JPS59190232A - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ母材の製造方法Info
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- JPS59190232A JPS59190232A JP6124083A JP6124083A JPS59190232A JP S59190232 A JPS59190232 A JP S59190232A JP 6124083 A JP6124083 A JP 6124083A JP 6124083 A JP6124083 A JP 6124083A JP S59190232 A JPS59190232 A JP S59190232A
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- JP
- Japan
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- glass
- substrate
- gas
- burner
- longitudinal direction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
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- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明（ｒ′ｉ光通信用光ファイ・く母材の製造方法に
関する。
関する。
石英ガラス系光フアイバ母材の製造方法の１（・こ、所
謂外付けＣＶＤ法と呼ばれるものがある。
謂外付けＣＶＤ法と呼ばれるものがある。
この方法（は、ベイトと呼ばれる棒４大の、！１℃体の
外周に、基体を回転させつつかつ基体と原オ」供給用バ
ーナとを基体の長手方向（こ相対移動させながらバーナ
かもガラス微粒ゴーを吹き付け、基体の外周にガラス微
粒子の堆積層を形成するというものである。
外周に、基体を回転させつつかつ基体と原オ」供給用バ
ーナとを基体の長手方向（こ相対移動させながらバーナ
かもガラス微粒ゴーを吹き付け、基体の外周にガラス微
粒子の堆積層を形成するというものである。
かメる夕１イ４（げＣＶＤ法では、外部からの不純物の
混入を防止するため、ガラス微粒子の堆積工程は清浄な
雰囲気内で行なわれる。
混入を防止するため、ガラス微粒子の堆積工程は清浄な
雰囲気内で行なわれる。
第１図は従来の外（ＪけＣＶ Ｄ法を示すもので、ガス
取入０１．１と、これらに相対向して設けらｎた排気口
２．２とを有する堆積室３内に（は、ベイト等の棒状の
基体４が回転自在に設置されていると共（ここの基体４
１こ向けてカラス厚相供給用のバーナ５が設置されてい
る。
取入０１．１と、これらに相対向して設けらｎた排気口
２．２とを有する堆積室３内に（は、ベイト等の棒状の
基体４が回転自在に設置されていると共（ここの基体４
１こ向けてカラス厚相供給用のバーナ５が設置されてい
る。
ガラス機端チの堆積に際して（は、基体４を回転させか
つ基体４またはバーナ５の何れか一方が基体４の長手方
向（こ移動さぜられることになる。
つ基体４またはバーナ５の何れか一方が基体４の長手方
向（こ移動さぜられることになる。
しかしかかる従来の方法（こあっては、得られ／こｌ！
ＪＡＪにしばしば泡が発生ずるという問題があつ ／こ
。
ＪＡＪにしばしば泡が発生ずるという問題があつ ／こ
。
このよう（こ発泡した母相からは泡が如何０こ微小であ
っても伝送損失の大きな光ファイバしがイ！１ら〕１．
ず、／（’、が大きい場合にはファイバ化することずら
−Ｃさなかつ／ｃ０ この発泡の原因（・寸、堆積室３内（こ浮遊しているガ
ラス微粒子−が、バーナ５の炎があたっていない基体４
の部分にイ」着し、とのイ」着したガラス微粒子が焼結
処理時（こ発？色すること（こあると推定されている。
っても伝送損失の大きな光ファイバしがイ！１ら〕１．
ず、／（’、が大きい場合にはファイバ化することずら
−Ｃさなかつ／ｃ０ この発泡の原因（・寸、堆積室３内（こ浮遊しているガ
ラス微粒子−が、バーナ５の炎があたっていない基体４
の部分にイ」着し、とのイ」着したガラス微粒子が焼結
処理時（こ発？色すること（こあると推定されている。
／ｉ＼発明ｔｑｔ 、排気口をバーナと相対向する位置
（こ設け、ガスをガラス微粒子堆積層の長手方向に流す
こと（こよって上記問題点を解決しようというもので、
これを図１ｎｉに示す￥施ｆタリを９照しながら説明す
ると、第２図に示すよう（こ、ガス取入Ｄ １０．１０
を有する堆積室１１内にベイト舌の棒状の基体１２を回
転自在に設置し、この基体１２を囲むよう（こ同基体１
２から所定の間隔をおいて円筒状の筒体１３を設置する
。
（こ設け、ガスをガラス微粒子堆積層の長手方向に流す
こと（こよって上記問題点を解決しようというもので、
これを図１ｎｉに示す￥施ｆタリを９照しながら説明す
ると、第２図に示すよう（こ、ガス取入Ｄ １０．１０
を有する堆積室１１内にベイト舌の棒状の基体１２を回
転自在に設置し、この基体１２を囲むよう（こ同基体１
２から所定の間隔をおいて円筒状の筒体１３を設置する
。
この筒体１３；こ（は、これに向けて設置さえしたバー
ナ１４からの火炎が１次き抜は自在４・火炎［］１５が
設けられていると共に同火炎口１５と相対向する位置、
好捷しくけ筒体１３のはＹ中央部に（は排気口１６が設
けられており、同り１気［二」１６を介して筒体１３と
堆）ｌＡ至１１の外部とは連通状態（こなっている。
ナ１４からの火炎が１次き抜は自在４・火炎［］１５が
設けられていると共に同火炎口１５と相対向する位置、
好捷しくけ筒体１３のはＹ中央部に（は排気口１６が設
けられており、同り１気［二」１６を介して筒体１３と
堆）ｌＡ至１１の外部とは連通状態（こなっている。
上記基体１２の外周（こガラス微粒子を吹き（’Ｊけ、
ガラス微粒子堆積層１７を形成する際（こば、基体１２
を回転させると共（こ四基体１２をその長手方向？こ′
ｉ往復動せるかまたはバーナ１４を基体１２の長手方向
沿い（こ往復動させる。
ガラス微粒子堆積層１７を形成する際（こば、基体１２
を回転させると共（こ四基体１２をその長手方向？こ′
ｉ往復動せるかまたはバーナ１４を基体１２の長手方向
沿い（こ往復動させる。
バーナ１４を移動させる場合１こは、筒体１３もバーナ
１４と連動させる。
１４と連動させる。
か−る装置を用いて母材を製造するには、基体１２を回
転させつつ基体１４またはバーナ１２を基体１４の長手
方向に往復動させる。
転させつつ基体１４またはバーナ１２を基体１４の長手
方向に往復動させる。
バーナ１２には所定の原料Ａを供給すると共（こ排気口
１６に吸引力を作用させると、ガス取入１１１０，１０
からフィルタ１８を介して空気でηのガス１３が堆積室
１１内に流入し、流入したカス■３は筒体１３０両端か
らその内部に入り、カラス微粒子堆積層１７の長手方向
に沿って流れ、４Ｊ１気口６から流出する。
１６に吸引力を作用させると、ガス取入１１１０，１０
からフィルタ１８を介して空気でηのガス１３が堆積室
１１内に流入し、流入したカス■３は筒体１３０両端か
らその内部に入り、カラス微粒子堆積層１７の長手方向
に沿って流れ、４Ｊ１気口６から流出する。
この際ガスＢ ＋は、堆積しなかったガラス微粒子−を
同伴して排気口１６から流出する。
同伴して排気口１６から流出する。
尚、」−記の如く基体１２としてベイトを用いる場合（
こ：は、ガラス微粒子堆積後ベイトを引抜くことにる・
るが、ベイトの代り（こコア用−またはコア及びクラッ
ド用のガラス棒を用いてもよく、この場合（こ（はガラ
ス棒−４υ材の一部として使用されることになる。
こ：は、ガラス微粒子堆積後ベイトを引抜くことにる・
るが、ベイトの代り（こコア用−またはコア及びクラッ
ド用のガラス棒を用いてもよく、この場合（こ（はガラ
ス棒−４υ材の一部として使用されることになる。
ここでより具体的な例について述べると、〔具体例１〕
バーナ１４（こ、０２、Ｈ２及び５ｉＣｔ、１ を供給
し、す１気口１６の減圧度を調節してガス取入ｌ−１１
０，１０から入ったカスをガラス微粒頂堆）１１１１層
１了に沿って流れるようにし、適当なガラス微粒子の堆
積層を形成した（支）、同層をヘリウ化し、これを線引
してコア径５ Ｑ ｌ１ｍ ｚ外径］２５μｍの光ファ
イバに加工したところ、波長０８５μｍで損失が２．４
ｄＢ／Ｋｍという低い値が得られた０ 〔具体例２〕 テーバの付いた直径約５ｍのアルミナ製へイトの外周に
、コア及びクラッドとなるべきガラス微粒子堆積層を形
成するため、バーす１４にコア用の原料５ｉＣＡ４、Ｇ
ｅＣｌ４ 及びＢ Ｂ ｒ ３ とクラッド用の原料
ＳｉＣ／：４及び■３Ｂｒ３と、１−Ｉ２及び０２とを
供給し、刊気口１６の減圧度を調節してガスをガラス微
粒子堆積ハ’ｒｉ Ｎｌいに流しつつガラス微粒子堆積
層を形成した後、ベートを引抜き、同堆積層をヘリウム
カス雰囲気中で約１５００℃に加熱して透明ガラス化し
たところ泡の発生は全くみもれなかった。
し、す１気口１６の減圧度を調節してガス取入ｌ−１１
０，１０から入ったカスをガラス微粒頂堆）１１１１層
１了に沿って流れるようにし、適当なガラス微粒子の堆
積層を形成した（支）、同層をヘリウ化し、これを線引
してコア径５ Ｑ ｌ１ｍ ｚ外径］２５μｍの光ファ
イバに加工したところ、波長０８５μｍで損失が２．４
ｄＢ／Ｋｍという低い値が得られた０ 〔具体例２〕 テーバの付いた直径約５ｍのアルミナ製へイトの外周に
、コア及びクラッドとなるべきガラス微粒子堆積層を形
成するため、バーす１４にコア用の原料５ｉＣＡ４、Ｇ
ｅＣｌ４ 及びＢ Ｂ ｒ ３ とクラッド用の原料
ＳｉＣ／：４及び■３Ｂｒ３と、１−Ｉ２及び０２とを
供給し、刊気口１６の減圧度を調節してガスをガラス微
粒子堆積ハ’ｒｉ Ｎｌいに流しつつガラス微粒子堆積
層を形成した後、ベートを引抜き、同堆積層をヘリウム
カス雰囲気中で約１５００℃に加熱して透明ガラス化し
たところ泡の発生は全くみもれなかった。
以上のように不発明番こおいてＣζバーナと相対向する
位置に排気口を設けておき、カスを基体の長手方向沿い
に流しつつバーナから基体にガラス微粒子を吹きイ」け
るのて、バーナから噴出しｆｃ ＪＡよ体に堆積しない
ガラス微粒子はガヌベこ同伴されて４フ１気口から流出
することになり、したがって同機わξ子が火炎のあたっ
ていない基体のｊＸｌｉ分（こイ・］着することがなく
、このため付着した做才）ン子汐；焼結時（こ発泡する
というようなことがなく、発？包のみられない１υイ２
が得られること（こなる。
位置に排気口を設けておき、カスを基体の長手方向沿い
に流しつつバーナから基体にガラス微粒子を吹きイ」け
るのて、バーナから噴出しｆｃ ＪＡよ体に堆積しない
ガラス微粒子はガヌベこ同伴されて４フ１気口から流出
することになり、したがって同機わξ子が火炎のあたっ
ていない基体のｊＸｌｉ分（こイ・］着することがなく
、このため付着した做才）ン子汐；焼結時（こ発泡する
というようなことがなく、発？包のみられない１υイ２
が得られること（こなる。
４１ン１曲の簡１１′ＩｆＬ説明
第１図（ｒま従来の方法を示す説明図、第２図は不発明
に係る方法の説明図である。
に係る方法の説明図である。
１０・・・・・ガス取入口
１ １ ・・・・・ 堆才ＪＩｉ 室１２・・・・・
基体 １４・・・・・バーナ １６・・・・・４」１気口 １７・・・・・ガラス微粒子堆積層 慣許出呵１人 代用）人 弁理士 井 液 誠
基体 １４・・・・・バーナ １６・・・・・４」１気口 １７・・・・・ガラス微粒子堆積層 慣許出呵１人 代用）人 弁理士 井 液 誠
Claims (2)
- （１）ガス取入口と抽気口とをイ１する堆積室内に回転
自在に設置略れたガラスイ拳等の棒状の基体の外周番こ
、バーナからガラス微粒子を１次きも１けてガラス微粒
子堆積層を堆積層を堆積させる）℃ファイバ母材の製造
方法において、」二記ノく−すと相７Ｊ向する位１而こ
上記排気口を設けておき、上言己」イ１イ青室に月又り
入れられ／こガスを」二言己基体の長丁一方向沿いに流
しつつ・く−ナから上記棒状の基体（こ）ｌラス微粒子
を吹き付けることを特徴とする元ファイバ母拐の製造方
法。 - （２）カスｆ：基体の両端から中央（こ向って流すこと
を特徴とする特許％’？＋水の化１ｊｌ’＋第１頂記−
或の元ファイバ母４４の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6124083A JPS59190232A (ja) | 1983-04-07 | 1983-04-07 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6124083A JPS59190232A (ja) | 1983-04-07 | 1983-04-07 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59190232A true JPS59190232A (ja) | 1984-10-29 |
| JPS6261543B2 JPS6261543B2 (ja) | 1987-12-22 |
Family
ID=13165504
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6124083A Granted JPS59190232A (ja) | 1983-04-07 | 1983-04-07 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59190232A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6297138U (ja) * | 1985-12-09 | 1987-06-20 | ||
| JPH02243521A (ja) * | 1989-03-16 | 1990-09-27 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | フッ化物ガラスロッドレンズ並びにその製造方法及び装置 |
| US6321573B1 (en) * | 1998-06-25 | 2001-11-27 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Process and apparatus for manufacturing a porous SiO2 preform |
| US7694536B2 (en) | 2004-03-18 | 2010-04-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Manufacturing apparatus of porous glass base material and glass base material for optical fiber |
| EP2206689A1 (en) * | 2008-12-26 | 2010-07-14 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method and apparatus for manufacturing optical fiber preform using high frequency induction thermal plasma torch |
| JP2012193066A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光ファイバ母材の製造方法、および光ファイバ母材の製造装置 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4976538A (ja) * | 1972-11-25 | 1974-07-24 | ||
| JPS5183539A (ja) * | 1975-01-20 | 1976-07-22 | Hitachi Ltd | Shusokugatahikarifuaibano seizosochi |
| JPS53162152U (ja) * | 1977-05-26 | 1978-12-19 | ||
| JPS5414753U (ja) * | 1977-07-04 | 1979-01-30 |
-
1983
- 1983-04-07 JP JP6124083A patent/JPS59190232A/ja active Granted
Patent Citations (4)
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| JPS5414753U (ja) * | 1977-07-04 | 1979-01-30 |
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| JPS6297138U (ja) * | 1985-12-09 | 1987-06-20 | ||
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| US6321573B1 (en) * | 1998-06-25 | 2001-11-27 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Process and apparatus for manufacturing a porous SiO2 preform |
| KR100586369B1 (ko) * | 1998-06-25 | 2006-06-08 | 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 ＆ 컴파니 케이지 | 다공성 ＳｉＯ₂ 예비 성형물 제조방법 및 장치 |
| US7694536B2 (en) | 2004-03-18 | 2010-04-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Manufacturing apparatus of porous glass base material and glass base material for optical fiber |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6261543B2 (ja) | 1987-12-22 |
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