JPS5918651B2 - 硬さ計測表示方法およびその装置 - Google Patents
硬さ計測表示方法およびその装置Info
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- JPS5918651B2 JPS5918651B2 JP11881481A JP11881481A JPS5918651B2 JP S5918651 B2 JPS5918651 B2 JP S5918651B2 JP 11881481 A JP11881481 A JP 11881481A JP 11881481 A JP11881481 A JP 11881481A JP S5918651 B2 JPS5918651 B2 JP S5918651B2
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- signal
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N3/00—Investigating strength properties of solid materials by application of mechanical stress
- G01N3/40—Investigating hardness or rebound hardness
- G01N3/42—Investigating hardness or rebound hardness by performing impressions under a steady load by indentors, e.g. sphere, pyramid
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Strength Of Materials By Application Of Mechanical Stress (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、試料表面に形成された圧痕から試料の硬さを
計測して表示できるようにした方法および装置に関する
。
計測して表示できるようにした方法および装置に関する
。
従来より、試料表面の圧痕の輪郭を認識して、この輪郭
から圧痕の大きさを計算して硬度値を求めるものがある
。
から圧痕の大きさを計算して硬度値を求めるものがある
。
しかしながら、このような従来の手段では、演算の際に
圧痕の輪郭全体を認識してから硬度値を求めることが行
なわれるので、信号処理が煩雑になるという問題点があ
る。
圧痕の輪郭全体を認識してから硬度値を求めることが行
なわれるので、信号処理が煩雑になるという問題点があ
る。
本発明は、このような問題点を解決しようとするもので
、モニタ画面上に映し出された像の圧痕の輪郭全体を目
視により認識しながら、この輪郭にマーカを手動で合わ
せることによつて、圧痕の最大寸法を求め、この寸法値
を計算することによつて試料の硬さを求めるとともに、
寸法値、硬度およびマーカをモニタ画面上に表示できる
ようにした、硬さ計測表示方法およびその装置を提供す
ることを目的とする。
、モニタ画面上に映し出された像の圧痕の輪郭全体を目
視により認識しながら、この輪郭にマーカを手動で合わ
せることによつて、圧痕の最大寸法を求め、この寸法値
を計算することによつて試料の硬さを求めるとともに、
寸法値、硬度およびマーカをモニタ画面上に表示できる
ようにした、硬さ計測表示方法およびその装置を提供す
ることを目的とする。
このため、本発明の硬さ計測表示方法は、試料表面に形
成された圧痕を固体素子カメラによつて撮像し、モニタ
画面上において、上記試料表面の圧痕像を映し出すとと
もに、同圧痕像にマーカを重畳させて映し出し、ついで
同モニタ画面上において上記マーカを手動によつて伸縮
移動させることにより上記圧痕像の最大寸法位置に重合
させて、上記圧痕の最大寸法値に基づき試料の硬さを表
示することを特徴としている。
成された圧痕を固体素子カメラによつて撮像し、モニタ
画面上において、上記試料表面の圧痕像を映し出すとと
もに、同圧痕像にマーカを重畳させて映し出し、ついで
同モニタ画面上において上記マーカを手動によつて伸縮
移動させることにより上記圧痕像の最大寸法位置に重合
させて、上記圧痕の最大寸法値に基づき試料の硬さを表
示することを特徴としている。
また、本発明の硬さ計測表示装置は、試料表面に形成さ
れた圧痕を撮像して電気信号に変換する固体素子カメラ
と、同固体素子カメラからの電気信号を2値化する2値
化回路と、同2値化回路からの2値化された電気信号を
受けて圧痕像として映し出すモニタ画面と、同モニタ画
面上に水平方向または垂直方向のマーカ信号を出力する
マーカ発生回路どをそなえるとともに、同マーカ発生回
路からのマーカ信号を遅延させることにより上記マーカ
の長さと位置とを手動で調整しうる手動コントローラを
そなえ、上記手動コントローラにより調整されたマーカ
信号を受けて試料の圧痕の最大寸法値を演算する第1の
演算回路と、同第1の演算回路からの信号を受けて上記
試料の圧痕の最大寸法値を表示する第1の表示部とが設
けられるとともに、上記第1の演算回路からの信号に基
づいて試料の硬さを演算する第2の演算回路と、同第2
の演算回路からの信号を受けて上記試料の硬さを表示す
る第2の表示部と、上記2値化回路からの2値化された
電気信号および上記マーカ発生回路からのマーカ信号を
合成する合成器とが設けられて、上記モニタ画面が上記
の第1および第2の表示部を兼用していることを特徴と
している。
れた圧痕を撮像して電気信号に変換する固体素子カメラ
と、同固体素子カメラからの電気信号を2値化する2値
化回路と、同2値化回路からの2値化された電気信号を
受けて圧痕像として映し出すモニタ画面と、同モニタ画
面上に水平方向または垂直方向のマーカ信号を出力する
マーカ発生回路どをそなえるとともに、同マーカ発生回
路からのマーカ信号を遅延させることにより上記マーカ
の長さと位置とを手動で調整しうる手動コントローラを
そなえ、上記手動コントローラにより調整されたマーカ
信号を受けて試料の圧痕の最大寸法値を演算する第1の
演算回路と、同第1の演算回路からの信号を受けて上記
試料の圧痕の最大寸法値を表示する第1の表示部とが設
けられるとともに、上記第1の演算回路からの信号に基
づいて試料の硬さを演算する第2の演算回路と、同第2
の演算回路からの信号を受けて上記試料の硬さを表示す
る第2の表示部と、上記2値化回路からの2値化された
電気信号および上記マーカ発生回路からのマーカ信号を
合成する合成器とが設けられて、上記モニタ画面が上記
の第1および第2の表示部を兼用していることを特徴と
している。
以下、図面により本発明の一実施例としての硬さ計測表
示方法およびその装置について説明する。添付図は、本
発明による硬さ計測表示装置を示すもので、第1図はそ
の全体構成図、第2,3図はいずれもその要部を示す電
気回路図、第4図はその試料表面の像と硬さの値とを表
示する一例を示す模式図、第5〜9図はいずれも圧痕か
ら試料の硬さを求める手段を示す説明図である。第1図
に示すごとく、圧痕1が形成された試料2の表面へ光を
照射する投光系3が設けられており、この投光系3は光
源としての照明ランプ4、集光レンズ5、ハーフミラー
6および対物レンズ7で構成されている。
示方法およびその装置について説明する。添付図は、本
発明による硬さ計測表示装置を示すもので、第1図はそ
の全体構成図、第2,3図はいずれもその要部を示す電
気回路図、第4図はその試料表面の像と硬さの値とを表
示する一例を示す模式図、第5〜9図はいずれも圧痕か
ら試料の硬さを求める手段を示す説明図である。第1図
に示すごとく、圧痕1が形成された試料2の表面へ光を
照射する投光系3が設けられており、この投光系3は光
源としての照明ランプ4、集光レンズ5、ハーフミラー
6および対物レンズ7で構成されている。
また、集光レンズ5とハーフミラー6との間には、偏光
板8が着脱できるように介設されている。
板8が着脱できるように介設されている。
投光系3を通じて試料表面へ照射された光は試料表面で
反射して、この反射光が対物レンズ7、ハーフミラー6
およびリレーレンズや接眼レンズから成るレンズ群9を
通じて導かれるようになつている。すなわち、これらの
対物レンズ7、ハーフミラー6およびレンズ群9で反射
系10が構成される。なお、対物レンズ7とハーフミラ
ー6は投光系3と反射系10とに共通な部材として構成
されている。
反射して、この反射光が対物レンズ7、ハーフミラー6
およびリレーレンズや接眼レンズから成るレンズ群9を
通じて導かれるようになつている。すなわち、これらの
対物レンズ7、ハーフミラー6およびレンズ群9で反射
系10が構成される。なお、対物レンズ7とハーフミラ
ー6は投光系3と反射系10とに共通な部材として構成
されている。
ところで、レンズ群9に近接して固体素子カメラ11が
設けられており、この固体素子カメラ11は、レンズ群
9と対向する位置に設けられて多数の光電変換素子がマ
トリツクス状に配列されて構成された光電変換素子群1
2をそなえている。
設けられており、この固体素子カメラ11は、レンズ群
9と対向する位置に設けられて多数の光電変換素子がマ
トリツクス状に配列されて構成された光電変換素子群1
2をそなえている。
これによりこの光電変換素子群12で反射光を電気信号
に変換することができる。なお、光電変換素子群12は
、光電変換素子が例えば9.7mm×12.7i1のス
ペースに490×408個程度マトリツクス状に集積化
されて設けられたものである。
に変換することができる。なお、光電変換素子群12は
、光電変換素子が例えば9.7mm×12.7i1のス
ペースに490×408個程度マトリツクス状に集積化
されて設けられたものである。
また、光電変換素子群12からの電気信号を2値化する
2値化回路13が設けられている。
2値化回路13が設けられている。
この2値化回路13は光電変換素子群12の各光電変換
素子からの電気信号と所定のしきい値とを比較して、こ
のしきい値よりも入力電気信号が大きいときは「1」に
相当する出力信号を、逆に小さいときは「O」に相当す
る出力信号を出すものである。一般に、圧痕1の部分へ
照射された光の反射光は、試料2の他の表面へ照射され
た光の反射光に比べ、反射系10に導かれる光量が少な
いため、2値化回路13により得られる2値化信号は、
圧痕1の部分は「0」に相当する信号となり、圧痕1以
外の部分は「1」に相当する信号となる。
素子からの電気信号と所定のしきい値とを比較して、こ
のしきい値よりも入力電気信号が大きいときは「1」に
相当する出力信号を、逆に小さいときは「O」に相当す
る出力信号を出すものである。一般に、圧痕1の部分へ
照射された光の反射光は、試料2の他の表面へ照射され
た光の反射光に比べ、反射系10に導かれる光量が少な
いため、2値化回路13により得られる2値化信号は、
圧痕1の部分は「0」に相当する信号となり、圧痕1以
外の部分は「1」に相当する信号となる。
この2値化回路13からの2値化電気信号は、マトリツ
クスの配列順序に従つて遂次第1,2の表示部としての
ブラウン管14へ合成器15を介して供給され、これに
より第4図に示すごとく、そのモニタ画面としてのスク
リーン14a上に圧痕1の像1′75S映し出される。
これら、固体素子カメラ11,2値化回路13、合成器
15およびブラウン管14で圧痕像表示系が構成されて
いる。
クスの配列順序に従つて遂次第1,2の表示部としての
ブラウン管14へ合成器15を介して供給され、これに
より第4図に示すごとく、そのモニタ画面としてのスク
リーン14a上に圧痕1の像1′75S映し出される。
これら、固体素子カメラ11,2値化回路13、合成器
15およびブラウン管14で圧痕像表示系が構成されて
いる。
なお、合成器15は、多入力加算回路である。
また、2値化回路13からの2値化電気信号は、同様に
マトリツクスの配列順序に従つて遂次マイクロコンピユ
ータのごとき第2の演算回路16へ供給される。第1〜
3図に示すように、第1の演算回路としての水平方向演
算器17を含む水平方向マーカ発生回路18と、第1の
演算回路としての垂直方向演算器19を含む垂直方向マ
ーカ発生回路20とが設けられており、それぞれ水平方
向マーカ信号MHと垂直方向マーカ信号Mとを合成器1
5へ供給するようになつている。
マトリツクスの配列順序に従つて遂次マイクロコンピユ
ータのごとき第2の演算回路16へ供給される。第1〜
3図に示すように、第1の演算回路としての水平方向演
算器17を含む水平方向マーカ発生回路18と、第1の
演算回路としての垂直方向演算器19を含む垂直方向マ
ーカ発生回路20とが設けられており、それぞれ水平方
向マーカ信号MHと垂直方向マーカ信号Mとを合成器1
5へ供給するようになつている。
水平方向マーカ発生回路18を構成する遅延回路21は
、第2図に示すように、水平ブランキング信号BHを入
力して手動コントローラとしての可変抵抗22を調整つ
まみ47a〔第4図参照〕で調整することによつて、ブ
ラウン管14上の符号A〔第4図参照〕で示される水平
方向マーカMKHの開始点を決める信号をパルス発生回
路23へ供給するようになつている。
、第2図に示すように、水平ブランキング信号BHを入
力して手動コントローラとしての可変抵抗22を調整つ
まみ47a〔第4図参照〕で調整することによつて、ブ
ラウン管14上の符号A〔第4図参照〕で示される水平
方向マーカMKHの開始点を決める信号をパルス発生回
路23へ供給するようになつている。
このパルス発生回路23は、手動コントo−ラとしての
可変抵抗24で、すなわちこれに連結する調整つまみ4
7b〔第4図参照〕でパルス幅を調整し、ブラウン管1
4上の符号B〔第4図参照〕で示される水平方向マーカ
MKHの終了点を決定したパルス幅信号PHをアンド回
路25へ供給するようになつている。
可変抵抗24で、すなわちこれに連結する調整つまみ4
7b〔第4図参照〕でパルス幅を調整し、ブラウン管1
4上の符号B〔第4図参照〕で示される水平方向マーカ
MKHの終了点を決定したパルス幅信号PHをアンド回
路25へ供給するようになつている。
さらに、遅延回路26が設けられており、この遅延回路
26は垂直ブランキング信号BVを入力して、可変抵抗
27で水平方向マーカMKHの垂直幅W,〔第4図参照
〕の上端を決定するようになつており、この上端を決定
した信号はパルス発生回路28へ供給される。
26は垂直ブランキング信号BVを入力して、可変抵抗
27で水平方向マーカMKHの垂直幅W,〔第4図参照
〕の上端を決定するようになつており、この上端を決定
した信号はパルス発生回路28へ供給される。
パルス発生回路28は、可変抵抗29でパルス幅を調整
し、水平方向マーカMKHの垂直幅W,の下端を決定す
るようになつており、この上端・下端の決定された信号
をアンド回路25へ供給するようになつている。
し、水平方向マーカMKHの垂直幅W,の下端を決定す
るようになつており、この上端・下端の決定された信号
をアンド回路25へ供給するようになつている。
アンド回路25は、パルス発生回路23,28からのパ
ルス幅信号を受けて、第4図に示す水平方向マーカMK
Hを生成する水平方向マーカ信号MHを合成器15へ供
給するようになつている。
ルス幅信号を受けて、第4図に示す水平方向マーカMK
Hを生成する水平方向マーカ信号MHを合成器15へ供
給するようになつている。
第3図に示すように、垂直方向マーカ発生回20が設け
られており、この発生回路20の遅延回路30は、垂直
ブランキング信号Bを入力して手動コントローラとして
の可変抵抗31を調整つまみ47c〔第4図参照〕で調
整することによつて、ブラウン管14上の符号C〔第4
図参照〕で示される垂直方向マーカMKVの開始点を決
める信号をパルス発生回路32へ供給するようになつて
いる。このパルス発生回路32は、手動コントローラと
しての可変抵抗33で、すなわちこれに連結する調整つ
まみ47d〔第4図参照〕でパルス幅を調整し、ブラウ
ン管14上の符号D〔第4図参照〕で示される垂直方向
マーカMKVの終了点を決定したパルス幅信号PVをア
ンド回路34へ供給するようになつている。
られており、この発生回路20の遅延回路30は、垂直
ブランキング信号Bを入力して手動コントローラとして
の可変抵抗31を調整つまみ47c〔第4図参照〕で調
整することによつて、ブラウン管14上の符号C〔第4
図参照〕で示される垂直方向マーカMKVの開始点を決
める信号をパルス発生回路32へ供給するようになつて
いる。このパルス発生回路32は、手動コントローラと
しての可変抵抗33で、すなわちこれに連結する調整つ
まみ47d〔第4図参照〕でパルス幅を調整し、ブラウ
ン管14上の符号D〔第4図参照〕で示される垂直方向
マーカMKVの終了点を決定したパルス幅信号PVをア
ンド回路34へ供給するようになつている。
さらに、遅延回路35が設けられており、この遅延回路
35は水平ブランキング信号BHを入力して、可変抵抗
36で垂直方向マーカMKVの水平幅W2〔第4図参照
〕の左端を決定するようになつており、この左端を決定
した信号はパルス発生回路37へ供給される。
35は水平ブランキング信号BHを入力して、可変抵抗
36で垂直方向マーカMKVの水平幅W2〔第4図参照
〕の左端を決定するようになつており、この左端を決定
した信号はパルス発生回路37へ供給される。
パルス発生回路37は、可変抵抗38でパルス幅を調幣
し、水平方向マーカMKHの水平幅W2の右端を決定す
るようになつており、この左端・右端の決定された信号
をアンド回路34へ供給するようになつている。
し、水平方向マーカMKHの水平幅W2の右端を決定す
るようになつており、この左端・右端の決定された信号
をアンド回路34へ供給するようになつている。
アンド回路34は、パルス発生回路32,37からのパ
ルス幅信号を受けて、第4図に示す垂直方向マーカMK
Vを生成する垂直方向マーカ信号MVを合成器15へ供
給するようになつている。
ルス幅信号を受けて、第4図に示す垂直方向マーカMK
Vを生成する垂直方向マーカ信号MVを合成器15へ供
給するようになつている。
これら、水平、垂直方向マーカ発生回路18,20、合
成器15およびブラウン管14でマーカ表示系を構成し
ている。さらに、第2図に示すように、水平方向マーカ
発生回路18を構成する水平方向演算器17が設けられ
ており、パルス発生回路23からの水平方向パルス幅信
号PHをカウンタ39へ入力し、この信号PHが入力し
ている間だけクロツク発生回路40からの調整されたク
ロツク信号をカウントするようになつている。
成器15およびブラウン管14でマーカ表示系を構成し
ている。さらに、第2図に示すように、水平方向マーカ
発生回路18を構成する水平方向演算器17が設けられ
ており、パルス発生回路23からの水平方向パルス幅信
号PHをカウンタ39へ入力し、この信号PHが入力し
ている間だけクロツク発生回路40からの調整されたク
ロツク信号をカウントするようになつている。
このカウンタ40は、水平ブランキング信号BHをクリ
ア信号として用いており、第4図に示す水平方向マーカ
MKHの試料2上での水平方向の長さに対応する長さを
カウントして、その出力をラツチ回路41へ供給する。
ラツチ回路41は、カウンタ39からの出力を入力して
、1画面ないし数画面分の間保持する回路であり、この
ラツチ回路41の出力は第2の演算回路16へ供給され
るようになつている。また、垂直方向マーカ発生回路2
0を構成する垂直方向演算器19が設けられており、パ
ルス発生回路32からの垂直方向パルス幅信号PVをカ
ウンタ42へ入力し、この信号PVが入力している間だ
けクロツク発生回路43からの調整されたクロツク信号
をカウントするようになつている。このカウンタ42は
、垂直ブランキング信号BVをクリア信号として用いて
おり、第4図に示す垂直方向マーカMKVの試料2上で
の垂直方向の長さに対応する長さをカウントして、その
出力をラツチ回路44へ供給する。ラツチ回路44は、
カウンタ42からの出力を入力して、1画面ないし数画
面分の間保持する回路であり、このラツチ回路44の出
力は第2の演算回路16へ供給されるようになつている
。
ア信号として用いており、第4図に示す水平方向マーカ
MKHの試料2上での水平方向の長さに対応する長さを
カウントして、その出力をラツチ回路41へ供給する。
ラツチ回路41は、カウンタ39からの出力を入力して
、1画面ないし数画面分の間保持する回路であり、この
ラツチ回路41の出力は第2の演算回路16へ供給され
るようになつている。また、垂直方向マーカ発生回路2
0を構成する垂直方向演算器19が設けられており、パ
ルス発生回路32からの垂直方向パルス幅信号PVをカ
ウンタ42へ入力し、この信号PVが入力している間だ
けクロツク発生回路43からの調整されたクロツク信号
をカウントするようになつている。このカウンタ42は
、垂直ブランキング信号BVをクリア信号として用いて
おり、第4図に示す垂直方向マーカMKVの試料2上で
の垂直方向の長さに対応する長さをカウントして、その
出力をラツチ回路44へ供給する。ラツチ回路44は、
カウンタ42からの出力を入力して、1画面ないし数画
面分の間保持する回路であり、このラツチ回路44の出
力は第2の演算回路16へ供給されるようになつている
。
ところで、試料の硬さを示すものとして、ブリネル硬さ
、ビツカース硬さ、ヌープ硬さ等があるが、これらの硬
さは圧痕作成の試験荷重をFとすると、次のようにして
求められる。ブリネル硬さHBを求めるには、第5図に
示すように、圧痕1における所定の2方向の最大寸法D
x+DydX,dyを求め丁をDmとすればよく、これ
によりブリネル硬さHBは次のようになる。
、ビツカース硬さ、ヌープ硬さ等があるが、これらの硬
さは圧痕作成の試験荷重をFとすると、次のようにして
求められる。ブリネル硬さHBを求めるには、第5図に
示すように、圧痕1における所定の2方向の最大寸法D
x+DydX,dyを求め丁をDmとすればよく、これ
によりブリネル硬さHBは次のようになる。
また、ビツカ一ろ硬さHVを求めるには、第6図に示す
ように、圧痕1における所定の2方向の脣杢茅曽?ち対
角線の長さDX′,Dy′を求め、?をDmとすればよ
く、これによりピツカース硬さHは次のようになる。
ように、圧痕1における所定の2方向の脣杢茅曽?ち対
角線の長さDX′,Dy′を求め、?をDmとすればよ
く、これによりピツカース硬さHは次のようになる。
ここで、kは定数である。
さらに、ヌープ硬さHKを求めるには、第8図に示すよ
うに、圧痕1における所定方向の最大寸法2を求めれば
よく、これによりヌープ硬さHKは次のようになる。
うに、圧痕1における所定方向の最大寸法2を求めれば
よく、これによりヌープ硬さHKは次のようになる。
ここでK′は定数である。
応じ上記の演算式を適宜選択して、試料2の硬さを演算
する。
する。
例えば、ビツカース硬さHVを求める場合は、上記(2
)式を第2の演算回路16内においてセツトし、第7図
に斜線で示すごとく圧痕の対角線を含むように中央部に
おける十文字の範囲にマーカを伸縮移動させ、輪郭1a
〜1Δにこれらマーカを合わせることにより得られる2
値化電気信号から対角線の長さDx′,Dy′を求め、
これをデータとして予じめ記憶されているFやkの値と
ともに、(2)式を演算して、ビツカース硬さHVに相
当する出力を出す。
)式を第2の演算回路16内においてセツトし、第7図
に斜線で示すごとく圧痕の対角線を含むように中央部に
おける十文字の範囲にマーカを伸縮移動させ、輪郭1a
〜1Δにこれらマーカを合わせることにより得られる2
値化電気信号から対角線の長さDx′,Dy′を求め、
これをデータとして予じめ記憶されているFやkの値と
ともに、(2)式を演算して、ビツカース硬さHVに相
当する出力を出す。
なお、ブリネル硬さHBを求める場合も、前述のビツカ
ース硬さHVを求める場合とほぼ同様にして、十文字の
範囲にマーカを伸縮移動させ、輪郭1a〜1dにこれら
マーカを合わせることによつて得られた信号に基づいて
圧痕1の最大寸法を計測することにより、試料2の硬さ
を求めることが行なわれ、さらにヌープ硬さHKを求め
る場合は、第9図に斜線で示すごとく圧痕1の対角線を
含むように中央部分のみにマーカを伸縮移動させ、輪郭
1a,1bにマーカを合わせることにより得られる信号
に基づいて試料2の硬さを求めることが行なわれる。
ース硬さHVを求める場合とほぼ同様にして、十文字の
範囲にマーカを伸縮移動させ、輪郭1a〜1dにこれら
マーカを合わせることによつて得られた信号に基づいて
圧痕1の最大寸法を計測することにより、試料2の硬さ
を求めることが行なわれ、さらにヌープ硬さHKを求め
る場合は、第9図に斜線で示すごとく圧痕1の対角線を
含むように中央部分のみにマーカを伸縮移動させ、輪郭
1a,1bにマーカを合わせることにより得られる信号
に基づいて試料2の硬さを求めることが行なわれる。
そして、この第2の演算回路16からの出力は図示しな
い適宜のインターフエースを介して第1,第2の表示部
としてのブラウン管14やプリンタ45へ入力され、こ
れにより第4図に示すごとく、ブラウン管14のスクリ
ーン14a上に、水平方向の試料の圧痕の最大寸法L(
ここでは1234),垂直方向の試料の圧痕の最大寸法
L2(ここでは56.7)および硬さの値(ここでは8
.9)が表示されたり、プリンタ45でこれらの値が印
字されたりする。
い適宜のインターフエースを介して第1,第2の表示部
としてのブラウン管14やプリンタ45へ入力され、こ
れにより第4図に示すごとく、ブラウン管14のスクリ
ーン14a上に、水平方向の試料の圧痕の最大寸法L(
ここでは1234),垂直方向の試料の圧痕の最大寸法
L2(ここでは56.7)および硬さの値(ここでは8
.9)が表示されたり、プリンタ45でこれらの値が印
字されたりする。
また、第2の演算回路16からの出力を計算機46へ入
力して、この計算機46で硬さの値に基づき更に所望の
演算処理を行なうこともできる。
力して、この計算機46で硬さの値に基づき更に所望の
演算処理を行なうこともできる。
ブラウン管14は第1,第2の表示部を兼用しており、
そのスクリーン14a上には、第4図に示すごとく、圧
痕像Vと試料2の硬さの値とが同時に表示され更には圧
痕の水平、垂直方向の長さも表示されるようになつてい
るが、第1,第2の表示部を別々に設けて、例えば圧痕
像1′はブラウン管14で表示し、試料2の硬さは液晶
素子や二キシ一管によつてデイジタル表示するようにし
てもよい。上述の構成により試料の硬さを計測して表示
するには、投光系3によつて光が試料2の表面に照射さ
れ、試料表面からの反射光が固体素子カメラ11の光電
変換素子群12により電気信号に変換されて、この電気
信号が2値化回路13で2値化されたのち、この2値化
電気信号に基づき、ブラウン管14のスクリーン14a
上に試料表面の圧痕像Vが表示される。
そのスクリーン14a上には、第4図に示すごとく、圧
痕像Vと試料2の硬さの値とが同時に表示され更には圧
痕の水平、垂直方向の長さも表示されるようになつてい
るが、第1,第2の表示部を別々に設けて、例えば圧痕
像1′はブラウン管14で表示し、試料2の硬さは液晶
素子や二キシ一管によつてデイジタル表示するようにし
てもよい。上述の構成により試料の硬さを計測して表示
するには、投光系3によつて光が試料2の表面に照射さ
れ、試料表面からの反射光が固体素子カメラ11の光電
変換素子群12により電気信号に変換されて、この電気
信号が2値化回路13で2値化されたのち、この2値化
電気信号に基づき、ブラウン管14のスクリーン14a
上に試料表面の圧痕像Vが表示される。
また、上記2値化電気信号に基づき第2の演算回路16
によつて圧痕1の最大寸法を計測するだけで迅速に試料
2の硬さが計測されて、この硬さの値がブラウン管14
のスクリーン14a上に圧痕像Vとほぼ同時に表示され
るとともにプリンタ45で印字される。
によつて圧痕1の最大寸法を計測するだけで迅速に試料
2の硬さが計測されて、この硬さの値がブラウン管14
のスクリーン14a上に圧痕像Vとほぼ同時に表示され
るとともにプリンタ45で印字される。
なお、第2の演算回路16からの信号は、計算機46へ
も必要に応じて供給され、所望の演算処理を施される。
も必要に応じて供給され、所望の演算処理を施される。
このとき、投光系3の光は偏光板8を通じて試料表面へ
照射されているので、圧痕1が例えば20μm以下の微
小な場合でも圧痕1の最大寸法を明確に確認でき、微小
圧痕1を形成された試料2の硬さをも正確に計測して表
示できるのである。
照射されているので、圧痕1が例えば20μm以下の微
小な場合でも圧痕1の最大寸法を明確に確認でき、微小
圧痕1を形成された試料2の硬さをも正確に計測して表
示できるのである。
このように偏光板8を通じて光を照射することによつて
圧痕1を明瞭に認識できるのは次の理由による。一般に
圧痕1が微小になると、対・物レンズ7の倍率を40〜
100というように高くする必要があり、これにより対
物レンズ7の開口数が大きくなる。
圧痕1を明瞭に認識できるのは次の理由による。一般に
圧痕1が微小になると、対・物レンズ7の倍率を40〜
100というように高くする必要があり、これにより対
物レンズ7の開口数が大きくなる。
これに伴い、圧痕1の内部からの反射光が多くなり、試
料2の表面からの反射光との差が少なくなるため、圧痕
1の輪郭が不明瞭になるのであるが、偏光板8を投光系
3に介装することにより、投光系3の光を偏光させるこ
とができ、これにより圧痕内部からの反射光と試料2の
表面からの反射光との差を十分大きくできるからである
。
料2の表面からの反射光との差が少なくなるため、圧痕
1の輪郭が不明瞭になるのであるが、偏光板8を投光系
3に介装することにより、投光系3の光を偏光させるこ
とができ、これにより圧痕内部からの反射光と試料2の
表面からの反射光との差を十分大きくできるからである
。
さらに、上述のごとく手動で試料の水平および垂直方向
に計測する手段のほかに、自動化された演算手段をそな
えて併用すれば、この演算手段によつて計測された数値
を、前述の手動手段により得られた数値と照合してこれ
を認識することができる。なお、実施例はマーカが結合
している例を示しているが、水平方向のマーカにおいて
、マーカが左右一対として構成されてもよく、この場合
はパルス発生回路32および町変抵抗33と同等のもの
をパルス発生回路32の後段に設け、別途アンド回路を
設けることにより達成できる。
に計測する手段のほかに、自動化された演算手段をそな
えて併用すれば、この演算手段によつて計測された数値
を、前述の手動手段により得られた数値と照合してこれ
を認識することができる。なお、実施例はマーカが結合
している例を示しているが、水平方向のマーカにおいて
、マーカが左右一対として構成されてもよく、この場合
はパルス発生回路32および町変抵抗33と同等のもの
をパルス発生回路32の後段に設け、別途アンド回路を
設けることにより達成できる。
この一対のマーカの場合も第1〜4図に示した実施例と
ほぼ同様な効果を奉する。垂直方向のマーカにおいても
同様である。以上詳述したように、本発明の硬さ計測表
示方法およびその装置によれば、次のような効果ないし
利点が得られる。
ほぼ同様な効果を奉する。垂直方向のマーカにおいても
同様である。以上詳述したように、本発明の硬さ計測表
示方法およびその装置によれば、次のような効果ないし
利点が得られる。
(1)試料表面の圧痕周辺に傷や摸様等この圧痕とまぎ
られしいものがあるような場合等自動計測が困難な場合
にでも、手動によりマーカを伸縮移動させて圧痕像の最
大寸法位置に重ね合わせることができるので、正確な硬
さを測定することができる。
られしいものがあるような場合等自動計測が困難な場合
にでも、手動によりマーカを伸縮移動させて圧痕像の最
大寸法位置に重ね合わせることができるので、正確な硬
さを測定することができる。
(2)自動計測機能を有する装置においては、自動計測
が正しく行なわれているかどうかのチエツクも行なえる
。
が正しく行なわれているかどうかのチエツクも行なえる
。
(3)モニタ画面上において、圧痕像と試料の硬さとを
同時に表示することができる。
同時に表示することができる。
(4)モニタ画面上におけるマーカにより、圧痕像の現
在計測している最大寸法位置を確認することができる。
在計測している最大寸法位置を確認することができる。
図は本発明の一実施例としての硬さ計測表示方法を実施
するための装置を示すもので、第1図はその全体構成図
、第2,3図はいずれもその要部を示す電気回路図、第
4図はその試料表面の像と硬さの値とを表示する一例を
示す模式図、第5〜9図はいずれも圧痕から試料の硬さ
を求める手段を示す説明図である。 1・・・・・・圧痕、1t・・・・・圧痕像、2・・・
・・・試料、3・・・・・・投光系、4・・・・・・照
明ランプ、5・・・・・・集光レンズ、6・・・・・・
ハーフミラー、7・・・・・・対物レンズ、8・・・・
・・偏光板、9・・・・・・レンズ群、10・・・・・
・反射系、11・・・・・・固体素子カメラ、12・・
・・・・光電変換素子群、13・・・・・・2値化回路
、14・・・・・・第1,第2の表示部を兼ねるブラウ
ン管、14a・・・・・・モニタ画面としてのスクリー
ン、15・・・・・・合成器、16・・・・・・第2の
演算回路、17・・・・・・第1の演算回路としての水
平方向演算器、18・・・・・・水平方向マーカ発生回
路、19・・・・・・第1の演算回路としての垂直方向
演算器、20・・・・・・垂直方向マーカ発生回路、2
1・・・・・・遅延回路、22・・・・・・可変抵抗、
23・・・・・・パルス発生回路、24・・・・・・可
変抵抗、25・・・・・・アンド回路、26・・・・・
・遅延回路、27・・・・・・可変抵抗、28・・・・
・・パルス発生回路、29・・・・・・可変抵抗、30
・・・・・・遅延回路、31・・・・・・可変抵抗、3
2・・・・・・パルス発生回路、〜33・・・・・・可
変抵抗、34・・・・・・アンド回路、35・・・・・
・遅延回路、36・・・・・・可変抵抗、37・・・・
・・パルス発生回路、38・・・・・・可変抵抗、39
・・・・・・カウンタ、40・・・・・・クロツク発生
回路、41・・・ラツチ回路、42・・・・・・カウン
タ、43・・・・・・クロツク発生回路、44・・・・
・・ラツチ回路、45・・・・・・プリンタ、46・・
・・・・計算機、47a〜47d・・・・・・調整つま
み。
するための装置を示すもので、第1図はその全体構成図
、第2,3図はいずれもその要部を示す電気回路図、第
4図はその試料表面の像と硬さの値とを表示する一例を
示す模式図、第5〜9図はいずれも圧痕から試料の硬さ
を求める手段を示す説明図である。 1・・・・・・圧痕、1t・・・・・圧痕像、2・・・
・・・試料、3・・・・・・投光系、4・・・・・・照
明ランプ、5・・・・・・集光レンズ、6・・・・・・
ハーフミラー、7・・・・・・対物レンズ、8・・・・
・・偏光板、9・・・・・・レンズ群、10・・・・・
・反射系、11・・・・・・固体素子カメラ、12・・
・・・・光電変換素子群、13・・・・・・2値化回路
、14・・・・・・第1,第2の表示部を兼ねるブラウ
ン管、14a・・・・・・モニタ画面としてのスクリー
ン、15・・・・・・合成器、16・・・・・・第2の
演算回路、17・・・・・・第1の演算回路としての水
平方向演算器、18・・・・・・水平方向マーカ発生回
路、19・・・・・・第1の演算回路としての垂直方向
演算器、20・・・・・・垂直方向マーカ発生回路、2
1・・・・・・遅延回路、22・・・・・・可変抵抗、
23・・・・・・パルス発生回路、24・・・・・・可
変抵抗、25・・・・・・アンド回路、26・・・・・
・遅延回路、27・・・・・・可変抵抗、28・・・・
・・パルス発生回路、29・・・・・・可変抵抗、30
・・・・・・遅延回路、31・・・・・・可変抵抗、3
2・・・・・・パルス発生回路、〜33・・・・・・可
変抵抗、34・・・・・・アンド回路、35・・・・・
・遅延回路、36・・・・・・可変抵抗、37・・・・
・・パルス発生回路、38・・・・・・可変抵抗、39
・・・・・・カウンタ、40・・・・・・クロツク発生
回路、41・・・ラツチ回路、42・・・・・・カウン
タ、43・・・・・・クロツク発生回路、44・・・・
・・ラツチ回路、45・・・・・・プリンタ、46・・
・・・・計算機、47a〜47d・・・・・・調整つま
み。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 試料表面に形成された圧痕を固体素子カメラによつ
て撮像し、モニタ画面上において、上記試料表面の圧痕
像を映し出すとともに、同圧痕像にマーカを重畳させて
映し出し、ついで同モニタ画面上において上記マーカを
手動によつて伸縮移動させることにより上記圧痕像の最
大寸法位置に重合させて、上記圧痕の最大寸法値に基づ
き試料の硬さを表示することを特徴とする、硬さ計測表
示方法。 2 試料表面に形成された圧痕を撮像して電気信号に変
換する固体素子カメラと、同固体素子カメラからの電気
信号を2値化する2値化回路と、同2値化回路からの2
値化された電気信号を受けて圧痕像として映し出すモニ
タ画面と、同モニタ画面上に水平方向または垂直方向の
マーカ信号を出力するマーカ発生回路とをそなえるとと
もに、同マーカ発生回路からのマーカ信号を遅延させる
ことにより上記マーカの長さと位置とを手動で調整しう
る手動コントローラをそなえ、上記手動コントローラに
より調整されたマーカ信号を受けて試料の圧痕の最大寸
法値を演算する第1の演算回路と、同第1の演算回路か
らの信号を受けて上記試料の圧痕の最大寸法値を表示す
る第1の表示部とが設けられるとともに、上記第1の演
算回路からの信号に基づいて試料の硬さを演算する第2
の演算回路と、同第2の演算回路からの信号を受けて上
記試料の硬さを表示する第2の表示部と、上記2値化回
路からの2値化された電気信号および上記マーカ発生回
路からのマーカ信号を合成する合成器とが設けられて、
上記モニタ画面が上記の第1および第2の表示部を兼用
していることを特徴とする、硬さ計測表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11881481A JPS5918651B2 (ja) | 1981-07-29 | 1981-07-29 | 硬さ計測表示方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11881481A JPS5918651B2 (ja) | 1981-07-29 | 1981-07-29 | 硬さ計測表示方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5821136A JPS5821136A (ja) | 1983-02-07 |
| JPS5918651B2 true JPS5918651B2 (ja) | 1984-04-28 |
Family
ID=14745789
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11881481A Expired JPS5918651B2 (ja) | 1981-07-29 | 1981-07-29 | 硬さ計測表示方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5918651B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2619917A1 (fr) * | 1987-08-31 | 1989-03-03 | Armines | Procede et appareil de mesure des dimensions principales d'une empreinte d'indentation formee dans la surface d'une piece |
| JP2731864B2 (ja) * | 1989-09-05 | 1998-03-25 | 新日本製鐵株式会社 | 押込型硬度計 |
| FR2688320A1 (fr) * | 1992-03-06 | 1993-09-10 | Micro 2000 Sa | Procede et dispositif d'eclairage d'une empreinte formee a la surface d'un materiau et application a un dispositif de controle de la durete. |
| JP2018165643A (ja) * | 2017-03-28 | 2018-10-25 | 株式会社ミツトヨ | 硬さ試験機及びプログラム |
-
1981
- 1981-07-29 JP JP11881481A patent/JPS5918651B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5821136A (ja) | 1983-02-07 |
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