JPS59180832A - 磁気記録材用アルマイト基板 - Google Patents
磁気記録材用アルマイト基板Info
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- JPS59180832A JPS59180832A JP58054009A JP5400983A JPS59180832A JP S59180832 A JPS59180832 A JP S59180832A JP 58054009 A JP58054009 A JP 58054009A JP 5400983 A JP5400983 A JP 5400983A JP S59180832 A JPS59180832 A JP S59180832A
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- Japan
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- alumite
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- magnetic recording
- chromium
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- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C21/00—Alloys based on aluminium
- C22C21/06—Alloys based on aluminium with magnesium as the next major constituent
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73911—Inorganic substrates
- G11B5/73917—Metallic substrates, i.e. elemental metal or metal alloy substrates
- G11B5/73919—Aluminium or titanium elemental or alloy substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/05—Insulated conductive substrates, e.g. insulated metal substrate
- H05K1/053—Insulated conductive substrates, e.g. insulated metal substrate the metal substrate being covered by an inorganic insulating layer
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
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- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12583—Component contains compound of adjacent metal
- Y10T428/1259—Oxide
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ディスク等の磁気記録媒体基板として用い
られるアルマイト基板に関する。
られるアルマイト基板に関する。
高記録密度化の磁気ディスク基板等磁気記録媒体基板に
はアルミニウム合金材表面にアルマイト皮膜層を形成さ
せたいわゆるアルマイト基板が用いられる。
はアルミニウム合金材表面にアルマイト皮膜層を形成さ
せたいわゆるアルマイト基板が用いられる。
このように高記録密度の磁気記録材用としてアルマイト
基板が用いられる理由はアルマイト皮膜は硬質で耐摩耗
性に富み、′ｔ′た研摩性が良好で。
基板が用いられる理由はアルマイト皮膜は硬質で耐摩耗
性に富み、′ｔ′た研摩性が良好で。
高精度の平滑面が得られ易く、従ってその表面に容易に
薄膜の磁性膜を形成することができるからである。
薄膜の磁性膜を形成することができるからである。
ところで、このようなアルマイト基板には一般にアルミ
ニウムに２〜６％程度のマグネシウムを含有せしめた合
金材の表面に硫酸法アルマイト皮膜層を形成したものが
使用されているが、従来のアルマイト基板には次のよう
な欠点があって、磁気記録材の高記録密度化の妨げにな
っていた。
ニウムに２〜６％程度のマグネシウムを含有せしめた合
金材の表面に硫酸法アルマイト皮膜層を形成したものが
使用されているが、従来のアルマイト基板には次のよう
な欠点があって、磁気記録材の高記録密度化の妨げにな
っていた。
即ち、その一つは黒点欠陥といわれる微小ピット状の皮
膜欠陥であって、皮膜層にこの種の欠陥があるとこれが
磁性膜形成に際して磁性膜の陥没部となって、使用時の
信号エラーの原因となるので、可及的にその数を少なく
、シかもその大きさを少くとも３μｍ以下に抑えること
が望まれる。
膜欠陥であって、皮膜層にこの種の欠陥があるとこれが
磁性膜形成に際して磁性膜の陥没部となって、使用時の
信号エラーの原因となるので、可及的にその数を少なく
、シかもその大きさを少くとも３μｍ以下に抑えること
が望まれる。
また、もう一つの欠点は高密度磁気記録材を得る場合に
アルマイト基板上にα−Ｆ ｅ ｓ Ｏ４ｋ スパッタ
その他適宜の方法により被着させて３００〜４００°Ｃ
の釈１度に加熱しγ−Ｆ ｅ ２ Ｏｓ化する方法が採
られるが、このような高温の加熱を行った場合、アルマ
イト皮膜に亀裂を生じ製品不良となることであって、こ
のような亀裂発生を避けるためにはアルマイト皮膜層を
６μｍ以下の薄膜にしなければならないが、このように
極端に薄肉の皮膜を形成したアルマイト基板を硝気ディ
スク基板として使用した場合、皮膜の耐圧強度が劣化す
るために耐ヘツドラッシュ性が低下するという問題を生
ずる。
アルマイト基板上にα−Ｆ ｅ ｓ Ｏ４ｋ スパッタ
その他適宜の方法により被着させて３００〜４００°Ｃ
の釈１度に加熱しγ−Ｆ ｅ ２ Ｏｓ化する方法が採
られるが、このような高温の加熱を行った場合、アルマ
イト皮膜に亀裂を生じ製品不良となることであって、こ
のような亀裂発生を避けるためにはアルマイト皮膜層を
６μｍ以下の薄膜にしなければならないが、このように
極端に薄肉の皮膜を形成したアルマイト基板を硝気ディ
スク基板として使用した場合、皮膜の耐圧強度が劣化す
るために耐ヘツドラッシュ性が低下するという問題を生
ずる。
発明者らは磁気記録材用アルマイト基板についての上記
した問題点を解決すべく鋭意研究を重ねた結果次の知見
を得た。
した問題点を解決すべく鋭意研究を重ねた結果次の知見
を得た。
即ち、基板上に形成されるアルマイト皮膜層に生じる黒
点欠陥はアルミニウム合金中に含まれる鉄、珪素、マン
ガン、クロムその他の不純物に基づいて晶出する全株間
化合物１例えばｐ Ｆ ｅ Ａ−６ｓＭｎＡＪＬ ＋
Ｎ１ＡＡ！＋β−（Ａｌ１−Ｆ ｅ −Ｓ ＋ ）等
が合金材表面に介在すると、その部分がこれらの介在物
粒子の粒径に応じた大きさの皮膜欠落部となってビット
状欠陥を生ずるので、可及的に介在物の数を減少させ、
またその粒径を減少させる必要があること。
点欠陥はアルミニウム合金中に含まれる鉄、珪素、マン
ガン、クロムその他の不純物に基づいて晶出する全株間
化合物１例えばｐ Ｆ ｅ Ａ−６ｓＭｎＡＪＬ ＋
Ｎ１ＡＡ！＋β−（Ａｌ１−Ｆ ｅ −Ｓ ＋ ）等
が合金材表面に介在すると、その部分がこれらの介在物
粒子の粒径に応じた大きさの皮膜欠落部となってビット
状欠陥を生ずるので、可及的に介在物の数を減少させ、
またその粒径を減少させる必要があること。
また、基板上に形成したアルマイト皮膜層を従来の一般
的な硫酸法アルマイト皮膜に変えてクロム酸洗アルマイ
ト皮膜とするときは皮膜層におけるビット状欠陥の発生
が大巾に抑制され、しかも磁性膜形成のための熱処理に
よって亀裂発生が々いこと。
的な硫酸法アルマイト皮膜に変えてクロム酸洗アルマイ
ト皮膜とするときは皮膜層におけるビット状欠陥の発生
が大巾に抑制され、しかも磁性膜形成のための熱処理に
よって亀裂発生が々いこと。
などである。
本発明は上記の如き知見に基づいてなされたものでおっ
て。
て。
重量でマグネシウム２〜６％を含み、残部アルルミニウ
ムおよび不純物からなシ、不純物含有許容限界量が鉄０
．００３％、珪素０．００５％、銅０．２５％、亜鉛０
．５係、マンガンｏ、 ｏ ｏ ０５％。
ムおよび不純物からなシ、不純物含有許容限界量が鉄０
．００３％、珪素０．００５％、銅０．２５％、亜鉛０
．５係、マンガンｏ、 ｏ ｏ ０５％。
クロム０．０００５％、ニッケル０．０００５％、チタ
ンｏ、 ｏ ｏ ｏ ｓ％、その他の不純物元素の合計
０、００１％であるアルミニウム合金材であって。
ンｏ、 ｏ ｏ ｏ ｓ％、その他の不純物元素の合計
０、００１％であるアルミニウム合金材であって。
その表面に厚さ３μｍ 以上のクロム酸洗アルマイト皮
膜層を有する磁気記録材用アルマイト基板である。
膜層を有する磁気記録材用アルマイト基板である。
本発明のアルマイト基板は黒点欠陥や磁性膜形成のため
の熱処理による皮膜の亀裂発生が全く。
の熱処理による皮膜の亀裂発生が全く。
あるいは殆んど見られず、またアルマイト皮膜層の厚さ
を３μｍ以上に採ることによって耐ヘッドクラツシユ性
を改善することができるので高記録密度用の磁気記録材
基板として秀れた性能を有する０ 本発明のアルマイト基板においてアルミニウム材として
重量で２〜６％のマグネシウムを含む合金材を用いる理
由は、この合金が磁気ディスク等の磁気記録材基板とし
て要求される強度、平滑度を得やすい上にアルマイト性
が良好であるからである。
を３μｍ以上に採ることによって耐ヘッドクラツシユ性
を改善することができるので高記録密度用の磁気記録材
基板として秀れた性能を有する０ 本発明のアルマイト基板においてアルミニウム材として
重量で２〜６％のマグネシウムを含む合金材を用いる理
由は、この合金が磁気ディスク等の磁気記録材基板とし
て要求される強度、平滑度を得やすい上にアルマイト性
が良好であるからである。
マグネシウム量が２％以下では基板材として十分々強度
が得られず、また６％以上では合金鋳造に際して組織中
にβ−Ａ−６２Ｍｇｓ を晶出し２合金材を基板に加
工した場合に粗大な介在物となって基板の切削性を損な
ったり、またアルマイト皮膜層の形成に際して黒点欠陥
の原因となυ易い。
が得られず、また６％以上では合金鋳造に際して組織中
にβ−Ａ−６２Ｍｇｓ を晶出し２合金材を基板に加
工した場合に粗大な介在物となって基板の切削性を損な
ったり、またアルマイト皮膜層の形成に際して黒点欠陥
の原因となυ易い。
合金中の不純物元素の許容限界量を鉄０．００３％、珪
素０．００５％、マンガン０．０００５％、クロム０．
０００５％、ニッケル０． ＯＯＯ５％、チタン０．ｏ
ｏ０５％と定めた理由は、これらの不純物元素はアルミ
ニウム地金中に比較的普通に存在する元素であって、し
かもこれらの不純物元素の存在によって鋳造時に晶出す
る金属間化合物の多くがアルマイト皮膜形成に際して皮
膜欠落部生成の原因となり易い元素であるが、それぞれ
の限界ｈＴ以下の存在では鋳造時に生成する金属間化合
物の粒径は極めて微小であって、従来の硫酸法アルマイ
ト皮膜においては兎に角として２本発明のクロム酸洗ア
ルマイト皮膜においてはアルマイト皮膜層における皮膜
欠落による６μｍ以上のビット状欠陥を生ずることがな
いし、またそれ以下の大きさの欠陥を生ずるとしても極
く僅少であって、健全な磁性膜形成に影響を与えること
がないからであるＯ なお、不純物元素中鍋および亜鉛のようにアルミニウム
中に大きな固溶限界を有する元素は比較的多Ｍ１に存在
しても余υ問題にならず、銅０．２５楚、亜鉛０５チま
での含有が許容される０本発明のアルマイト基板は常法
によって展伸加工された合金材の表面をダイヤモンドノ
（イト等によシ精密旋削仕上げを施して鏡面とした後ク
ロム酸１１１４解浴を用いて直流電解を施してアルマイ
ト皮暎層金形成せしめて得られる。
素０．００５％、マンガン０．０００５％、クロム０．
０００５％、ニッケル０． ＯＯＯ５％、チタン０．ｏ
ｏ０５％と定めた理由は、これらの不純物元素はアルミ
ニウム地金中に比較的普通に存在する元素であって、し
かもこれらの不純物元素の存在によって鋳造時に晶出す
る金属間化合物の多くがアルマイト皮膜形成に際して皮
膜欠落部生成の原因となり易い元素であるが、それぞれ
の限界ｈＴ以下の存在では鋳造時に生成する金属間化合
物の粒径は極めて微小であって、従来の硫酸法アルマイ
ト皮膜においては兎に角として２本発明のクロム酸洗ア
ルマイト皮膜においてはアルマイト皮膜層における皮膜
欠落による６μｍ以上のビット状欠陥を生ずることがな
いし、またそれ以下の大きさの欠陥を生ずるとしても極
く僅少であって、健全な磁性膜形成に影響を与えること
がないからであるＯ なお、不純物元素中鍋および亜鉛のようにアルミニウム
中に大きな固溶限界を有する元素は比較的多Ｍ１に存在
しても余υ問題にならず、銅０．２５楚、亜鉛０５チま
での含有が許容される０本発明のアルマイト基板は常法
によって展伸加工された合金材の表面をダイヤモンドノ
（イト等によシ精密旋削仕上げを施して鏡面とした後ク
ロム酸１１１４解浴を用いて直流電解を施してアルマイ
ト皮暎層金形成せしめて得られる。
アルマイト処理に際しては通常のクロム酸法において行
われるペンゴウースチュアート法でも。
われるペンゴウースチュアート法でも。
定電圧法でもよいが、十分な膜厚のアルマイト皮膜層を
得るためには定電圧法の採用が望ましく。
得るためには定電圧法の採用が望ましく。
また定電圧法採用に当っては一般に行われる４０Ｖ程度
の電圧よりも高い電圧で処理する方が好結果を倚やすい
。
の電圧よりも高い電圧で処理する方が好結果を倚やすい
。
次に本発明の実施例を示す。
実施例 １
第１表に示す組成Ａ（本発明合金）およびＢ（比較合金
）の２種類のアルミニウムーマグネシウム合金溶湯を常
法に従ってセラミック質フィルターで沢過し、非金属介
在物を除去した後、水冷式半連続鋳造法によって断面２
５５＋ｍｕＸ ９１０ｖａｎの鋳塊を作シ、これを４９
０°Ｃで６時間加熱して均質化処理を施して８趣厚さま
で熱間圧延し、さらに２ｔｍ厚さまで冷間圧延して、４
２０℃で４時間の仕上げ焼鈍を施して基板用アルミニウ
ム合金材を得た。
）の２種類のアルミニウムーマグネシウム合金溶湯を常
法に従ってセラミック質フィルターで沢過し、非金属介
在物を除去した後、水冷式半連続鋳造法によって断面２
５５＋ｍｕＸ ９１０ｖａｎの鋳塊を作シ、これを４９
０°Ｃで６時間加熱して均質化処理を施して８趣厚さま
で熱間圧延し、さらに２ｔｍ厚さまで冷間圧延して、４
２０℃で４時間の仕上げ焼鈍を施して基板用アルミニウ
ム合金材を得た。
次いで、上記Ａ、Ｂ２種類のアルミニウム合金材を粗切
削後、ダイヤモンド・バイトによる精密旋削を行ない、
更に研摩して所定の鏡面に仕上げた後クロム酸法による
アルマイト皮膜形成を行つた。
削後、ダイヤモンド・バイトによる精密旋削を行ない、
更に研摩して所定の鏡面に仕上げた後クロム酸法による
アルマイト皮膜形成を行つた。
また、比較のため合金材Ａについては従来の硫酸法によ
るアルマイト処理を施した。（記号ＡＩ）。
るアルマイト処理を施した。（記号ＡＩ）。
各基板におけるアルマイト皮膜層の膜厚は６μｍに揃え
た。
た。
アルマイト条件は次の通シである。
クロム酸洗アルマイト条件
クロム酸濃度 １ｏｗｔ％
電圧（定電圧法） ６５Ｖ
浴温 ４０℃
電流密度 ０．３ Ａ／ａイ
硫酸硫酸及アルマイト
条件濃度 １５ｗｔ％
１゛Ｉ圧 １０Ｖ
浴温 ２０℃
電流密度 １．５ Ａ ／ ａは上記のように
して得られたアルマイト基板について顕微情視野（０，
３５５ｔＪ ）内における焦点欠陥の大きさ、数を画像
解析装ｆｆ１ｔ （Ｌ Ｕ Ｚ ＥＸ −５００）を用
いて測定した結果を第２表に示す。
して得られたアルマイト基板について顕微情視野（０，
３５５ｔＪ ）内における焦点欠陥の大きさ、数を画像
解析装ｆｆ１ｔ （Ｌ Ｕ Ｚ ＥＸ −５００）を用
いて測定した結果を第２表に示す。
第２表
第２表の結果よシ１本発明のアルマイト基板。
即ち、２〜６％のマグネシウムを含み、不純物元素を所
定の許容値以下に規制したアルミニウム合金材Ａの表面
にクロム除法アルマイト皮膜を被着させたアルマイト基
板は、不純物元素を所定の許容値以上に含む合金材Ｂに
同様条件でクロム除法アルマイト皮膜を被着させた基板
に比べてＷ点発生数が遥かに少なく、就中磁性膜形成に
際し悪影響を及はすといわれる５μｍ以上の大きさの挾
ｉ点が皆無であることが判る。
定の許容値以下に規制したアルミニウム合金材Ａの表面
にクロム除法アルマイト皮膜を被着させたアルマイト基
板は、不純物元素を所定の許容値以上に含む合金材Ｂに
同様条件でクロム除法アルマイト皮膜を被着させた基板
に比べてＷ点発生数が遥かに少なく、就中磁性膜形成に
際し悪影響を及はすといわれる５μｍ以上の大きさの挾
ｉ点が皆無であることが判る。
また２本発明による合金材を使用した場合でも。
従来の硫酸法アルマイト皮Ｂ！ＡＩＦｊを表面に形成し
たアルマイト基板Ａ′に至っては黒点欠陥の数は本発明
のアルマイト基板の６０倍にも達し、磁性膜形成に恕影
響のある６μｍ以上の黒点欠陥も多数あり１本発明のア
ルマイト基板が高記録密度用磁気記録基板として如何に
優れたものであるかが判る。
たアルマイト基板Ａ′に至っては黒点欠陥の数は本発明
のアルマイト基板の６０倍にも達し、磁性膜形成に恕影
響のある６μｍ以上の黒点欠陥も多数あり１本発明のア
ルマイト基板が高記録密度用磁気記録基板として如何に
優れたものであるかが判る。
また第６表に第１表の組成の合金Ａについて上記と同様
のアルマイト条件でクロム酸性アルマイト皮膜層各３μ
ｍ、４５μｍ、ｌ＋μｍ の厚さで形成させたアルマイ
ト基板Ａおよび同様にして硫酸法アルマイト被膜層を形
成させたアルマイト基板Ａ′について３００８Ｃ，３５
０℃１４００℃に各２時間加熱保持した場合の基板にお
ける割れ発生の程度を顕微鏡観察したものである。表中
０は亀裂が全くないもの、△は部分的に亀裂を生じたも
の。
のアルマイト条件でクロム酸性アルマイト皮膜層各３μ
ｍ、４５μｍ、ｌ＋μｍ の厚さで形成させたアルマイ
ト基板Ａおよび同様にして硫酸法アルマイト被膜層を形
成させたアルマイト基板Ａ′について３００８Ｃ，３５
０℃１４００℃に各２時間加熱保持した場合の基板にお
ける割れ発生の程度を顕微鏡観察したものである。表中
０は亀裂が全くないもの、△は部分的に亀裂を生じたも
の。
×は全面的に亀裂を生じたものを示す。
第 ６ 表
第６表よシ本発明のアルマイト基板、即ち含有不純物元
素について所定の許容限界量に規制したアルミニウムー
マグネシウム合金材表面にクロム酸洗アルマイト皮膜を
６μｍ以上の膜厚で形成せしめた基板は磁性膜形成のた
めに必要とされる３００°Ｃ乃至４００°Ｃの範囲の如
何なる温度に加熱保持しても全く亀裂の発生を見ないの
に対し。
素について所定の許容限界量に規制したアルミニウムー
マグネシウム合金材表面にクロム酸洗アルマイト皮膜を
６μｍ以上の膜厚で形成せしめた基板は磁性膜形成のた
めに必要とされる３００°Ｃ乃至４００°Ｃの範囲の如
何なる温度に加熱保持しても全く亀裂の発生を見ないの
に対し。
従来の硫酸法アルマイト皮膜を形成した基板においては
、亀°裂発生を防止するためには膜厚を３μｍよシ薄く
せざるを得ないことが判る。
、亀°裂発生を防止するためには膜厚を３μｍよシ薄く
せざるを得ないことが判る。
実施例２
第４表に示す組成ＡおよびＡ’（本発明組成合金）６種
類およびＢ（比較組成合金）４種類について実施例と同
様の条件で得られた基板用アルミニウム合金材について
、実施例１と同様のアルマイト条件にてクロム酸洗皮膜
を形成させたアルマイト基板（たソし、Ａ’−６のみは
従来法による硫酸皮膜形成）について２機械的特性値、
黒点発生状況および３５０℃に２時間保持後の亀裂発生
の有無を測定した結果を第５表に示す。皮膜層の膜厚は
５μｍであシ、また黒点亀裂の測定は顕微鏡視野（０，
３５５ｍＡ ）内のものである。
類およびＢ（比較組成合金）４種類について実施例と同
様の条件で得られた基板用アルミニウム合金材について
、実施例１と同様のアルマイト条件にてクロム酸洗皮膜
を形成させたアルマイト基板（たソし、Ａ’−６のみは
従来法による硫酸皮膜形成）について２機械的特性値、
黒点発生状況および３５０℃に２時間保持後の亀裂発生
の有無を測定した結果を第５表に示す。皮膜層の膜厚は
５μｍであシ、また黒点亀裂の測定は顕微鏡視野（０，
３５５ｍＡ ）内のものである。
第５表
第５表の結果より本発明の合金組成のアルミニウム合金
材表面にクロム記法アルマイト皮膜層を形成した本発明
のアルマイト基板（Ａ−１乃至Ａ−５）は黒点の発生少
く、シかも亀裂発生は皆無であるのに対し２本発明の合
金組成であっても硫酸法アルマイト皮膜を形成した基板
（Ａ’ −６）やクロム酸洗アルマイト皮膜を形成し
たものであっても本発明の合金組成のアルミニウム合金
利でないアルマイト基板（Ｂ−７乃至Ｂ −１０）にお
いては黒点欠陥、殊に３μｍ以上の大きさの黒点欠陥が
多数存在し、また特に硫酸法アルマイト皮膜を有する基
板（Ａ’−６）にあっては基板材として致命的である加
熱処理時の亀裂発生があることが判る。
材表面にクロム記法アルマイト皮膜層を形成した本発明
のアルマイト基板（Ａ−１乃至Ａ−５）は黒点の発生少
く、シかも亀裂発生は皆無であるのに対し２本発明の合
金組成であっても硫酸法アルマイト皮膜を形成した基板
（Ａ’ −６）やクロム酸洗アルマイト皮膜を形成し
たものであっても本発明の合金組成のアルミニウム合金
利でないアルマイト基板（Ｂ−７乃至Ｂ −１０）にお
いては黒点欠陥、殊に３μｍ以上の大きさの黒点欠陥が
多数存在し、また特に硫酸法アルマイト皮膜を有する基
板（Ａ’−６）にあっては基板材として致命的である加
熱処理時の亀裂発生があることが判る。
以上述べたように本発明のアルマイト基板は黒点欠陥の
発生は皆無であシ、シかも３μｍ以上の膜厚のアルマイ
ト皮膜層が形成されているのにかかわらず、磁性膜形成
のために必要な３００℃以上の温度での加熱処理によっ
て何等亀裂を発生することがないので、耐ヘッドクラツ
シユ性のすぐれた昼記録密度磁気記録材用アルマイト基
板として抜群の性能を有するものであるといえる。
発生は皆無であシ、シかも３μｍ以上の膜厚のアルマイ
ト皮膜層が形成されているのにかかわらず、磁性膜形成
のために必要な３００℃以上の温度での加熱処理によっ
て何等亀裂を発生することがないので、耐ヘッドクラツ
シユ性のすぐれた昼記録密度磁気記録材用アルマイト基
板として抜群の性能を有するものであるといえる。
特許出願人 日本軽金属株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、重最でマグネシウム２〜６％を含み、残部アルミニ
ウムおよび不純物からなシ、不純物の含有許容限界量が
鉄０．００３％、珪素０． ＯＯ５％。 銅０．２５％、亜鉛０．５％、マンガン０．０００５チ
、クロム０．０００５％、ニッケル０．０００５％、チ
タンｏ、 ｏ ｏ ｏ ｓ％、その他の不純物元素の合
計０．ＯＯ’１％であるアルミニウム合金材であって、
その入面に厚さ３μｍ以上のクロム酸洗アルマイト皮膜
層を有する磁気記録材用アルマイト基板。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58054009A JPS59180832A (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 磁気記録材用アルマイト基板 |
| US06/584,996 US4540449A (en) | 1983-03-31 | 1984-03-01 | Aluminum substrate for magnetic recording media |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58054009A JPS59180832A (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 磁気記録材用アルマイト基板 |
Publications (2)
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| JPH0448859B2 JPH0448859B2 (ja) | 1992-08-07 |
Family
ID=12958576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58054009A Granted JPS59180832A (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 磁気記録材用アルマイト基板 |
Country Status (2)
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| JP (1) | JPS59180832A (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| JP2011190466A (ja) * | 2009-03-11 | 2011-09-29 | Fujifilm Corp | アルミニウム合金基板および太陽電池用基板 |
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Citations (1)
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- 1983-03-31 JP JP58054009A patent/JPS59180832A/ja active Granted
-
1984
- 1984-03-01 US US06/584,996 patent/US4540449A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
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|---|---|---|---|---|
| JPS5473006A (en) * | 1977-11-24 | 1979-06-12 | Fujitsu Ltd | Production of magnetic disc |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011190466A (ja) * | 2009-03-11 | 2011-09-29 | Fujifilm Corp | アルミニウム合金基板および太陽電池用基板 |
| JP2013151737A (ja) * | 2011-12-26 | 2013-08-08 | Kobe Steel Ltd | 磁気ディスク用アルミニウム合金基板およびその製造方法 |
Also Published As
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| JPH0448859B2 (ja) | 1992-08-07 |
| US4540449A (en) | 1985-09-10 |
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