JPS59189129A - プラズマ分岐処理方法 - Google Patents
プラズマ分岐処理方法Info
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- JPS59189129A JPS59189129A JP6373383A JP6373383A JPS59189129A JP S59189129 A JPS59189129 A JP S59189129A JP 6373383 A JP6373383 A JP 6373383A JP 6373383 A JP6373383 A JP 6373383A JP S59189129 A JPS59189129 A JP S59189129A
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- Japan
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- plasma
- branched
- processing container
- processing
- irradiation
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32357—Generation remote from the workpiece, e.g. down-stream
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0894—Processes carried out in the presence of a plasma
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/19—Details relating to the geometry of the reactor
- B01J2219/194—Details relating to the geometry of the reactor round
- B01J2219/1941—Details relating to the geometry of the reactor round circular or disk-shaped
- B01J2219/1942—Details relating to the geometry of the reactor round circular or disk-shaped spherical
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2023/00—Use of polyalkenes or derivatives thereof as moulding material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/18—Vacuum control means
- H01J2237/182—Obtaining or maintaining desired pressure
- H01J2237/1825—Evacuating means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/32—Processing objects by plasma generation
- H01J2237/33—Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
- H01J2237/336—Changing physical properties of treated surfaces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は樹脂、例えば、ポリプロピレン(pp)、ホリ
エチレン(PE)等の表面を改質するために、これらの
樹脂の表面にプラズマ処理を施すプラズマ分岐処理方法
に関する。
エチレン(PE)等の表面を改質するために、これらの
樹脂の表面にプラズマ処理を施すプラズマ分岐処理方法
に関する。
技術の背景
近年、例えば、自動車の部品等は、軽量でかっ意匠性に
優れる樹脂に移行する傾向にある力S、比較的安価なP
P 、 PE@;を、例えば車両外板として使用する場
合、樹脂表面と塗膜との密着性が悪く、層間剥離という
不具合が発生することが知られている。この不具合を解
消する手段の一つとして、PP 、 PE等の被塗装物
表面をグロー、コロナ放電あるいけ高周波放電に曝し、
表面を酸化(極性基の導入)あるいけエツチング(アン
カ効果白土)するプラズマ処理技術が知られている。
優れる樹脂に移行する傾向にある力S、比較的安価なP
P 、 PE@;を、例えば車両外板として使用する場
合、樹脂表面と塗膜との密着性が悪く、層間剥離という
不具合が発生することが知られている。この不具合を解
消する手段の一つとして、PP 、 PE等の被塗装物
表面をグロー、コロナ放電あるいけ高周波放電に曝し、
表面を酸化(極性基の導入)あるいけエツチング(アン
カ効果白土)するプラズマ処理技術が知られている。
ところで、自動車に使用するパンパ等の樹脂部品をプラ
ズマ処理する場合には、以下の理由によシ、大型の処理
容器が必要となる。
ズマ処理する場合には、以下の理由によシ、大型の処理
容器が必要となる。
1)バンパ等の槓1脂部品は大物で複雑形状のため。
2)処理容器内f:真空に維持する必要なため、パッチ
処理生産方式が採用されることから、多数本を同時に処
理する必要がある。
処理生産方式が採用されることから、多数本を同時に処
理する必要がある。
又、一方、処理容器が大型化するに従い容器内の各部位
のプラズマ濃度を均一にするのが困難となシ、その結果
処理容器内に設置する被処理物の処理性は不均一化する
という問題点が発生した。
のプラズマ濃度を均一にするのが困難となシ、その結果
処理容器内に設置する被処理物の処理性は不均一化する
という問題点が発生した。
このような問題が発生する従来のプラズマ処理装置の一
例を第Mo、@4 b図、に示す。これらの図で、A部
に設置した被処理物(図示せず)とB部に設置した被処
理物(図示せず)との間で、処理後の被処理物表面の接
触角測定による評価を行なったところ、A部に設置した
ものはB部に設置したものより処理性が劣シ、また同−
被処理物内でも処理性に不均一がみられた。これは、B
部に設置した被処理物によってプラズマ照射が遮蔽され
、A部のプラズマの寿命が損なわれるためであると考え
られる。
例を第Mo、@4 b図、に示す。これらの図で、A部
に設置した被処理物(図示せず)とB部に設置した被処
理物(図示せず)との間で、処理後の被処理物表面の接
触角測定による評価を行なったところ、A部に設置した
ものはB部に設置したものより処理性が劣シ、また同−
被処理物内でも処理性に不均一がみられた。これは、B
部に設置した被処理物によってプラズマ照射が遮蔽され
、A部のプラズマの寿命が損なわれるためであると考え
られる。
これらの問題点を解消するため、第爵o4rsh Ea
に示すように、処理容器にプラズマ導入口を複数設置し
たところ、処理容器内における被処理物の処理を均一に
施すことができた。以上のことよシ、大型スケールの処
理容器内における各部位のプラズマ濃度を均一化するに
は、′処理容器に複数個のプラズマ導入口を設置するの
が好ましい方法である。しかし、導入口1個につきそれ
ぞれ一組のプラズマ発生系装置を設置することは、設備
投貸あるいは省電力面で問題がある。なお、第4図およ
び第5図における各符号は、後述する第1図および第2
図の各同一符号と同一の部品を示している。
に示すように、処理容器にプラズマ導入口を複数設置し
たところ、処理容器内における被処理物の処理を均一に
施すことができた。以上のことよシ、大型スケールの処
理容器内における各部位のプラズマ濃度を均一化するに
は、′処理容器に複数個のプラズマ導入口を設置するの
が好ましい方法である。しかし、導入口1個につきそれ
ぞれ一組のプラズマ発生系装置を設置することは、設備
投貸あるいは省電力面で問題がある。なお、第4図およ
び第5図における各符号は、後述する第1図および第2
図の各同一符号と同一の部品を示している。
発明の目的
本発明は、これらの点に鑑み、大物で複雑形状の樹脂部
品を複数個同時に処理するに当り、処理容器外で発生さ
せたプラズマを分岐管であらかじめ複数に分岐した後処
理容器内に導入することによって、処理の均一化と、設
備投資額の低減及び省電力を図るプラズマ処理方法を提
供するものである。
品を複数個同時に処理するに当り、処理容器外で発生さ
せたプラズマを分岐管であらかじめ複数に分岐した後処
理容器内に導入することによって、処理の均一化と、設
備投資額の低減及び省電力を図るプラズマ処理方法を提
供するものである。
発明の構成
処理容器外部で放電プラズマを発生させた後、容器内に
プラズマを導入し、該容器内に設置した被処理物表面に
プラズマを照射して処理する方法において、発生後の前
記プラズマを処理容器内に導入する前に複数径路に分岐
し、該分岐したプラズマを処理容器に設けた複数のプラ
ズマ導入口を介してそれぞれ処理容器内に導入するよう
圧した。
プラズマを導入し、該容器内に設置した被処理物表面に
プラズマを照射して処理する方法において、発生後の前
記プラズマを処理容器内に導入する前に複数径路に分岐
し、該分岐したプラズマを処理容器に設けた複数のプラ
ズマ導入口を介してそれぞれ処理容器内に導入するよう
圧した。
実施例
第1図および第2図は本発明の方法を実施するマイクロ
波放電プラズマ処理装置の実施例を示すものである。第
1図および第2図において、発振器2で発生したマイク
日波は、アイソレータ3、パワモニタ4、スリスタブチ
ューナ5を経てf−iズマ発生炉に導波管26で導かれ
る。
波放電プラズマ処理装置の実施例を示すものである。第
1図および第2図において、発振器2で発生したマイク
日波は、アイソレータ3、パワモニタ4、スリスタブチ
ューナ5を経てf−iズマ発生炉に導波管26で導かれ
る。
一方、プラズマ化用ガスとして、本実施例では、酸素(
o2):窒素(N2)=10:1の混合ガスを使用して
いるが、それらは、あらかじめガス流量計(図示せず)
で所定の流量に設定された後、ガス供給管21で、プラ
ズマ発生炉6に供給きれる。
o2):窒素(N2)=10:1の混合ガスを使用して
いるが、それらは、あらかじめガス流量計(図示せず)
で所定の流量に設定された後、ガス供給管21で、プラ
ズマ発生炉6に供給きれる。
プラズマ発生炉6とプラズマ発生管7で発生したプラズ
マは、石英ガラス管8を経た後、分岐用フロロコネクタ
18〜20で3方向に分岐される。
マは、石英ガラス管8を経た後、分岐用フロロコネクタ
18〜20で3方向に分岐される。
分岐されたプラズマは、処理容器に設置されたプラズマ
導入口9〜111〜3に導入され、それに接続するプラ
ズマ照射用ガラス管15〜17−1〜3で処理容器内2
2に噴射される。一方、プラズマ処理中において、処理
容器内22は真空に保つ必要があるため、処理容器内排
気用ボン7″(図示せず)に接続する排気口12〜14
−1〜3から連続的に排気される。なお、実施例では、
分岐されたプラズマ導入口91〜3はそれぞれ処理容器
1の軸方向に配置され、導入口101〜31111〜3
も導入口91〜3と同様の構成であるが、それぞれ別系
統のプラズマ発生機構に接続され、導入口91〜3に対
し容器壁約60°隔てた部位に設けら扛ている0次に、
第3図により、プラズマ分岐部の構造について説明する
。プラズマ発生炉6および発生管7で発生したプラズマ
は、石英管8、ストレートフロロコネクタ23、ガラス
管25を経て十字型フロロコネクタ18に達すると、十
字型フロロコネクタ18によ)各々C,D、E方向に分
岐され、ガラス%f15−C,D、Eにて輸送される。
導入口9〜111〜3に導入され、それに接続するプラ
ズマ照射用ガラス管15〜17−1〜3で処理容器内2
2に噴射される。一方、プラズマ処理中において、処理
容器内22は真空に保つ必要があるため、処理容器内排
気用ボン7″(図示せず)に接続する排気口12〜14
−1〜3から連続的に排気される。なお、実施例では、
分岐されたプラズマ導入口91〜3はそれぞれ処理容器
1の軸方向に配置され、導入口101〜31111〜3
も導入口91〜3と同様の構成であるが、それぞれ別系
統のプラズマ発生機構に接続され、導入口91〜3に対
し容器壁約60°隔てた部位に設けら扛ている0次に、
第3図により、プラズマ分岐部の構造について説明する
。プラズマ発生炉6および発生管7で発生したプラズマ
は、石英管8、ストレートフロロコネクタ23、ガラス
管25を経て十字型フロロコネクタ18に達すると、十
字型フロロコネクタ18によ)各々C,D、E方向に分
岐され、ガラス%f15−C,D、Eにて輸送される。
C及びE方向に分岐されたプラズマは、直角70ロコネ
クタ24、ガラス管25、ストレートフロロコネクタ2
3で各々プラズマ導入口9−1.3に導かれる。一方、
D方向に分岐されたプラズマは、ガラス管25、ストレ
ート70ロコネクタ23によシプラズマ導入口9−2に
導かれる。プラズマ導入口91〜3から処理容器内部2
2に導入されたプラズマは、それに接続するプラズマ照
射用ガラス管151〜3によジ処理容器内22に噴出さ
れる。
クタ24、ガラス管25、ストレートフロロコネクタ2
3で各々プラズマ導入口9−1.3に導かれる。一方、
D方向に分岐されたプラズマは、ガラス管25、ストレ
ート70ロコネクタ23によシプラズマ導入口9−2に
導かれる。プラズマ導入口91〜3から処理容器内部2
2に導入されたプラズマは、それに接続するプラズマ照
射用ガラス管151〜3によジ処理容器内22に噴出さ
れる。
なお、プラズマ照射用ガラス管151〜3 もそれぞれ
処理容器内で軸方向にのびておシ、これらのガラス管に
設けである多数の噴射口(図示せず)から第3図の破線
で示すようにプラズマが噴出されるのである。
処理容器内で軸方向にのびておシ、これらのガラス管に
設けである多数の噴射口(図示せず)から第3図の破線
で示すようにプラズマが噴出されるのである。
尚、ガラス管25−C−Eの管内断面積を同一にすると
、プラズマは主にDの方向に流れてしまい、プラズマ照
射用ガラス管15−1+ 15−3から照射される量が
プラズマ照射用ガラス管15−2のそれに比べて減少す
る。このため、プラズマ流量と、ガラス管25−C−E
の管内断面積及び管の長さについて考慮を払わねばなら
ず、実験によシ、その目安け d 1 t23#dz
7−+ 3で表わせる。
、プラズマは主にDの方向に流れてしまい、プラズマ照
射用ガラス管15−1+ 15−3から照射される量が
プラズマ照射用ガラス管15−2のそれに比べて減少す
る。このため、プラズマ流量と、ガラス管25−C−E
の管内断面積及び管の長さについて考慮を払わねばなら
ず、実験によシ、その目安け d 1 t23#dz
7−+ 3で表わせる。
dl :D方向の配管直径
tl:D方向の配管長
d2 :CスはE方向の配管直径
t2:c又はE方向の配管長
λ里フカ退
処理容器外で発生させたプラズマをあらかじめ分岐しか
つ処理容器に設置した複数個のプラズマ導入口に接続し
て容器内にプラズマを導入することによシ、処理容器内
でのプラズマ濃度の均一化が図れた。また、同−被処理
物内でも処理性の均一化が図れた。本発明のようなプラ
ズマの分岐方法を採用することにより、多数のプラズマ
発生機構を設ける必要がなくなシ、設備コストの低減と
省資源が図れた。
つ処理容器に設置した複数個のプラズマ導入口に接続し
て容器内にプラズマを導入することによシ、処理容器内
でのプラズマ濃度の均一化が図れた。また、同−被処理
物内でも処理性の均一化が図れた。本発明のようなプラ
ズマの分岐方法を採用することにより、多数のプラズマ
発生機構を設ける必要がなくなシ、設備コストの低減と
省資源が図れた。
第1図および第2図は本発明のプラズマ分岐処理方法を
実施するための装置の実施例を示すもので、第1図は断
面図、第2図は側面図、第3図は本発明におけるプラズ
マ分岐部の詳細図である。 第4矢凹(断面図)および第4b図(側面図)は従来の
プラズマ処理装置の一例を示す図、第5久図(断面図)
および第5’org3(側面図)は従来のプラズマ処理
装置の他の例を示す図である。 1・・・処理容器、2・・・マイクロ波発振器、3・・
・アイソレータ、4・・・パワモニタ、5・・・スリー
スタブチー−す、6・・・プラズマ発生炉、7・・・プ
ラズマ発生管、訃・・ガラス管、91〜3・・・プラズ
マ導入口、151〜3 ・・・プラズマ照射管、18,
23.24・・・フロロコネクタ、25.25−C−E
・・・ガラス管。 特許出願人 トヨタ自動車株式会社 特許出願代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士 西 舘 和 之 弁理士 樋 口 外 治 弁理士 山 口 昭 之 一1′。 第4゜図 第4b図 12−3 12−2 12−1 第5b図 12−3 12−2 12−1
実施するための装置の実施例を示すもので、第1図は断
面図、第2図は側面図、第3図は本発明におけるプラズ
マ分岐部の詳細図である。 第4矢凹(断面図)および第4b図(側面図)は従来の
プラズマ処理装置の一例を示す図、第5久図(断面図)
および第5’org3(側面図)は従来のプラズマ処理
装置の他の例を示す図である。 1・・・処理容器、2・・・マイクロ波発振器、3・・
・アイソレータ、4・・・パワモニタ、5・・・スリー
スタブチー−す、6・・・プラズマ発生炉、7・・・プ
ラズマ発生管、訃・・ガラス管、91〜3・・・プラズ
マ導入口、151〜3 ・・・プラズマ照射管、18,
23.24・・・フロロコネクタ、25.25−C−E
・・・ガラス管。 特許出願人 トヨタ自動車株式会社 特許出願代理人 弁理士 青 木 朗 弁理士 西 舘 和 之 弁理士 樋 口 外 治 弁理士 山 口 昭 之 一1′。 第4゜図 第4b図 12−3 12−2 12−1 第5b図 12−3 12−2 12−1
Claims (1)
- 1、処理容器外部で設電プラズマを発生さセに後、容器
内にプラズマを導入し、該容器内に設置した被処理物表
面にプラズマを照射して処理する方法において、発生後
の前記プラズマを処理容器内に導入する前に複数径路に
分岐し、該分岐したプラズマを処理容器に設けた複数の
プラズマ導入口を介してそれぞれ処理容器内に導入する
ようにしたプラズマ分岐処理方法。
Priority Applications (11)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6373383A JPS59189129A (ja) | 1983-04-13 | 1983-04-13 | プラズマ分岐処理方法 |
| AU24671/84A AU549376B2 (en) | 1983-02-25 | 1984-02-16 | Plasma treatment |
| EP91115536A EP0461683B1 (en) | 1983-02-25 | 1984-02-23 | Method for plasma treatment of resin material |
| EP84101926A EP0120307B1 (en) | 1983-02-25 | 1984-02-23 | Apparatus and method for plasma treatment of resin material |
| DE3486317T DE3486317T2 (de) | 1983-02-25 | 1984-02-23 | Vorrichtung und Verfahren zur Plasmabehandlung von Kunstharz. |
| DE3486470T DE3486470T2 (de) | 1983-02-25 | 1984-02-23 | Verfahren zum Plasmabehandeln von Kunststoffharz |
| US06/825,941 US4678644A (en) | 1983-02-25 | 1986-01-30 | Apparatus and method for plasma treatment of resin material |
| AU82239/87A AU8223987A (en) | 1983-02-25 | 1987-12-08 | Apparatus and method for plasma treatment of resin material |
| AU82240/87A AU603397B2 (en) | 1983-02-25 | 1987-12-08 | Apparatus and method for plasma treatment of resin material |
| AU82237/87A AU8223787A (en) | 1983-02-25 | 1987-12-08 | Apparatus and method for plasma treatment of resin material |
| AU82238/87A AU8223887A (en) | 1983-02-25 | 1987-12-08 | Apparatus and method for plasma treatment of resin material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6373383A JPS59189129A (ja) | 1983-04-13 | 1983-04-13 | プラズマ分岐処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59189129A true JPS59189129A (ja) | 1984-10-26 |
Family
ID=13237896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6373383A Pending JPS59189129A (ja) | 1983-02-25 | 1983-04-13 | プラズマ分岐処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59189129A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5385782A (en) * | 1977-01-10 | 1978-07-28 | Toshiba Corp | Treating apparatus with activated gas |
-
1983
- 1983-04-13 JP JP6373383A patent/JPS59189129A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5385782A (en) * | 1977-01-10 | 1978-07-28 | Toshiba Corp | Treating apparatus with activated gas |
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