップ96てマスク6
は1マスク分(1〕ビツト)横移動し、ステップ97て
列カウンタMの内容が2加算される。かかるステップ9
6.97の処理は、マスク6が同一の特異点を2度抽出
しないことを考慮したものである。
また[)1■記ステツプ94て縦フラグFvかセットさ
Jlているから、走査がつきの行へ進む際ステップ88
の[Fv−IJの判定か’ Y E S” となり、同
様の趣旨から、ステップ98て縦フラグFvをクリアし
た後、ステップ99でマスク6を1マスクIA(aビ゛
ット)縦移動し、スtテップ100で列カウンタNの内
容を2加算する。
Jlているから、走査がつきの行へ進む際ステップ88
の[Fv−IJの判定か’ Y E S” となり、同
様の趣旨から、ステップ98て縦フラグFvをクリアし
た後、ステップ99でマスク6を1マスクIA(aビ゛
ット)縦移動し、スtテップ100で列カウンタNの内
容を2加算する。
第7図のフローチャートは特異点抽出動作の詳細を示す
。まずステップ110てマスク6内の字画部分7を走査
して輪郭線を構成する黒画素の座標を抽出する。つきに
、第4図ul t2+に示す如く、字画部分7を含むマ
スク6の1辺若しくは隣接2辺につき、両端に位11″
゛1′する黒画素の点Q、Rを検出し、線分Q R間の
長さSを算出する。そしてこの長さSか一定の条件を充
足するとき、っさのステップIIIて線分QRの中心点
Gの相対座m (xo 、 yo )を所出する。つい
てステップ112において、字画部分7の各輪郭点の相
対的座標を(xl、い)(但し1−1゜2、− 、 n
)とすると、中心点Cがら各輪郭点までの距離d1を
次式をもって算出して、画像メモリ43のエリアEヘス
ドアする。
。まずステップ110てマスク6内の字画部分7を走査
して輪郭線を構成する黒画素の座標を抽出する。つきに
、第4図ul t2+に示す如く、字画部分7を含むマ
スク6の1辺若しくは隣接2辺につき、両端に位11″
゛1′する黒画素の点Q、Rを検出し、線分Q R間の
長さSを算出する。そしてこの長さSか一定の条件を充
足するとき、っさのステップIIIて線分QRの中心点
Gの相対座m (xo 、 yo )を所出する。つい
てステップ112において、字画部分7の各輪郭点の相
対的座標を(xl、い)(但し1−1゜2、− 、 n
)とすると、中心点Cがら各輪郭点までの距離d1を
次式をもって算出して、画像メモリ43のエリアEヘス
ドアする。
っきにステップ113に詞いて、上記の各側i’fll
; 11i1中、その極大値Tを1乃至複数抽出する。
; 11i1中、その極大値Tを1乃至複数抽出する。
令弟11図に示す如く、2個の極大値T、 、 T2を
抽出したと仮定すると、つぎのステップ114の「極大
値複数個か」の判定か” Y E S ”となり、ステ
ップ115へ進み、極大点U、 、 02間を結ぶ線分
の中点を特異点Pとして抽出する。一方1個の極大値の
みか抽出されたとき、ステップ114の判定が’No’
”となり、ステップ116゜てその極大点を特異点Pと
して抽出する。
抽出したと仮定すると、つぎのステップ114の「極大
値複数個か」の判定か” Y E S ”となり、ステ
ップ115へ進み、極大点U、 、 02間を結ぶ線分
の中点を特異点Pとして抽出する。一方1個の極大値の
みか抽出されたとき、ステップ114の判定が’No’
”となり、ステップ116゜てその極大点を特異点Pと
して抽出する。
今時異点I)の相対的座標を(xi、yi)とすると、
っきのステップ117ではこの相対座標を画面60にお
ける絶対座標(Xi、Yi)に変換する。この絶対座標
(Xi、、Yi)は、画面60Lにおけるマスク6の始
端点Z (第8図に示す)の絶対座標を(i、j)、画
面60の原点0の絶対座標を(+ 、l)とすると、次
式で与えられる。
っきのステップ117ではこの相対座標を画面60にお
ける絶対座標(Xi、Yi)に変換する。この絶対座標
(Xi、、Yi)は、画面60Lにおけるマスク6の始
端点Z (第8図に示す)の絶対座標を(i、j)、画
面60の原点0の絶対座標を(+ 、l)とすると、次
式で与えられる。
」二記の演算によって、特異点Pの絶対座標か算出され
、かかる座標データは画像メモリ43のエリアDヘスド
アされる。
、かかる座標データは画像メモリ43のエリアDヘスド
アされる。
第1図は印鑑照合装置の構成を示す説明図、第2図はカ
メラ装置の回路ブロック図、第3I<:および第4図+
1+ +21は特異点抽出方法を示す説明図、第5図(
1)〜(81はマスク内のパターン例を示す説明図、第
6図および第7図は特異点抽出動作を示すフローチャー
1−1第8図は座標変換の原理を示す説明図、第9図お
よび第1O図はメモリ構成を示す説明図、第11図は本
発明にかかる特異点抽出方法を示す説明図である。 6−マスク P 特異点 特許出願人 立石電機株式会社 ′+〃フ (2) 番、5回
メラ装置の回路ブロック図、第3I<:および第4図+
1+ +21は特異点抽出方法を示す説明図、第5図(
1)〜(81はマスク内のパターン例を示す説明図、第
6図および第7図は特異点抽出動作を示すフローチャー
1−1第8図は座標変換の原理を示す説明図、第9図お
よび第1O図はメモリ構成を示す説明図、第11図は本
発明にかかる特異点抽出方法を示す説明図である。 6−マスク P 特異点 特許出願人 立石電機株式会社 ′+〃フ (2) 番、5回
Claims (1)
- 1i11i面一」―に画像化された図形から輪郭線か急
峻に変化する点を特異点として抽出する方法であって、
前記画像に対し矩形状視野をもつマスクを設定し、マス
ク内を走査してマスク内のパターン輪郭線およびマスク
各辺と交叉する図形パターンの端点を検出すると共に、
端点間の中点からパターン輪郭線までの距離計算を実行
17た後、距離の極大値を抽出し、然る後2以上の極大
値が存在するとき、各極大点間の中点を特異点として抽
出することを特徴とする図形の特異点抽出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5102683A JPS59176879A (ja) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | 図形の特異点抽出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5102683A JPS59176879A (ja) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | 図形の特異点抽出方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59176879A true JPS59176879A (ja) | 1984-10-06 |
| JPH0460267B2 JPH0460267B2 (ja) | 1992-09-25 |
Family
ID=12875291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5102683A Granted JPS59176879A (ja) | 1983-03-25 | 1983-03-25 | 図形の特異点抽出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59176879A (ja) |
-
1983
- 1983-03-25 JP JP5102683A patent/JPS59176879A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0460267B2 (ja) | 1992-09-25 |
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