JPS59194332A - カラ−受像管 - Google Patents
カラ−受像管Info
- Publication number
- JPS59194332A JPS59194332A JP6828883A JP6828883A JPS59194332A JP S59194332 A JPS59194332 A JP S59194332A JP 6828883 A JP6828883 A JP 6828883A JP 6828883 A JP6828883 A JP 6828883A JP S59194332 A JPS59194332 A JP S59194332A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shadow mask
- slit
- mask
- long
- picture tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
- H01J29/07—Shadow masks for colour television tubes
- H01J29/076—Shadow masks for colour television tubes characterised by the shape or distribution of beam-passing apertures
Landscapes
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はシャドウマスク式カラー受像管の改良に係り特
にシャドウマスクの構造に関するものである。
にシャドウマスクの構造に関するものである。
周知のようにシャドウマスク形カラー受像においてはシ
ャドウマスクの開孔（円形状またはスリット状の開孔）
群と螢光面の螢光体（ドツト状または短形状、ストライ
プ状等の）群との間にはいわゆるビームランデングを正
確ならしめるために特定の相対的位置関係が必要であシ
、受像管の動作中宮にこの相対関係を一定に保たねばな
らない。
ャドウマスクの開孔（円形状またはスリット状の開孔）
群と螢光面の螢光体（ドツト状または短形状、ストライ
プ状等の）群との間にはいわゆるビームランデングを正
確ならしめるために特定の相対的位置関係が必要であシ
、受像管の動作中宮にこの相対関係を一定に保たねばな
らない。
しかしながら受像管を動作させてビームランデングを行
なわせる際、シャドウマスクは電子銃よシ放射される電
子ビームの射突を受けて後述する長時間ドリフトおよび
短時間ドリフトと称される二種類の熱膨張を生じ、上記
のような相対関係がくずされる結果、ビームランデング
誤差が生じて色純度を損ない受像管特性に悪影響を与え
る。
なわせる際、シャドウマスクは電子銃よシ放射される電
子ビームの射突を受けて後述する長時間ドリフトおよび
短時間ドリフトと称される二種類の熱膨張を生じ、上記
のような相対関係がくずされる結果、ビームランデング
誤差が生じて色純度を損ない受像管特性に悪影響を与え
る。
すなわち上記第１の熱膨張である長時間ドリフトは通常
の動作状態でみられるものであシ、第１図に示すように
シャドウマスク２およびそのフレーム３が管軸方向に直
角な方向に膨張し、非動作時ａ点にあった開孔７がａ点
に変位する結果、該開孔７を通る電子ビーム１０による
パネル１内面の螢光面６上のスポットは本来のランデン
グ位［ｂからはずれてｂ点に変位されて、この変位量が
ビームランデング誤差となるものである。また第２の熱
膨張である短時間ドリフトは例えば受像管の動作開始直
後または動作中において画面上で局部的に短時間間るい
画面となる場合等にみられるものでアシ、第２図に示す
ように一般にシャドウマスク２が薄い鉄板で形成されて
そのフレーム３に比較し熱容量が小さいために、急激な
シャドウマスク２の膨張にフレーム３が順応して膨張し
々いことによって、シャドウマスク２のみが管軸方向と
平向な方向にいわゆるドーム状に膨張するものであυ、
この場合図からも明らかなように開孔７上記第１の熱膨
張である長時間ドリフトの偏位方向とは反対の方向に変
位するようになシビームランデング誤差が生じる。
の動作状態でみられるものであシ、第１図に示すように
シャドウマスク２およびそのフレーム３が管軸方向に直
角な方向に膨張し、非動作時ａ点にあった開孔７がａ点
に変位する結果、該開孔７を通る電子ビーム１０による
パネル１内面の螢光面６上のスポットは本来のランデン
グ位［ｂからはずれてｂ点に変位されて、この変位量が
ビームランデング誤差となるものである。また第２の熱
膨張である短時間ドリフトは例えば受像管の動作開始直
後または動作中において画面上で局部的に短時間間るい
画面となる場合等にみられるものでアシ、第２図に示す
ように一般にシャドウマスク２が薄い鉄板で形成されて
そのフレーム３に比較し熱容量が小さいために、急激な
シャドウマスク２の膨張にフレーム３が順応して膨張し
々いことによって、シャドウマスク２のみが管軸方向と
平向な方向にいわゆるドーム状に膨張するものであυ、
この場合図からも明らかなように開孔７上記第１の熱膨
張である長時間ドリフトの偏位方向とは反対の方向に変
位するようになシビームランデング誤差が生じる。
ところでこのような二種類の熱膨張に対し、第１の熱膨
張である長時間ドリフトについては、従来シャドウマス
クを受像管のパネル内面に対向させて保持する際、マス
ク構体に曲部を有したバイメタルを介在させて、マスク
が電子ビームの射突によって温度上昇するのに伴なって
バイメタルの曲部が広がることを利用し、マスクを螢光
面方向に近づけるようにして補償する有効な考案がなさ
れている。一方策２の熱膨張である短時間ドリフトにつ
いてはシャドウマスクの周辺部を弱くしてシャドウマス
クを周辺方向に広がるようにしてドーム状の変形を緩和
するような対策が考案されているが不十分なものであっ
た。
張である長時間ドリフトについては、従来シャドウマス
クを受像管のパネル内面に対向させて保持する際、マス
ク構体に曲部を有したバイメタルを介在させて、マスク
が電子ビームの射突によって温度上昇するのに伴なって
バイメタルの曲部が広がることを利用し、マスクを螢光
面方向に近づけるようにして補償する有効な考案がなさ
れている。一方策２の熱膨張である短時間ドリフトにつ
いてはシャドウマスクの周辺部を弱くしてシャドウマス
クを周辺方向に広がるようにしてドーム状の変形を緩和
するような対策が考案されているが不十分なものであっ
た。
なぜならば画面の一部分だけが他の部分に比べて著しく
明るくほぼ静止に近い画像が長く続くような場合にはこ
の明るい部分に対応したシャドーウマスフの一部分だけ
が熱膨張を起こす。従ってそれをとシ囲む熱膨張して贋
ない部分が周辺方向への広が９を防げるように働くので
マスクの周辺部を弱くしてあっても何らドーム状変形の
緩和に寄与できないからである。このようなドーム状変
形は、第３図のように暗い両面σ２）を背景にして明る
い部分（１３）が画面の短辺端よシやや内側に縦方向に
長く現れたとき最も大きなビームランディング誤差が生
じることを確認した。このビームランディング誤差はシ
ャドウマスクの曲率が小さく（すなわち半径が大きく）
なるほど大きくなυクヤドウマスクを含めた画面の設計
上で大きな障害となつ喀ていた。
明るくほぼ静止に近い画像が長く続くような場合にはこ
の明るい部分に対応したシャドーウマスフの一部分だけ
が熱膨張を起こす。従ってそれをとシ囲む熱膨張して贋
ない部分が周辺方向への広が９を防げるように働くので
マスクの周辺部を弱くしてあっても何らドーム状変形の
緩和に寄与できないからである。このようなドーム状変
形は、第３図のように暗い両面σ２）を背景にして明る
い部分（１３）が画面の短辺端よシやや内側に縦方向に
長く現れたとき最も大きなビームランディング誤差が生
じることを確認した。このビームランディング誤差はシ
ャドウマスクの曲率が小さく（すなわち半径が大きく）
なるほど大きくなυクヤドウマスクを含めた画面の設計
上で大きな障害となつ喀ていた。
本発明は以上の点に鑑みてなされたものでシャドウマス
クの熱膨張による色ずれを抑制することを目的とする。
クの熱膨張による色ずれを抑制することを目的とする。
本発明はシャドウマスクにほぼその長手方向ｌに沿った
方向に少くとも２個以上の開孔にまたがる横長スリット
を設けて熱膨張による応力を緩和して局部的な熱変形を
減少させるものである。
方向に少くとも２個以上の開孔にまたがる横長スリット
を設けて熱膨張による応力を緩和して局部的な熱変形を
減少させるものである。
第４図は本発明の一実施例を示す図であシ、シャドウマ
スク（２）に、その長手方向に長いスリットα荀状の貫
通孔が設けられている。第５図（ａ）は第４図の横長ス
リット（１４）を含むシャドウマスクの要部の拡大図で
ある。横長スリット（１４）孔はシャドウマスクの水平
方向とほぼ同方向に沿って、この場合は縦長の矩形状開
孔（７）とほぼ直交する方向に設けられている。スリッ
ト（１荀の幅は第５図（ａ）のＡ−人断面を示す第５図
（ｂ）のようにシャドウマスク（２）の板厚または開孔
（７）の水平方向幅よりも４騙分小さくとってあシ、電
子ビームが通過しないように配慮しである。スリット孔
ａ４の形成方法はシャドウマスクの曲面を形成した後で
機緘的に打抜き形成する方、法が最も簡単であ′るが、
レーザー光で切る方法やマスクエツチング時に開孔（力
を穿設するのと同時に設ける方法等がちる。またスリッ
ト（１４）の形成位置は第３図に示すようにビームラン
ディング誤差が最も生じ易い短辺端よシやや内側に複数
個設けるのが効果的である。
スク（２）に、その長手方向に長いスリットα荀状の貫
通孔が設けられている。第５図（ａ）は第４図の横長ス
リット（１４）を含むシャドウマスクの要部の拡大図で
ある。横長スリット（１４）孔はシャドウマスクの水平
方向とほぼ同方向に沿って、この場合は縦長の矩形状開
孔（７）とほぼ直交する方向に設けられている。スリッ
ト（１荀の幅は第５図（ａ）のＡ−人断面を示す第５図
（ｂ）のようにシャドウマスク（２）の板厚または開孔
（７）の水平方向幅よりも４騙分小さくとってあシ、電
子ビームが通過しないように配慮しである。スリット孔
ａ４の形成方法はシャドウマスクの曲面を形成した後で
機緘的に打抜き形成する方、法が最も簡単であ′るが、
レーザー光で切る方法やマスクエツチング時に開孔（力
を穿設するのと同時に設ける方法等がちる。またスリッ
ト（１４）の形成位置は第３図に示すようにビームラン
ディング誤差が最も生じ易い短辺端よシやや内側に複数
個設けるのが効果的である。
次にこのようなスリット孔を設けたことによる効果につ
いて説明する。第３図に示すように画面上に明るい部分
（１３）が現れると、それに対応して第６図（ａ）に示
すようにシャドウマスク（２）に電子ビームの射突が周
囲よシも大きい領域（１５１が生じる。
いて説明する。第３図に示すように画面上に明るい部分
（１３）が現れると、それに対応して第６図（ａ）に示
すようにシャドウマスク（２）に電子ビームの射突が周
囲よシも大きい領域（１５１が生じる。
領域（１■は昇温して熱膨張を起こし点Ｐ。は変位を起
こす。ここで変位のようすを第６図（ａ）のＸ−Ｘ断面
、Ｙ−Ｙ断面の２つの断面を示す第６図（ｂ）及び第６
図（Ｃ）を癖照して考えてみると、’９．＞Ｐ３Ｐ４か
らＰ。ｐｏｙ ＞ ＰｏＰｏＸという結果が導出される
。
こす。ここで変位のようすを第６図（ａ）のＸ−Ｘ断面
、Ｙ−Ｙ断面の２つの断面を示す第６図（ｂ）及び第６
図（Ｃ）を癖照して考えてみると、’９．＞Ｐ３Ｐ４か
らＰ。ｐｏｙ ＞ ＰｏＰｏＸという結果が導出される
。
−例を示すと２０インチ型カラー受像管で計算した独立
して変位できるとした場合であって、実際にＩ″Ｎ＼ は独立して動くことはできないので弧Ｐ、Ｐ、には張力
、弧ＰＩＰ２には圧力がそれぞれ生じてＰｏの変位が決
ｉｂその変位量ｄはＰ。ＰｏＸ＜ｄ＜Ｐ。ＰｏＹとなる
。
して変位できるとした場合であって、実際にＩ″Ｎ＼ は独立して動くことはできないので弧Ｐ、Ｐ、には張力
、弧ＰＩＰ２には圧力がそれぞれ生じてＰｏの変位が決
ｉｂその変位量ｄはＰ。ＰｏＸ＜ｄ＜Ｐ。ＰｏＹとなる
。
また開孔形状としては第５図に示すように矩形状の開孔
を用いるシャドウマスクが主流となっているが、このよ
うなシャドウマスクでは構造上開孔の長手方向のヤング
率が開孔と直交する方向のヤング率よシはるかに大きく
前述の変位量ｄはＰ。ＰｏＹに近い値になっている。本
発明のようにスリット孔（Ｌ４１を設けておくと熱膨張
によるのびは第７図に破線で示すようにスリット孔α→
の幅の減少と力って吸収されるので第６図の点Ｐ０の変
位ｄはほぼＰｏＰｏＸの値に等しくなる。すなわち前述
した２０インチ型カラー受像管の例では点Ｐ。の変位が
スリット孔を設けることによって１．９ｍｍから０．９
マで減少し、ビームランディング誤差を大幅に減少でき
た。
を用いるシャドウマスクが主流となっているが、このよ
うなシャドウマスクでは構造上開孔の長手方向のヤング
率が開孔と直交する方向のヤング率よシはるかに大きく
前述の変位量ｄはＰ。ＰｏＹに近い値になっている。本
発明のようにスリット孔（Ｌ４１を設けておくと熱膨張
によるのびは第７図に破線で示すようにスリット孔α→
の幅の減少と力って吸収されるので第６図の点Ｐ０の変
位ｄはほぼＰｏＰｏＸの値に等しくなる。すなわち前述
した２０インチ型カラー受像管の例では点Ｐ。の変位が
スリット孔を設けることによって１．９ｍｍから０．９
マで減少し、ビームランディング誤差を大幅に減少でき
た。
またスリットの水平方向角度は第８図に示すようにシャ
ドウマスク（２）の長手方向に対してやや傾けて非平行
に設けることもできる。第８図のように傾けることによ
って電子ビームのもれ防止ニ対して有利となる。また第
９図に示すようにスリット孔α力の板厚方向断面角度を
電子ビーム（１０）の入射角度と異なるように、即ち電
７子ビームａ０の入射方向に対して直角な方向に近づけ
る方向に傾けることによっても電子ビームのもれ防止に
対して有利となシ本発明の実施を容易にする。
ドウマスク（２）の長手方向に対してやや傾けて非平行
に設けることもできる。第８図のように傾けることによ
って電子ビームのもれ防止ニ対して有利となる。また第
９図に示すようにスリット孔α力の板厚方向断面角度を
電子ビーム（１０）の入射角度と異なるように、即ち電
７子ビームａ０の入射方向に対して直角な方向に近づけ
る方向に傾けることによっても電子ビームのもれ防止に
対して有利となシ本発明の実施を容易にする。
以上のように本発明によれば、画面中に局部的に明るい
部分が静止してもシャドウマスクの熱変形が従来よシ大
幅に抑制され、その結果ビームランディング誤差の発生
を効果的に抑制することができる。
部分が静止してもシャドウマスクの熱変形が従来よシ大
幅に抑制され、その結果ビームランディング誤差の発生
を効果的に抑制することができる。
第１図は長時間ドリフト現象を説明するためのシャドウ
マスク近傍を示す断面図、第２図は短時間ドリフト現象
を説明するためのシャドウマスク近傍を示す断面図、第
３図は局部的に明るい部分のある画面を示す模式図、第
４図は本発明の一実施例な示す模式図、第５図（ａ）は
第４図の要部の拡大図、第５図（ｂ）は第５図（ａ）の
Ａ−Ａ線に沿う断面図、第６図（ａ）はシャドウマスク
の局部変形を説明するだめの模式図、第６図（ｂ）及び
第６う断面の局部変形を説明するための模式図、第７図
は本発明の詳細な説明するだめのシャドウマスクの断面
模式図、第８図及び第９図は本発明の他の実施例を示す
模式平面図及び断面図である。 （１）・・・パネル （２）・・・シャドウマスク （
３）・・・フレーム（６）・・・螢光面 （７）・・・
開孔 （８）・・・バイメタル（ｌＣＯ，α１）・・・
電子ビーム （１２・・・画面暗部 α３）・画面明部
ａ（イ）・・・スリット （１５１・・・シャドウマス
クの高温領域代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （ほか
１名）第 １ 図 （α） 第６図 （ｂン 几、 第 ７ 図 第８図 第９図
マスク近傍を示す断面図、第２図は短時間ドリフト現象
を説明するためのシャドウマスク近傍を示す断面図、第
３図は局部的に明るい部分のある画面を示す模式図、第
４図は本発明の一実施例な示す模式図、第５図（ａ）は
第４図の要部の拡大図、第５図（ｂ）は第５図（ａ）の
Ａ−Ａ線に沿う断面図、第６図（ａ）はシャドウマスク
の局部変形を説明するだめの模式図、第６図（ｂ）及び
第６う断面の局部変形を説明するための模式図、第７図
は本発明の詳細な説明するだめのシャドウマスクの断面
模式図、第８図及び第９図は本発明の他の実施例を示す
模式平面図及び断面図である。 （１）・・・パネル （２）・・・シャドウマスク （
３）・・・フレーム（６）・・・螢光面 （７）・・・
開孔 （８）・・・バイメタル（ｌＣＯ，α１）・・・
電子ビーム （１２・・・画面暗部 α３）・画面明部
ａ（イ）・・・スリット （１５１・・・シャドウマス
クの高温領域代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （ほか
１名）第 １ 図 （α） 第６図 （ｂン 几、 第 ７ 図 第８図 第９図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）異なる色光を発する３種の螢光体素子を１、組とし
て多数の前記螢光体組を形成配置した螢光面と、この螢
光面に近接対向してとシフけられ前記螢光体各組に対応
する多数の開孔を有するシャドウマスクとを備え、前記
シャドウマスクの水平方向とほぼ同方向に沿って少くと
も２個以上の前記開孔にまたがる複数の横長スリットを
設けたことを特徴とする力２−受像管。 ２）前記スリットの垂直方向幅が前記シャドウマスクの
板厚または前記開孔の水平方向幅よシも充分小なること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載のカラー受像管
。 ３）前記スリットの横長方向の角度が前記シャドウマス
クの水平方向角度と異なる非平行であることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載のカラー受像管。 ４）前記スリットの前記シャドウマスクの板厚方向断面
角度が電子ビームの入°射角度と異なることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載のカラー受像管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6828883A JPS59194332A (ja) | 1983-04-20 | 1983-04-20 | カラ−受像管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6828883A JPS59194332A (ja) | 1983-04-20 | 1983-04-20 | カラ−受像管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59194332A true JPS59194332A (ja) | 1984-11-05 |
Family
ID=13369428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6828883A Pending JPS59194332A (ja) | 1983-04-20 | 1983-04-20 | カラ−受像管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59194332A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100335112B1 (ko) * | 2000-04-29 | 2002-05-04 | 구자홍 | 칼라 음극선관용 색선별 전극 |
| EP1126500A3 (en) * | 2000-02-17 | 2002-05-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Cathode ray tube |
-
1983
- 1983-04-20 JP JP6828883A patent/JPS59194332A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1126500A3 (en) * | 2000-02-17 | 2002-05-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Cathode ray tube |
| KR100390270B1 (ko) * | 2000-02-17 | 2003-07-04 | 마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤 | 음극선관 |
| KR100335112B1 (ko) * | 2000-04-29 | 2002-05-04 | 구자홍 | 칼라 음극선관용 색선별 전극 |
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