JPS59180543A - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

Info

Publication number
JPS59180543A
JPS59180543A JP5384583A JP5384583A JPS59180543A JP S59180543 A JPS59180543 A JP S59180543A JP 5384583 A JP5384583 A JP 5384583A JP 5384583 A JP5384583 A JP 5384583A JP S59180543 A JPS59180543 A JP S59180543A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bis
methane
diethylaminophenyl
compd
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5384583A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0481182B2 (ja
Inventor
Nobumasa Sasa
信正 左々
Yuzuru Sato
譲 佐藤
Tsugio Yamaoka
亜夫 山岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP5384583A priority Critical patent/JPS59180543A/ja
Publication of JPS59180543A publication Critical patent/JPS59180543A/ja
Publication of JPH0481182B2 publication Critical patent/JPH0481182B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、高感度であって保存安定性および皮膜硬化性
に優れた感光性組成物に関する。
平版印刷用の刷版材料、樹脂凸版材料、プリント配線基
版等作成用フォトレジストナどに用いられる感光性組成
物としては各種のものが知られておシ、□そのうち光ラ
ジカル重合性組成物は、酸素による重合阻害をうけやす
く保存安定性に欠けるばかシでなく、感度も低い。これ
に対し、光カチオン重合性組成物は高感度のものが多い
ものの保存安定性または光硬化性が不十分でオル、保存
安定性を高めようとすると感度の低下をまねいている。
このように、高感度と保存安定性とは両立し難い問題で
あるが、本発明はこの問題点を解消すべく試みたもので
ある。
〔従来技術〕
特開昭55−50001号、同54−74887号各公
報等には、エチレン性不飽和化合物と有機ハaグン化合
物からなる光ラジカル重合組成物が開示されているが、
これらは、ラジカル重合であるため酸累罠よる重合阻害
を受けやすくて保存安定性が低く、低感度である。
一方、オキシラン、オキセタン或いはチイタン、チェタ
ン項含有化合物と、ジアゾニウム塩、ヨー、ドニウム塩
又はスルホニウム塩からなる光カチオン重合組成物が米
国特許第3.708.296号、同3.835,002
号、特公昭52−14277号、同52−14278号
、特開昭51−56885号等に開示されているが、こ
れらは、重合開始剤としてジアゾニワム、ヨードニウム
又はスルホニラム塩を使用しているため、保存安定性が
悪いという欠点がある。また、ビニルエーテル含有化合
物と有機ハロゲン化合物からなる光カチオン重合組成物
が米国特許第3,515,552号明細書に開示されて
いるが、これは、重合性化合物としてビニルエーテル化
合物を用いているため、圓感度で且′)光硬化性も不十
分である。
〔発明の目的〕
そこで、本発明の目的は、高感度で且つ保存安定性およ
び皮膜硬化性に優れている感光性組成物を提供すること
である。
〔発明の構成〕
上記目的全達成する本発明は、オキシラン、ティラン、
オキセタンおよびチェタン環の少なくとも1′)’!に
含有する化合物と有機・・ログン化合物を含有すること
を特徴とする。
すなわち、本発明者らは、オキシラン、ティラン、オキ
セタンおよびチェタン環を少なくとも1つ含有する化合
物(以下、本発明の重合性化合物という)と、有機ハロ
ゲン化合物を含有する感光性組成物によって、高感度性
を抑制することなく、保存安定性および皮膜硬化性′f
:著しく高めることに成功したものであって、高感度性
と保存安定性とは両立し難い問題であると考えられてい
る当該技術分野において全く驚くべき成果であった。
以下余白 以下、本発明について詳述する。
本発明に用いられる重合性化合物は、下記一般式(1)
又は(2)で示されるオキシラン環等を少なくともlり
含有する化合物である。
(式中、Xは酸素原子又は硫黄原子を表わす。)本発明
に用いられるオキシラン環含有化合物は、下記一般、i
<31で示される環管含有するモノマー、ダイマー或い
はオリゴマー又はポリマーの全てを含む。
(式中、11.R2,Rjおよび旧は各々アルキル基、
アリール基、アルコキシ基、アルケニル基又は水素原子
を表わす。) 即ち、本発明において鉱、例えばビスフェノールA(4
,4’−イン7”aビリデンジフェノール)とエピクロ
ルヒドリンとの反応、又は低分子量フェノール−ホルム
アルデヒド樹脂(ノボラック樹脂シラン環含有化合物と
共に使用することができる。
フェニルグリシジルエーテル、4−ビニルシクロヘキセ
ンジオキシド、二酸化リモネン、l、2−シクロヘキセ
ンオキシド、グリシジルアクリレート、グリシジルメタ
クリレート、スチレンオキシド、アリルグリシジルエー
テル等のような希釈剤を粘度調整剤として加えてもよい
さらに、これらの化合物の範囲については、末端おるい
は側鎖中にオキシラン環ヲ含有するポリマー物質を包含
するように拡大できる。これらの化付物の例としては、
ポリグリシジルアクリレートまたはメタクリレート、る
るいはコモノマーの一方としてグリシジルアクリレート
またはメタクリレートを含有するビニルコポリマーがあ
る。有機ハaグン化合物を用いることによって硬化する
その他の種類のオキシラン環含有ポリマーはエボキシー
シaキサン樹脂、エボキシーポリクレタンおよびエポキ
シ−ポリエステルである。このようなポリマーは通常そ
れらの鎖端に、オキシラン環を有している。エボキシー
シaキサン樹脂とその製法は米国化学会誌(Jo Am
、 Chem、 Soc、  ) 81(1959年)
632〜5頁に1イー・ビー・グリュード? ン(E、
 P、 Pluedmann )およびシイφファンガ
ー(G、 Fanger  )によって具体的に示され
ている。
この文献に記載されているように、エポキシ樹脂はまた
米国特許第2,935,488号、同3,235、62
0号、同3,369,055号、同3,739,653
号、同3,398,211号、同3,403,199号
、I’F13,563,850号、同3,567.79
7号、同3..677,995号各明細書等に示されて
いるようにして、アミン、カルボン酸、チオール、フェ
ノール、アルコール等との反応によるような多くの一般
的な方法によって改質することができる。
本発明に使用することのできる更に別のエポキシ樹脂の
例は「ポリマーΦサイエンス拳アンド・テクノa′シイ
」にューヨーク、インターサイエンス出版社発行)■o
1.6(1967年)209〜271頁に示されている
本発明に用いられるオキセタン環含有化合物は下記一般
式(4)で示される環を含有する全ての化合物である。
R9−C−0 IO (式中、R5、R6、R7、RBおよびR9は各々水素
原子5ハaグン原子、ハロアルキル基。
アリールアルキル基、アルコキシ基、アリルオキシ基又
はアセトキシ基を表わす。) その具体的化合物を挙げれば、例えば3,3−ビス(り
aルメテル)オキセタン、3.3−ビス(ヨードメチル
)オキセタン、3,3−ビス(メトキシメチル)オキセ
タン、3.3−ビス(フェノキシメチル)オキセタン、
3−メチル−3−クロルメチルオキセタン、3.3−ビ
ス(アセトキシメチル)オキセタン、3.3−ビス(フ
ルオロメチル)オキセタン、3.3−ビス(ブロモメチ
ル)4オキセタン、3.3−ジメチルオキセタン等が使
用できる。
本発明に用いられるティラン環含有化合物はティラン環
を含有する化合物であればいずれでもよく、例えば、2
.3−エビチオプロピルアクリレートまたはメタクリレ
ートのホモポリマー、あるいは−iモノマーの一方とし
て2.3−エビチオプロピルアクリレートまたはツタク
リレートを含有するビニルコポリマーが挙げられる。
また、本発明に用いられるチェタン環含有化合物はナエ
タン環を含有する化合物であればいずれでもよく、これ
らの化合物の例としては一般式(5) (式中、Rloは水素原子又はメチル基を表わし、nは
1−10の整数を表わす。)で示されるモノマーのホモ
ポリマー、あるいはコモノマーの一方として前記モノマ
ーを含有するビニルコポリマーがある。
本発明において、特に好ましく用いられる重合性化合物
としては、ポリグリシジルアクリレートまたはメタクリ
レート、あるいはコモノ、マーの一方としてグリシジル
アクリレートまたはメタクリレートを含有するビニルコ
ポリマーがある。さらに、2.3−エビチオプロピルア
クリレートまたはメタクリレートのホモポリマーあるい
はコモノマーの一方として2.3−エビチオプロピルア
クリレートまたはメタクリレートを含有するビニルコポ
リマーも好ましく用いられる。
本発明に用いられる重合性化合物は単用されてもよいし
、2以上併用されて・もよい。
以丁余白 次に、本発明において用いられる有機ハロゲン化合物に
ついて説明する。
本発明に用いられる有機・・ロゲン化合物(以下、本発
明の重合開始剤という。)としては公知のあらゆるもの
を用りることかでき、該有機ハロゲン化合物の代表的具
体例としては以下の一般式(5)。
(6)又は(7)で示されるものを挙げることができる
一般式(5) 〔式中、R11はアリール基、アラルキル基、アルキル
基、アルケニル基、アロイル基、異節項状化合物残基(
以上の各基は置換ンヲ有していてもよい)、水素原子、
ハロゲン原子、 R11’ −802−またはR’1l
−8o−(但し、R′11はそれぞれ置換基を有してい
てもよいアリール基、アルキル基または異節項状化合物
残基全表わす)、XI、X2およびX5は水素原子また
はハロゲン原子を表わし、Xi 、X2およびX5は互
いに異なっていても同じでもよいが同時に水素原子であ
ることはない。
〕 その具体例として鉱、四塩化炭素、四臭化炭素、p−ニ
ドOベンゾトリブロマイド、ブaモトリクロロメタン、
ヘキサブロモエタン、ペンシトリクロライド、ヨードホ
ルム、1,1.1−1ブロモ−2−メチル−2−プロパ
ツール、1.1,2.2−テトラブロモエタン、2.2
.2−トリブロモエタノール、1、 i、 t−トリク
ロロ−2−メチル−プロパツール0−二トローα、α、
α−トリフ゛ロモアセトフェノン、m−ニトロ−α、α
、α−トリブロモアセトフェノン、p−ニドa−α、α
、α−トリブ□モアセトフェノンα、α、α−トリブロ
モアセトフェノン、α、α、α−m−テトラブロモアセ
トフェノン、α、α、α−トリブaモー3.4−シクa
ルアセトフェノン、α、α、α−p−テトラブロモアセ
トフェノン、α、α、α、d、α1d−へキサブロモ−
p−ジアセチルベンゼン、ω、ω。
0)−トリブロムキナルジン、ω、ω−ジブaムキナル
ジン、2−ω、ω、ω−トリプロメチルー4−メチルキ
ノリン、ω、ω−ジクロロ−メチル−キノリン、ω−プ
ロムレビジン、2−ω−ブロムメチルイノギノリン、4
−ω、ω、ω−トリブロムーメチルピリミジン、4−フ
ェニール−6−ω、ω−トリフロムーメチルピリミジン
、2−ω、ω、ω−トリクロロメチル−6−二トロベン
ソf 7 ソール、■−7エニールー3−ω、ω、oi
−)リフミロ−5−メチルピラゾール、O)、ωμ−F
IJ フロムーレヒシンープロムメチレート、α−ω、
ω−ジブロムメチルー4−りrj Clピリジン、■−
メチルー2−クロaメチルーベンツイミダゾール、2,
5−ジトリブロムメチル−3,4−ジブロムチオフェン
、ヘキサブロモジメチ、n、 スA ホオキサイド、ペ
ンタブロモジメチルスルホオキサイド、ベキサブ0モジ
メチルスルホン、) +7 りQ Oメチルフェニルス
ルホン、トリフ゛aモメヂルフェニルスルホン、トリク
0ロメチル〜p−クロロフェニルスルホン、トリクロロ
メチルーp−=)ロフェニルスルホン、2−1−リクロ
ロメチルーペンゾブアゾリールスルホン、4,6−シプ
チルビリミジルー2−トリブロモメチルスルホンテトラ
ブロモジメチルスルホン、2.4−ジクロロフェニルト
リクロロメチルスルホン、2−メチル−4−りaロフェ
ニルトリクロロメチルスルホン、2.5−:>メfルー
4−− クロロフェニルトリクロロメチルスルホンおよ
ヒ2.4−ジクロロフェニルトリブロモメチルスルホン
等がある。
一般式(6) %式% (式中、R12は置換または非置換のアルキル基または
アリール基、A1は−802−丑たは−8−1X11は
ハロゲン原子を表わす。) その具体例としては、1,3−ベンゼンジスルア、t=
ルクcy5イh”、2.4−’)ニトロベンゼンスルフ
ォニルクロライド、o−ニトロベンゼンスルフォニルク
ロライド、m−ニトロベンゼン−スルフォニルクロライ
ド、3.3’−ジフェニルスルフォン9スh7:A−ニ
ルクロライド、エタンスルフォニルクcrライ)−1p
−7−ロモベンゼンスルフオニルクロライド、p−ニト
ロベンゼンスルフォニルクロライド、p−ヨードベンゼ
ンスルフォニルクロライド、p−アセトアミドベンゼン
スルフォニルクロライド、p−クロロベンゼンスルフォ
ニルクロライ)”、p−1ルエンスルフオニルクロライ
ド、メタンスルフォニルクロライド、ベンゼンスルフォ
ニルクロライド、m−ニドaベンゼンスルフォニルフル
オライド、ベンゼンスルフォニルプロマイ)”、2.4
− )ニトロベンゼンスルフェニルクロア イ)”オヨ
(j o−ニトロベンゼンスルフェニルクロライドを挙
げることができる。
一般式(力 (式中、2は弗素原子、塩素原子または臭素原子を、Y
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール
基を、A2はベンゾフリル基を表わし、mは1〜3の整
数、nはOまたはlで゛ある。
) Yとして表わされるアルキル基としては炭素数L〜6の
ものが好ましく、代表的なものとしてはメチル基、エチ
ル基、ブチル基が挙げられる。またアリール基としては
フェニル基が代表的ガものとして挙げられる。
Yとして表わされるハロゲン原子としては塩素原子、臭
素原子が代表的なものとして挙げられる。
A2で表わされるベンゾフリル基は2−ベンゾフリル基
であっても、3−ベンゾフリル基であってもよく、また
ベンゾフリル基は置換されていてもよい。
該ベンゾフリル基に置換してもよい基または原子として
は、例えばアルキル基、アルコキシ基、シアノ基、ニト
ロ基、フェノキシ基、フェニル基及びハロゲン原子の如
き1価の基または原子並びに−0−CH2→−の如き2
価の基が代表的なものとして挙げられる。ここに該アル
キル基及び該アルコキシ基としてはそれぞれ炭素数1〜
6のものが好ましい。、 ベンゾフリル基が2−ベンゾフリル基である場合、電子
供与性基が置換する位置としては3位、4位および/ま
たは6位が好ましく、ベンゾフリル基が3−ベンゾフリ
ル基の場合には、2位、4位および/または6位が好ま
しい。
本発明において特に好ましい重合性化合物を次に示す。
〔例示化合物〕
CF2 本発明に用いられる重合開始剤は単用されてもよいし、
2以上併用されてもよい。
本発明においては増感剤と組合せることが更罠好ましい
。即ち、本発明の光カチオン重合性組成物にはポリハa
ゲンの増感剤として作用する従来公知の化合物はすべて
用いることができるが、例えばアリールアミン、スチリ
ルシアニンもしくはメロシアニン染料またはロイコ化合
物等が有用でおる。例えば、アリールアミンとしては、
米国特許第3,042.5 L 5号、同3,510,
304号及び同3,147,117号各明細書、特公昭
47−8103号及び同44−2002号各公報などに
記載されている化合物等が有用であわ、代表的具体例と
しては、アニリン、ジフェニルアミン、0−)ルイジン
、N、N’−ジフェニルバラフェニレンジアミン、N、
N’−ジフェニルエチレンジアミン、p−ヒトミキシジ
フェニルアミン、p−アミノジフェニルアミン、p、p
′−ジアミノジフェニルメタン、インドール、2−メチ
ルインドール、2−フェニルインドール、トリフェニル
イミタソール、ビロール類とアルデヒドの縮合生成物、
インドール類とアルデヒドの縮合生成物、インドールと
アルデヒドとピペリジンとの縮合生成物、ビシゾロン類
とアルデヒドの縮合生成物及び1,1−ビス(p−ジメ
チルアミノフェニル)エチレン、4.4’−ジメチルア
ミノベンゾフェノン、4.4’−ジメチルアミノチオベ
ンゾフェノン、p−ジメチルアミノベンズアルデヒドな
どがある。
次に、スチリル、シアニンまたはメロシアニン染料ベー
スとしては例えば米国特許第3.1.00.703号、
同3,102,810号、同3,095,303号、同
3,102,027号及び同3,109,736号各明
細賽などに記載されている化合物が有用であシ、その代
表的具体例を示せは次の通シである。
4−p−ジメチルアミノスチリルキノリン、2−p−ジ
メチルアミノスチリルキノリン、2−p−ジメチルアミ
ノスチリルベンゾチアゾール、2−(3−(L−エチル
−2(14)−キノリリデン)フロベニル〕キノリン、
2−1:2−メチル−3−(3−エチル−2(3H)−
ベンゾチアゾリリデン)プロペニルベンゾチアゾール、
4−〔(1−エチル−2(1)t)−キノリリデン〕メ
チル〕キノリン、2−〔1−シアノ−5−(■−エチル
ー2(2I()−キノリリデン)−1,3−ペンタジェ
ニル〕キノリン、2−(7−(3−エチル−2(3H)
−ベンゾチアゾリリデン)−1,3,5−へ’jl )
 ’Jエニル〕ベンゾチアゾール、2−(3−(3−エ
チル−2(3H)−ベンゾチアゾリリデン)フロベニル
〕キノリン、4−(2−メチル−3−(1−エチル−2
(LH)−キノリリデン)フロベニル〕キノリン、4−
[L−シアノ−5=(3−メチル−2(3H)−ベンゾ
チアゾリリデン)−1,3−ペンタジェニル〕キノリン
、4−〔(3−エチル−2(3H)−ベンゾチアゾリリ
デン)メチルキノリン、3−エチル−5−((3−エチ
ル−2(3H)−ベンゾオキサソリテン)工f IJ 
テン]ローダニン、■−エチルー3.−[(3−エチル
−2(3H)−ベンゾオキサソリテン)エチリデン〕オ
キシインドール、4−1:(3−エチル−2(3H)−
ベンゾオキサソリテン)−エチリデン〕−3−ベンチル
ー5(4H)−インオキサゾール、3−エチル−5−’
((’1−メチルー4(LH)−キノリテン)−エチリ
デン〕ローダニン、5−((1−メチル−4([)−キ
ノリテン)−エチレン〕−2−メチルメルカ7” ) 
−4(5)−チアゾロン−p−トルエンスルフォネート
等が挙げられる。
次に、ロイコ化合物としては、例えば米国特許第3,1
21,632号、同3,102.029号、同3゜61
5.568号、同3.,142,595号および同3゜
342.604号各明細書などに記載されている化合物
が有用であシ17代表的具体例として、次のも一■を挙
げることができる。
〔【〕  ロイコ色累 (a)  アミノトリアリールメタン類ビス(4−゛ア
ミノー2−ブチルフェニル)(P−ジメチルアミノフェ
ニル)メタン、ビス(4−7ミ/−2−クロロフェニル
)(p−アミノフェニル)メタン、ビス(4−アミノ−
3−11:1ロフエニル)(o−りaoフェニル)メタ
ン、ビス(4−アミ/−3−クロロフェニル)7、エニ
ルメタン、ビス(4−アミノ−3,5−ジエチルフェニ
ル) (o−クロ0フエニル)メタン、ビス(4−アミ
ノ−3,5−ジエチルフェニル)(0−エトキシフェニ
ル)メタン、ビス(4−アミノ−3,5−ジエチルフェ
ニル)(p−メトキシフェニル)メタン、ビス(4−ア
ミンエチルフェニル)(0−りC20フェニル)メタン
、ビス(p−アミノフェニル)(4−アミノ−m−トリ
ル)メタン、ビス(p−7ミノフエニル)(0−クロロ
フェニル)メタン、ビスぐp−アミノフェニル)(p−
りaロフェニル)メタン、ビス(p−アミノフェニル)
(2,4−ジクロロフェニル)メタン、ビス(p−アミ
ノフェニル)(2,5−ジクロロフェニル)メタン、ビ
ス(p−アミノフェニル)(2,6−ジクロロフェニル
)メタン、ビス(p−アミノフェニル)フェニルメタン
−9−メチルアクリジン、ビス(4−7ミ/−)!Jル
)(p−10ロフエニル)メタン、ビス(4−アミノ−
0−トリル)(2゜4−ジクロロフェニル)メタン、ビ
ス(p−アニリノフェニル)(4−アミノ−m−)リル
)メタン、ビス(4−ベンジルアミノ−2−シアノフェ
ニル)(p−アミノフェニル)メタン、ビス(p−ベン
ジルエチルアミノフェニル)(p−1a。
フェニル)メタン、ビス(p−ベンジルエチルアミノフ
ェニル)(p−ジエチルアミノフェニル)メタン、ビス
(p−ベンジルエチルアミノ7エ二ル)(p−ジメチル
アミノフェニル)メタン、ビス(4−ベンジルエチルア
ミノ−o−)IJル)(p−メトキシフェニル)メタン
、ビス(p−ベンジルエチルアミノフェニル)−フェニ
ル−メタン、ビス(4−ベンジルエチルアミン−o−)
リル)(0−クロロフェニル)メタン、ビス<4−ベン
ジルエチルアミノ−〇−トリル)(p−ジエチルアミノ
フェニル)メタン、ビス(4−ベンジルエチルアミノ−
0−トリル)(4−ジエチルアミノ−0−)IJル)メ
タン、ビス(4−ベンジルエチルアミノ−0−トリル)
(p−ジメチルアミノフェニル)メタン、ビス〔2−ク
ロロ−4−(2−1ジエチルアミノエチル)エチルアミ
ノフェニル〕(0−クロロフェニル)メタン、ビス[p
−ビス(2−シアンエチル)アミンフェニル〕フェニル
メタン、ビス〔p−(2−シアンエチル)エチルアミノ
−0−)リル〕(p−ジメチルアミノフェニル)メタン
、ビス[p−(2−シアンエチル)エチルアミノフェニ
ル〕(p−ジエチルアミノフェニル)メタン、ビス(+
〕−ジブチルアミノノエニル)Cp−(2−シアノエチ
ル)メチルアミノフェニルコメタン、ビス(p−ジブチ
ルアミノフェニル)(p−、’エチルアミノフェニル)
メタン、ビス(4−ジエチルアミン−2−ブトキシフェ
ニル)(p−ジエチルアミノフェニル)メタン、ビス(
4−ジエチルアミノ−2−クロロフェニル)0−)リル
メタン、ビス(p−ジエチルアミノフエニ/I−)(p
−’Tアミノフェニルメタン、ビス(p−ジエチルアミ
ノフェニル)(4−アミノ−1−ナフチル)メタン、ビ
ス(p−ジエチルアミノフェニル)(m−7トキシフエ
ニル)メタン、ビス(p −ジエチルアミノフェニル)
 (g −りo 。
フェニル)メタン、(p−ジエチルアミノフェニル)(
p−シアノフェニル)メタン、ビス(p−シーx、fル
アミノフェニル)(o−クロロフェニル)メタン、ビス
(p−ジエチルアミノフェニル)(p−シアノフェニル
)メタン、ビス(p−ジエチルアミノフエニx)(2,
4−ジクロロフェニル)メタン、ビス(p−ジエチルア
ミノフェニル)(4−:>エチルアミノ−1−ナフチル
)メタン、ビス(p−ジエチルアミノフェニル)(p−
ジメチルアミノフェニル)メタン、ビス(p−ジエチル
アミノフェニル)(4−エチル了ミノー1−ナフチル)
メタン、ビス(p−ジエチルアミノフェニル)−2−ナ
フチルメタン、ビス(p−”エチルアミノフェニル)(
p−二トロフェニル)メタン、ビス(p−ジエチルアミ
ノフェニル)2−ピリジルメタン、ビス(p−ジエチル
アミ/−rn−トリル)(p−ジエチルアミノフェニル
)メタン、ビス(4−ジェチA・アミノ−o−)リル)
(〇−りaロフェニル)メタン、ビス(4−ジエチルア
ミノ−0−トリル)(p−ジエチルアミノフェニル)メ
タン、ビス(4−ジエチルアミノ−o−1−リル)(p
−ジフェニルアミノフェニル)メタン、ビス(4−:>
エチルアミノ−0−) IJル)7x=ルメタン、ビス
(4−′)メチルアミノ−2−ブロモフェニル)フェニ
ルメタン、ビス(p−1メチルアミノフエニル)(4−
アミノ−L−ナフチル)メタン、ビス(p−ジメチルア
ミノフェニル)(p−ブチルアミノフェニル)メタン、
ビス(p−ジメチルアミノフェニル)(p、−ブチルエ
チルアミノフェニル)メタン、ビス(p−ジメチルアミ
ノフェニル)(p−クロロフェニル)メタン、ビス(p
−ジメチルアミノフェニル)(p−ジエチルアミノフェ
ニル)メタン、ビス(p−ジメチルアミノフェニル)(
4−ジメチルアミノ−L−ナフチル)メタン、ビス(p
−ジメチルアミノフェニル)(6−ジメチルアミノ−m
−トリル)メタン、ビス(p−ジメチルアミノフェニル
)(4−ジメチルアミノ−0−トリル)、メタン、ビス
(p−ジメチルアミノフェニル)(4−エチルアミノ−
1−ナフチル)メタン、ビス(p−ジメチルアミノフェ
ニル)(p−へキシルオキシフェニル)メタン、ビス(
p−ジメチルアミノフェニル)(p−メトキシフェニル
)メタン、ビス(p−ジメチルアミノフェニル)(5−
メチル−2−ピリジル)メタン、ビス(p−ジメチルア
ミノフェニル)2−キノリルメタン、ビス(p−ジメチ
ルアミノフェニル)0−)リルメタン、ビス(p−ジメ
チルアミノフェニル)(1,3,3−1’17メチルー
2−インドリニリテンメチル)メタン、ビス(4−ジメ
チルアミノ−o−トリル)(p−アミノフェニル)メタ
ン、ビス(4−ジメチルアミノ−O−) !Jル) (
o −7−ロモフエニル)メタン、ビス(4−ジメチル
アミン−o−1−リル〕(〇−シアノフェニル)メタン
、ビス(4−ジメチルアロ/−o−トリル)(0−フル
オロフェニル)メタン、ビス(4−ジメヂルアミノー〇
−トリル)1−ナフチルメタン、ビス(4−ジメチルア
ミン−0−) IJル)フェニルメタン、ビス(p−エ
チルアミノフェニル)(0−りaOフェニル)メタン、
ビス(4−エチルアミノ−m−1−リル)(0−メトキ
シフェニル)メタン、ビス(4−エチルアミノ−m−)
リル)(0−メトキシフェニル)メタン、ビス(4−エ
チルアミノ−m−)リル)(p−ジメチルアミノフェニ
ル)メタン、ビス(4−エチル7ミ/−o−)’Jル)
(p−とドロキシフェニル)メタン、ビス〔4−エチル
(2−ヒドロキシエチル)アミノ−m−)リル](p−
ジエチルアミノフェニル)メタン、ビスCp−(2−ヒ
ドロキシエチル)アミノフェニル](0−クロロフェニ
ル)メタン、ヒスCルービス(2−とドロキシエチル)
アミノフェニル](4−ジエチルアミノ−o −’)リ
ル)メタン、ビス[p−(2−メトキシエチル)アミノ
フェニル〕フェニルメタン、ビス(p−メチルアミノフ
ェニル)(p−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(p
 −フロビルアミノフェニル)(m−ブロモフェニル)
メタン、トリス(4−アミノ−o−)リル)メタン、ト
リス(4−アニリノ−o−)リル)メタン、トリス(p
−ベンジルアミノフェニル)メタン、トリス〔4−ビス
(2−シアノエチル)アミノ−〇−トリル〕メタン、ト
リスCp−(2−シアノエチル)エチルアミノフェニル
コメタン、トリス(p−ジブチルアミノフェニル)メタ
ン、トリス(p−ジ−t−ブチルアミノフェニル)メタ
ン、トリス(p−ジメチルアミノフェニル)メタン、ト
リス(4−ジエチルアミノ−2−りaロフェニル)メタ
ン、トリス(p−ジエチルアミノフェニル)メタン、ト
リス(4−ジエチルアミノ−0\−トリル)メタン、ト
リスC1)−ジヘキシルアミノー〇−トリA)メタン、
トリス(4−ジメチルアミン−〇−)リル)メタン、ト
リス(p−へキシルアミノフェニル)メタン、トリス[
p−ビス(2−ヒドロキシエチル)アミンフェニルコメ
タン、トリス(p−メチルアミノフェニル)メタン、ト
リス(p−2オクタデシルアミノフエニル)メタン。
(b)  アミノキサンチン類 3−アミノ−6−シメチルアミノー2−メチル−9−(
o−りoaフェニル)キサンチン、3−アミノー6−ジ
メチルアミノー2−メチル−9−フェニルキサンチン、
3−アミノ−6−ツメチルアミノ−2−メチルキサンチ
ン、3.6−ビス(ジエチルアミノ)−9−(o−クロ
ロフェニル)キサンチン、3,6−ビス(ジエチルアミ
ノ)−9−ヘキシルキサンチン、3,6−ビス(ジエチ
ルアミノ)−9−(o−メトキシカルボニルフェニル)
キサンチン、3,6−ビス(ジエチルアミノ)−9−メ
チルキサンチン、3.6−ビス(ジエチルアミノ)−9
−フェニルキサンチン、3,6−ビス(ジエチルアミノ
)−9−o−トリルキサンチン、3゜6−ビス(ジメチ
ルアミノ・)−9−(o−クロロフェニル)キサンチン
、3.6−ビス(ジメチルアミノ)−9−エチルキサン
チン、3.6−ビス(ジメチルアミノ)−9−(0−メ
トキシカルボニルフェニル)キサンチン、3,6−ビス
(ジメチルアミノ)−9−メチルキサンチン。
(e)  アミノチオキサンチン類 3.6−ビス(ジエチルアミノ)−9−(0−エトキシ
カルボニルフェニル)チオキサンチン、3゜6−ビス(
ジメチルアミノ)−9−(o−メトキシカルボニルフェ
ニル)チオキサンチン、3.6−ビス(ジメチルアミノ
)チオキサンチン、3.6−ジアニリツー9−(o−エ
トキシカルボニル)チオキサンチン。
(d)  アミノ−9,10−ジヒドロアクリジン類3
.6−ビス(ベンジルアミノ) −9,L O−ジヒド
ロ−9−メチルアクリジン、3,6−ビス(ジエチルア
ミノ)−9−ヘキシル−9,[0−ジヒドロアクリジン
、3.6−ビス(ジエチルアミノ)−9゜[O−ジヒド
ロ−9−メチルアクリジン、3.6−ビス(ジエチルア
ミノ) −9,l O−ジヒドロ−9=フエニルアクリ
ジン、3,6−′)アミノ−9−へキシル−9,」0−
ジヒドロアクリジン、3.6−ジアミツー9.IO−ジ
ヒドo−9−メチルアクリジン、3.6−ジアミツー9
.10−ジヒドロ−9−フェニルアクリジン、3.6−
ビス(ジメチルアミノ)−9−へキシル−9,L O−
9ヒドロアクリジン、3.6−ビス(ジメチルアミノ)
 、−9,l O−ジヒドロ−9−メチルアクリジン。
(e)  アミノフェノキサジン類 3.7−ビス(ジエチルアミノ)フエノキサジン−9−
ジメチルアミノ−ベンゾ〔α〕フエノキサソン。
(f)  アミノフェノチアジン類 3.7−ビス(ベンジルアミノ)フェノチアジン。
(支) アミノジヒドロフェナジン類 3.7−ビス(ベンジルエチルアミノ) −5,l O
−ジヒドロ−5−フェニルフェナジン、3.7−ヒス(
ジエチルアミノ)−5−へキシル−5,L O−ジヒド
ロフェナジン、3.7−ビス(ジエチルアミノ) −5
,l O−ジヒドロフェナジン、3.7−ビス(ジメチ
ルアミノ)−5−(p−クロロフェニル) −S、 t
 O−ジヒドロフェナジン、3.7−ジア2ノー5−(
o−クロロフエこル)−5,40−ジヒドロフェナジン
、3.7−ジアミツー5.10−ジしドロフェナジン、
3.7−ジアミツー5.lO−ジζドC2−5−メチル
フェナジン、3.7−ジアミツー5−へキシル−5,1
0−ジヒドロフェナジン、3.7−ビス(ジメチルアミ
ノ゛) −5,t O−ジヒドロフェナジン、3.7−
ビス(ジメチルアミノ)−5、LO−9ヒドロ−5−フ
ェニルフェナジン、3゜7−ビス(ジメチルアミノ) 
−5,l O−ジヒドロ−5−メチルフ千ナジン。
(舅  アミノフェニルメタン類 1.4−ビス〔ビス−p(ジエチルアミノフェニル)メ
チルコピペラジン、ビス(p−ジエチルアミノフェニル
)アニリノメタン、ビス(p−ジエチルアミノフェニル
)−1+ベンゾトリアゾリルメタン、ビス(p−ジエチ
ルアミノフェニル)−2−ベンゾトリアゾリルメタン、
ビス(p−ジエチルアミノフェニル)(p−りaロアニ
IJ / ) メタン、ビス(p−ジエチルアミノフェ
ニル) (2゜4−ジクロロアニリノ)メタン、ビス(
p−ジエチルアミノフェニル)(メチルアミノ)メタン
、ビス(p−ジエチルアミノフェニル)(オクタデシル
アミノ)メタン、ビス(p−ジメチルアミノフェニル)
アミノメタン、ビス(p−ジメチルアミノフェニル)ア
ニリノメタン、1.1−ビス(ジメチルアミノフェニル
)エタン、l、【−ビス(ジメチルアミノフェニル)ヘ
プタン、ビス(4−メチルアミノ−m−)リル)アミノ
エタン。
(1)  ロイコイングミン類 4−アミノ−4′−ジメチルアミノソフェニルアミン、
p−(p−ジメチルアミンアニリン)フェノール。
(j)  アミノとドロケイ皮酸類(ンT/エタンM、
ロイコメチン類) 4−アミノ−α、β−ジシアノヒトaケイ皮酸、メチル
エステル、4−アミノ−α、β−ジシアノヒドロケイ皮
酸、メチルエステル、4−(p−IQCjアニリノ)−
α、β−ジシアノヒドロケイ皮酸メチルエステル、α−
シアノ−4−ジメチルアミノヒドロケイ皮アミド、α−
シアノ−4−ジメチルアミノヒト0ケイ皮酸、メチルエ
ステル、α、β−ジシアノ−4−ジエチルアミノヒドロ
ケイ皮酸、メチルエステル、α、β−ジシアノー4−ジ
メチルアミノヒドロケイ皮酸アミド、α、β−ジシアノ
ー4−ジメチルアミノヒドロケイ皮酸、メチルエステル
、α、β−ジシアノー4−ジメチルアミノヒトaケイ皮
酸。
(Ill  塩基性NH基を含むロイコ色素のアシル誘
導体。
塩基性のNH基を有し、アシル化した際にアミドをりく
る適当な化合物、但し、ジヒドロフェナジン類、フェノ
チアジン類、およびフェノキサジン類を含む。この種類
の代表的な化合物としては次のものを挙げることができ
る。
[0−アセチル−3,7−ビス(ジエチルアミノ)フェ
ノチアジン、1o−(p−クロロベンゾイル)−3,7
−ビス°(ジエチルアミノ)フェノキサジン、5.10
−ジヒドロ−to−(p−ニトロベンソイル)−5−フ
ェニル−3,r−ヒス−(フェニルエチルアミノ)フェ
ナジン、to−(p−ベンゾイル)−3,7−ビス(ナ
フチルメチルアミノ)フェノキサジン。
その他の化合物としては、トリス−(p−ジメチルアミ
ノフェニル)−ベンジルチオメタン、L−トリス(p−
ジエチルアミノフェニル)メチル−2−フェニルヒドラ
ジン、トリス(4−ジエチルアミノ−0−トリル)エト
キシカルボニルメタン、ビス(4−ジブaビルアミノ−
〇−トリル)(0−フルオロフェニル)ブトキシカルボ
ニルメタン、ビス〔トリス(4−ジエチルアミノ−〇−
トリル)メチル〕ジサルファイド、α、β−ジシアノー
4−ジメチルアミノヒドロケイ皮酸、ヘキシルエステル
、α、β−ジシアノー4−ヘキシルアミノヒトaケイ皮
酸、メチルエステル、α、β−ジシアノー4−へキシル
アミノヒトミケイ皮酸、メチルエステル、α、β−ジシ
アノー4−メチルアミノケイ皮酸、メチルエステル、p
−(2,2−ジシアノエチル)−N、N−ジメチルアニ
リン、4−メトキシ−4’−(1,2,2−)ジシアノ
エチル)アゾベンゼン、4−(1,2,2−)ジシアノ
エチル)アゾベンゼン、p−(1,2,2−4リシアノ
エチル)−N、N−ジメチルアニリン。
(ト) ヒドラジン類 [−(p−ジエチルアミノフェニル)−2−(2−ピリ
ジル)ヒドラジン、1−(p−ジメチルアミノ、エユ/
L、)−2−(2−ピリジ杓;ドレジン、1−(3−メ
チル−2−ベンゾチアゾール)−2−(4−ヒドロキシ
ル−1−エステル)ヒト2ジン、L−(2−ナフチル)
−2−フェニルヒドラジン、t−p−二トロフェニル−
2−フェニルヒドラジン、1−(1,3,3−)ジメチ
ル−2−インドリニル)−2−(3−N−フェニルカル
バモイル−4−ヒドロキシ−1−ナフチル)ヒドラジン
(11ロイフインジゴイド色素 翰 アミノ−2,3−ジヒドロアントラキノン類1.4
−ジアニリノ−2,3−ジヒドロアントラキノン、1.
4−ビス(エチルアミノ)−2,3−ジヒドロアントラ
キノン。
(nll  フェネチルアニリン類 N−(2−シアノエチル)71)−7エネチルアニリン
、N、N−ジエチル−p−フェネチルアニリン、N、N
−ジメチル−p−[:2−(1−ナフチル)エチル〕ア
ニリン。
(0)  ロイコジヒドロアントラセン2.7−ビス(
ジメチルアミノ)−10−p−ジエチルアミノフェニル
−9,L O−ジヒドロ−9,9−ジメチルアントラセ
ン、2.7−ビス(ジメチルアミノ゛) −9,l O
−ジヒドロ−9,9−ジメチルアントラセン、2.7−
ビス(ジメチルアミノ) −10−エチル−9,l O
−ジヒドcl−9,9−ジメチルアントラセン。
その他にもフルオラン色素及びスピaビラン色素も有用
である。
以下余白 本発明の感光性組成物は公知の添加剤を含有することが
できる。例えば本発明の組成物には熱重合禁止剤や表面
平渭剤を加えることができる。
本発明の組成物には更に着色剤、可塑剤等の添加剤を含
有させることができる。M色剤としては、例えば酸化チ
タン、カーボンブラック、酸化鉄、7クロシアニン系顔
料、アゾ系顔料、等の顔料やメチレンブルー、クリスタ
ルバイオレット、ローダミンB1フクシン、オーラミン
、アゾ系染料、アントラキノン系染料等の染料があげら
れる。可塑剤としては、ジメチルフタレート、ジエチル
フタレート、ジブチルフタレート、ジインブチルフタレ
ート、ジアリールフタレート、ジオクチル7タレート、
オクチルカグリルフタレート、ジシクロへキシルフタレ
ート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレ
ート、ジインデシル7タレート、ジアリールフタレート
等の7タル酸エステル類ニジメチルグリコールフタレー
ト、エチルフタリルエチルグリフレート、メチル7タリ
ルエチルグクコレート、ブチ゛ル7タリルブチルグリコ
レ−ト、トリエテ1/ングリコールジカグリル酸エステ
ル弊のグリコールエステル類ニトリクレジルホスフェ−
)、)1.1フ工ニルホスフエート等ノl)ン酸エステ
ル類;ジインブチルアジペート、ジオクチルアジペート
、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジブチル
マレート、ジオクチルアゼ1ノート、ジブチルマレート
等の脂肪族2塩基酸エステル類:クエン酸トリエチル、
クエン酸トリブチル、グリセリントリア七チルエステル
、ラウリン酸ブチル、4,5−ジェポキシシクロヘキサ
ン−1,2−ジカルボン酸、ジー2−エチルヘキシル等
があげられる。
本発明の組成物に用いる本発明の重合性化合物の添加量
は感光性組成物の全固型分中20−100重量係、好ま
しくは70〜lOO重量憾である。
また光重合開始剤の添加量は本発明の重合性化合物に対
して約1〜50i景憾、好まし、くは5〜30重量幅の
範囲である。さらに、必要に応じてみ加される増感剤の
添加量は光重合開始剤に対して約10〜100重量%、
好ましくは30〜50重量壬である。さらに必要に応じ
て添加される熱重合禁止剤の添加量は本発明の組成物に
対しo、oot〜5重量憾が好ましい。
なお、本発明の組成物を適当な支持体に塗設して得られ
る感光層の膜厚としては0.1μm〜7μm1好ましく
は0.5μm〜5μmがよい。
本発明の組成物を塗設させる支持体としては、寸度的に
安定な板状物が好適に使用できる。かかる支持体として
は、紙、プラスチックス(例えはポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、
アルミニウム、亜鉛、銅などの金属板、二酢酸セルロー
ス、三酢酸セルロース、フロピオン酸セルロース、酪酸
セルロース、酢酸・酪酸セルロース、硝酸セルロース、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチ
1/ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニ
ルアセタールなどのようなプラスチックスのフィルムな
どがある。これらの支持体の中でポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンがラミネートされた紙、またはア
ルミニウム板が好ましい。
支持体は必要に応じ表面処理される。例えばアルミニウ
ム板は砂目立て処理、珪酸ンーダ、弗化ジルコニウム酸
カリウム、リン酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの1又は2以上の組合せによる表面処
理がなされていることが好ましい。
プラスチックの表面を有する支持体の場合には、化学的
処理、放電処理、火焔処理、紫外線処理、高周波グロー
放電処理、活性プラズマ処理などの1又は2以上の組合
せによる表面処理がされていることが好せしい。
更に、支持体はその接着性改良のために、′F下塗層設
けられても良い。’F下塗層して適当な合成樹脂として
は、アクリル酸エステル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、塩
化ビニリデン−アクリロニトリル−イタコン酸共重合樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合樹
脂、アクリル酸アミド又はメタクリル酸アミド誘導体と
アクリル酸又はメタクリル酸のアルキルエステル、脂肪
酸ビニルエステル、スチレン又ハアクリロニトリルとの
共重合樹脂、フタル酸又はインフタル酸とグリコール類
とのコポリエステル樹脂、グリシジルアクリレート又は
クリシンルメタクリレートの重合体又は共重合体などが
あり、またゼラチンも下塗層成分として有効である。下
塗層を形成するだめの成分は上記の他にも多数の合成樹
脂が知られており、又、塗布液の調整方法や塗布方法に
ついては、本発明が属する写真材料製造工業界では周知
の技術なので適宜それらを応用することができる。
一般には上述したごとき合成樹脂金水または有機溶媒に
よって溶液またはラテックス状となし、これをギーサー
塗布、ロール塗布、エアーナイフ塗布、スプレー塗布な
どの塗布方法によって支持体上に塗布する。
本発明の組成物を塗設して得られる感光層の表面の傷つ
き防止、又は真空密着性改良などのために、本発明の組
成物を適当な支持体上に塗設して得られる感光層上に、
現像時に溶解もしくは膨潤するオーバーコート層を設け
ることができる。このオーバーコート層は、機械的にマ
ント化されたもの、あるいはマント剤が含有される樹脂
層であってもよい。マント剤としては二酸化珪素、酸化
亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、ガラス粒子、ア
ルミナ、でん粉、重合体粒子(たとえばポリメチルメタ
アクリレート、ポリスチレン、フェノール樹脂などの粒
子)および米国特許第2.701.245号、同2,9
92,101明細明細書に記載されているマント剤が含
まれる。これらは二種以上併用することもできる。マン
ト剤を含有するオーバーコート層に使用される樹脂は適
宜選択される。具体的に例えにアラビアゴム、ニカワ、
ゼラチン、カゼイン、セルローズ類(たとえばビスコー
ス、メチルセルローズ、エチルセルロース、ヒトミキシ
エチルセルローズ、ヒトミキシプロピルメチルセルロー
ズ、カルボキシメチルセルローズ等)、でん粉類(例え
ば可溶性でん粉、変性でん粉等)、ポリビニルアルコー
ル、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリル酸、ポリア
クリルアミド、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニル
ビーリドン、ポリアミド等がある。これらは二種以上併
用することもできる。
次に、本発明の組成物の使用法について説明する。
本発明の光カチオン重合性組成物は例えばメチルセルロ
ーズ、エチルセルロース、ジオキサン、アセトン、メチ
ルエチルケト/、シクロヘキサン、γ−ブチaラクトン
、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、エチレン
クロライド、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムア
ミド等の溶媒罠溶解して塗布液となし、これを支持体に
塗布し、乾燥して用いるのが一般的でおる。別の使い方
として透明支持体上に予め着色された染料または顔料含
有マスク層あるいは金属層上に塗布乾燥して用いること
もできる。
なお、本発明の組成物には、バインダーとして本発明の
重合性化合物および本発明の重合開始剤と相溶性を有す
る有機高分子物質等を用いてもよい。
このように調製された塗布液は、公知のホワイラー迦布
、デインプ塗布、ロール塗布、スプレー塗布、エアーナ
イフ塗布、ドクターナイフ塗布などの塗布方法のうちか
ら選択された方法によって、支持体上に塗布される。
上記のように作られた感光層を像露光する光源としては
、例えば超高圧水銀灯、タングステンランプ、水銀灯、
キセノンランプ、CRT光源1 レーザー光源などであ
る。この他にも、一般に用いられる電子線又はX線源で
もよい。
なお、像様露光後においては、溶媒除去或いは剥離現像
等によって未露光部分を除去することが可能である。
本発明の実施態様において、プロセスとして、画像露光
後適轟な加熱手段によシ、本発明の感光性組成物を未露
光部に熱カブリを生じない程度に加熱処理することは好
ましいことである。
以下、実施例を挙げて本発明を例証するが、本発明の実
施態様は以下に限定されない。
〔実施例〕
1.゛J者4喝モ 実施例1 ポリ(2,3−エビチオプロピルメタクリレート)to
gおよびヨードホルム1gをテトラとドロフランに溶解
し、表面を研磨、陽極酸化したアルミニウム板に膜厚1
μmKなるよう塗布乾燥した。
比較サンプルとして、以下の3種の感光液を調整し同様
に塗布乾燥した。
く比較例[〉 〈比較例2〉 く比較例3〉 上記4種類の試料にネガのパターンマスクを通して、ケ
ミカルランプで露光後、ジオキサンで現像すると未露光
部が溶出され画像形成された。次に画像形成に必要なケ
ミカルラングの最低ごネルギー量を露光後直ちに現像し
たものと、100℃で5分間ポストベークした後現像し
たもので比較したところ表1の結果を得た。
表−■ 表1の結果よシ、本発明の感光性組成物の感度□が従来
のものに比較して高く、ボストベークによ)さらに高感
度になることが確認された。なお、比較例3については
、ボストベークを行なりた試料の現像溶出性が不十分で
、保存安定件が悪いことが確認された。
実施例2 ポリ(2,3−エビチオグロビルメタクリレート) i
 o g % ヨードホルム3gおよびチオミヘラーズ
ケトン1gをテトラヒドロフラン(Tl(F’)に溶解
し、実施例1に示した方法により感光層を作成し、ケミ
カルランプによる感度を測定したところ、35mJ/m
の感度が示された。オだ露光後、ボストベーク全行なり
た後現像する方法では0.9mJ/−の高感度が達成さ
れた。また分光感度の測定から紫外域から600nmの
長波長領域まで感光性を持つことが示された。
実施例3 実施例2の感光層についてアルゴンレーザーの可視発振
!(488,514,5nm)K対する感度e 測定し
た。アルゴンレーザーのビームの強度と照射時間金種々
変化させてスポット露光し、ジオキサンで現像後残存し
た皮膜のスポット径から次式によシ感光材料の感度を求
めた。
E”                 Xl、02X
IXt(r/2×LO)  π ここで、E:照射エネルギー量(J/ff1)I:レー
ザーの出力(W) t:照射時間 r:ビーム径(1,25謔) レーザー光強度を8.L5J/cn(−就、4.07J
/−・就、8.15XL、OJ/cd−(8)に対して
照射時間を変化させてスポット露光した場合、現像後の
残存皮嗅のスポット径より第1図の曲線が得られた。レ
ーザー光強度の変化に対して測定点は全て同−曲線上に
プロットされ、相反則が成シ立りことかわかる。
この曲線から、レーザービーム径1.25mに相当する
スポットが得られる露光量は12mJ/iとなシ、この
値は488 nm 、 514.5 nmの光に対する
感度を示す。
上記よフ、本発明の感光材料はレーザー光についても高
感度の感光性を有することが示される。
【図面の簡単な説明】
第り図は実施例3における結果を示すもので実施例2の
感光層についてアルゴンレーザーの1%発振線(488
,514,5nm)に対する感度を示すグラフである。 特許出願人  小西六写真工業株式会社代理人 弁理士
  坂  口 信 昭 (ほか1名)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. オキシラン、チイラン、オキセタンおよびチェタン環の
    少なくとも1つを含有する化合物と有機ハロゲン化合物
    を含有することを特徴とする感光性組成物。
JP5384583A 1983-03-31 1983-03-31 感光性組成物 Granted JPS59180543A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5384583A JPS59180543A (ja) 1983-03-31 1983-03-31 感光性組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5384583A JPS59180543A (ja) 1983-03-31 1983-03-31 感光性組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59180543A true JPS59180543A (ja) 1984-10-13
JPH0481182B2 JPH0481182B2 (ja) 1992-12-22

Family

ID=12954107

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5384583A Granted JPS59180543A (ja) 1983-03-31 1983-03-31 感光性組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59180543A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1048981A1 (en) 1999-04-28 2000-11-02 Fuji Photo Film Co., Ltd. Negative type image recording material
WO2001022165A1 (fr) * 1999-09-17 2001-03-29 Hitachi Chemical Co., Ltd. Compositions a base de resine photosensibles, element photosensible contenant ces compositions, procede de production d'un motif de reserve et procede de production de carte a circuit imprime

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7604206B2 (en) 2001-11-19 2009-10-20 Samsung Electronics Co., Ltd. Monitor improved in a tilting and combining structure
KR100520060B1 (ko) 2002-05-28 2005-10-11 삼성전자주식회사 모니터장치
KR100465792B1 (ko) 2002-07-06 2005-01-13 삼성전자주식회사 디스플레이장치
KR100630969B1 (ko) 2002-08-24 2006-10-02 삼성전자주식회사 디스플레이장치
KR100476090B1 (ko) 2002-09-27 2005-03-11 삼성전자주식회사 모니터장치
KR100482007B1 (ko) 2002-09-28 2005-04-13 삼성전자주식회사 모니터장치
KR100770981B1 (ko) 2002-10-30 2007-10-30 삼성전자주식회사 디스플레이의 스탠드
KR100500234B1 (ko) 2002-11-05 2005-07-11 삼성전자주식회사 디스플레이장치
KR100826605B1 (ko) 2002-11-11 2008-04-30 삼성전자주식회사 모니터장치
KR100770984B1 (ko) 2003-05-23 2007-10-30 삼성전자주식회사 디스플레이 장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4916503A (ja) * 1972-06-08 1974-02-14
JPS5137216A (ja) * 1974-09-26 1976-03-29 Asahi Chemical Ind
JPS53109550A (en) * 1977-03-04 1978-09-25 Thomson Csf Compound system crosslinkable by photon radiation

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4916503A (ja) * 1972-06-08 1974-02-14
JPS5137216A (ja) * 1974-09-26 1976-03-29 Asahi Chemical Ind
JPS53109550A (en) * 1977-03-04 1978-09-25 Thomson Csf Compound system crosslinkable by photon radiation

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1048981A1 (en) 1999-04-28 2000-11-02 Fuji Photo Film Co., Ltd. Negative type image recording material
WO2001022165A1 (fr) * 1999-09-17 2001-03-29 Hitachi Chemical Co., Ltd. Compositions a base de resine photosensibles, element photosensible contenant ces compositions, procede de production d'un motif de reserve et procede de production de carte a circuit imprime

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0481182B2 (ja) 1992-12-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4701402A (en) Oxidative imaging
US4251619A (en) Process for forming photo-polymeric image
US4548896A (en) Dye-bleach materials and process
US4410621A (en) Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan
US4780393A (en) Photopolymerizable composition and photopolymerizable recording material containing same
US3595658A (en) Non-silver direct positive dye bleachout system using polymethine dyes and colored activators
US4139390A (en) Presensitized printing plate having a print-out image
US5208135A (en) Preparation and use of dyes
US4966828A (en) Carbonylmethylene-heterocyclic compounds containing trihalogenomethyl groups, process for their preparation, and light-sensitive mixture containing the compounds
US4505793A (en) Photopolymerizable compositions
US3502476A (en) Light-sensitive photographic materials
US4062686A (en) Sensitizers for photocrosslinkable polymers
EP0467589A1 (en) Photosensitive thermally developed compositions
JPS59180543A (ja) 感光性組成物
US4966830A (en) Photopolymerizable composition
GB2083832A (en) Photopolymerization initiator compositions containing N-oxy-N- heterocyclic activator compounds
JPH0461004B2 (ja)
US3598592A (en) Storage-stable photosensitive aminotriarylmethane/selected organic photooxidant compositions
US5057398A (en) Photopolymerizable composition and photopolymerizable recording material containing same
JPH06506784A (ja) リス印刷版
USRE27922E (en) Image-forming elements containing cross- linkable polymer compositions and processes for their use
JPH0431863A (ja) 光重合性組成物
US3954468A (en) Radiation process for producing colored photopolymer systems
US3630736A (en) Leuco dye/hexaarylbiimidazole compositions and processes
US4769459A (en) Oxidative imaging