JPS59200480A - 横励起ガスレ−ザ− - Google Patents
横励起ガスレ−ザ−Info
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- JPS59200480A JPS59200480A JP59072595A JP7259584A JPS59200480A JP S59200480 A JPS59200480 A JP S59200480A JP 59072595 A JP59072595 A JP 59072595A JP 7259584 A JP7259584 A JP 7259584A JP S59200480 A JPS59200480 A JP S59200480A
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
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- H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
この発明は、長く引き伸ばされた形のガス充填放電室の
両方の端面にそれぞれ−っの光学部品が共通軸（＋／−
デー光軸）上に設けられ、放電室内には光軸に沿って拡
がる二つの電極の主陽極および主陰極として設けられ、
主陽極と主陰極の間の主放電室の両方の開放区域には誘
電体′被覆で包まれた導体から成り光軸に平行に伸びる
補助電極が少くとも二つ設けられ、主電極と補助電極の
印加電圧を制御する制御ユニットが設けられている横励
起ガスレーザーに関するものである。
両方の端面にそれぞれ−っの光学部品が共通軸（＋／−
デー光軸）上に設けられ、放電室内には光軸に沿って拡
がる二つの電極の主陽極および主陰極として設けられ、
主陽極と主陰極の間の主放電室の両方の開放区域には誘
電体′被覆で包まれた導体から成り光軸に平行に伸びる
補助電極が少くとも二つ設けられ、主電極と補助電極の
印加電圧を制御する制御ユニットが設けられている横励
起ガスレーザーに関するものである。
〔従来技術とその間２題点〕
二の種のガスレーザーの一つは特開昭５７ ８８７８９
号公報により公知である。１ よく知られているように横励起レーザ’−（ＴＥレーザ
ー）はレーザー光軸に平行に拡が−った二つの電極の間
の大きな容積に亘って均一な放′１ｉが発生するときに
限ってその全出力に到〕コヒする。従一つでレーザー放
電室内には電場の集中がなく、又各放電の発生前に充分
な数の自由電子が存在するように注意しなければならな
い。
号公報により公知である。１ よく知られているように横励起レーザ’−（ＴＥレーザ
ー）はレーザー光軸に平行に拡が−った二つの電極の間
の大きな容積に亘って均一な放′１ｉが発生するときに
限ってその全出力に到〕コヒする。従一つでレーザー放
電室内には電場の集中がなく、又各放電の発生前に充分
な数の自由電子が存在するように注意しなければならな
い。
これらの条件を満たすためＦ記の文献には次の電極系が
提案されている。すなわちニー）の長く引伸ばされた形
の中実電極を主電極としてそれぞオｔの対電極に向って
ふくらませ、外側面にそれぞれ一つの誘電体被覆棒電極
を設ける。この電極系でレーザーの動作に際してまず主
電極とそれに所属する補助電極の間にコロナ放電が発生
する。この放電により紫外線が放出され、充填ガスをイ
オン化して主放電を誘起する。この種の電極系は比較的
簡単に実現することができるが、所属電極の形状と位置
を相互に精確に適合させなければならない。更にイオン
化効果が高いガス圧力と比較的低い電圧に沿いてもアー
ク放電を確実に防止するには必ずしも充分でないことも
示されている。
提案されている。すなわちニー）の長く引伸ばされた形
の中実電極を主電極としてそれぞオｔの対電極に向って
ふくらませ、外側面にそれぞれ一つの誘電体被覆棒電極
を設ける。この電極系でレーザーの動作に際してまず主
電極とそれに所属する補助電極の間にコロナ放電が発生
する。この放電により紫外線が放出され、充填ガスをイ
オン化して主放電を誘起する。この種の電極系は比較的
簡単に実現することができるが、所属電極の形状と位置
を相互に精確に適合させなければならない。更にイオン
化効果が高いガス圧力と比較的低い電圧に沿いてもアー
ク放電を確実に防止するには必ずしも充分でないことも
示されている。
イオン化作用は電極形状の変更により改善することがで
きる−例えば米国特許第４２４００４４号明細Ｎ中に検
討され−Ｃいるように補助電極を湾曲した主電極表面の
頂点に近づけ、同時に主電極には細長いくぼみをイ／Ｅ
っておくことができる。しかし主放電に対する条件自体
は余り軽減されないからこの万策は狭い範囲に限定され
る。
きる−例えば米国特許第４２４００４４号明細Ｎ中に検
討され−Ｃいるように補助電極を湾曲した主電極表面の
頂点に近づけ、同時に主電極には細長いくぼみをイ／Ｅ
っておくことができる。しかし主放電に対する条件自体
は余り軽減されないからこの万策は狭い範囲に限定され
る。
板の形の補助電極を使用し、主電極によって区画された
主放電室の両方の開放側面をこの補助電極板によって閉
鎖し、内側は別の絶縁板によって閉鎖することにより良
い結果が得られることが文献（０ｐｔｉｃｓ （’ｏｍ
＋ｎｕｎｉｃａｔｉｏｎ 、 ４４． １９８２゜り
、１２５）に発表されている。寸法を正しく選定すると
板電極の表面全体がコτコナ放電了う覆われ。
主放電室の両方の開放側面をこの補助電極板によって閉
鎖し、内側は別の絶縁板によって閉鎖することにより良
い結果が得られることが文献（０ｐｔｉｃｓ （’ｏｍ
＋ｎｕｎｉｃａｔｉｏｎ 、 ４４． １９８２゜り
、１２５）に発表されている。寸法を正しく選定すると
板電極の表面全体がコτコナ放電了う覆われ。
大面積の紫外線発光源となる。しかし板の厚さの最適値
が主電極の形状によって敏！へに斐化ｉ−１その上充填
ガスの種類と圧力に関係するという不債足さが残されて
いる。板が薄過ぎると絶縁物の表面に沿面放電が起り、
厚過ぎるとコロナ放′・Ｌに移されるエネルギーが低下
し充分なイオン化が９ｊわれなくなる。一連のレーザー
パラメーターを互に適合させる。−とはこれまで成功し
なかっ、、？。更にレーツーが閉鎖された放電室を使用
するものであ、ると、時間と共に充填ガスの各成分の分
圧が絶対的にも相対的にも変化するため別の困難な問題
ツリー起る。更に別の欠点は、頻繁なパルス繰返しの場
合に必要となる主放電室とその周囲との間のガスの交換
を板電極が妨害することである。
が主電極の形状によって敏！へに斐化ｉ−１その上充填
ガスの種類と圧力に関係するという不債足さが残されて
いる。板が薄過ぎると絶縁物の表面に沿面放電が起り、
厚過ぎるとコロナ放′・Ｌに移されるエネルギーが低下
し充分なイオン化が９ｊわれなくなる。一連のレーザー
パラメーターを互に適合させる。−とはこれまで成功し
なかっ、、？。更にレーツーが閉鎖された放電室を使用
するものであ、ると、時間と共に充填ガスの各成分の分
圧が絶対的にも相対的にも変化するため別の困難な問題
ツリー起る。更に別の欠点は、頻繁なパルス繰返しの場
合に必要となる主放電室とその周囲との間のガスの交換
を板電極が妨害することである。
二の発明の目的は、合理的な万ｃＴで装作し組Ｊてるこ
とができ、主電極、ガスの圧力と種類および印１、−口
屯圧に関して比較的自由な選択を許し、頻繁にパルスを
操り返す閉鎖式レーデ−としても好適であるガスレーザ
ーを提供することである。
とができ、主電極、ガスの圧力と種類および印１、−口
屯圧に関して比較的自由な選択を許し、頻繁にパルスを
操り返す閉鎖式レーデ−としても好適であるガスレーザ
ーを提供することである。
この目的は特許請求の範囲第１頂に特徴として挙げたレ
ーザー構成とすることによって達成される。
ーザー構成とすることによって達成される。
このづこ明によるレーザーの補助電極部分の動作は、コ
＋コナ放電が王、電極に向って発生するのでは／ｘ ＜
１ｉｉｆ接補助電極間に発生するので、広範囲に自律
的である。この場合補助電極対は、主放電室の大部分に
おいて強力なイオン化が起り続く主放電が均等になるよ
うに配置される。これは多数の補助電極対が光軸の両側
において主放電室の外に設けられているとき特に有効で
ある。この場合紫外光が有＋Ｕな位置に置かれた広い区
域内で発生する外に、主放′屯区間の縁端の電場に積極
的な影響を及ぼす。主放゛賀室の一方の側に置かれる補
助電極は一つの容易に組立てら丸る部品（−まとめ、、
必要に応じてそのまま容器壁に集積することができる。
＋コナ放電が王、電極に向って発生するのでは／ｘ ＜
１ｉｉｆ接補助電極間に発生するので、広範囲に自律
的である。この場合補助電極対は、主放電室の大部分に
おいて強力なイオン化が起り続く主放電が均等になるよ
うに配置される。これは多数の補助電極対が光軸の両側
において主放電室の外に設けられているとき特に有効で
ある。この場合紫外光が有＋Ｕな位置に置かれた広い区
域内で発生する外に、主放′屯区間の縁端の電場に積極
的な影響を及ぼす。主放゛賀室の一方の側に置かれる補
助電極は一つの容易に組立てら丸る部品（−まとめ、、
必要に応じてそのまま容器壁に集積することができる。
回路に対する要求ら充分低減′４！れる。叩ら主型１・
μと補助電極へのエネルギー供給は一つのエイ・ルギー
源から行なわれるが、このエネルギー源は一般に補助電
極を主電極に並列に接続゛する充分な写；１１を持−っ
ている。コ［Ｊす放電のエネルギーｉＲ５ま補助電極対
の設計だけによって決まる。この発明による密閉型レー
ザー（シールド・オフ・レージ１−）は比較的一定な出
力を示し、その」１放主室がその全長に亘って大きな面
積を通してバラスト室と沖絡し、それによって放電路の
ガスの、急速／ｆ町生を可能にするため高いパルス繰返
し周波数が達成される。
μと補助電極へのエネルギー供給は一つのエイ・ルギー
源から行なわれるが、このエネルギー源は一般に補助電
極を主電極に並列に接続゛する充分な写；１１を持−っ
ている。コ［Ｊす放電のエネルギーｉＲ５ま補助電極対
の設計だけによって決まる。この発明による密閉型レー
ザー（シールド・オフ・レージ１−）は比較的一定な出
力を示し、その」１放主室がその全長に亘って大きな面
積を通してバラスト室と沖絡し、それによって放電路の
ガスの、急速／ｆ町生を可能にするため高いパルス繰返
し周波数が達成される。
この発明によるがスンーナーは特に移・［リノ式・：）
）ｌ／−ザー距離測定装置に対して好適である。
）ｌ／−ザー距離測定装置に対して好適である。
この発明の種々の実施態様は特許請求の範ＬＩ′ｌ第２
頌以下に示されている。
頌以下に示されている。
実施例についてこの発明な更に詳細に説明する。
図面はこの発明の種々の実施例の概略を示すもので、こ
の発明を理解するのに必ずしも必要でない部分、例えは
光結合部品等は除かれている。
の発明を理解するのに必ずしも必要でない部分、例えは
光結合部品等は除かれている。
第１図に示したレーザーはパルス動作のＴＥガスレーザ
ーであって、例えば距離計に使用される。
ーであって、例えば距離計に使用される。
円筒形の放電容器１の両端面は図に示されていない共振
器反射焼によって閉鎖される。この二つの反射面によっ
て図に点２をもって象徴的に示さ士ｔている）１６軸カ
ー決定される。この軸のＬと下に主陰極３と主機（り４
が設けられているが、これらの電極はレーザー管の長さ
のほぼ全体に亘って伸び、互に特定の間隔を保・）て平
行１．ている。よく知られているように電極の表面はふ
くらんでいて、′重線ＨＩＪの空間に電鳴の不均一性が
できるだけ生じないようになっている。容器壁を通して
導かれた導線５，６により下極が外部回路に結ばれる。
器反射焼によって閉鎖される。この二つの反射面によっ
て図に点２をもって象徴的に示さ士ｔている）１６軸カ
ー決定される。この軸のＬと下に主陰極３と主機（り４
が設けられているが、これらの電極はレーザー管の長さ
のほぼ全体に亘って伸び、互に特定の間隔を保・）て平
行１．ている。よく知られているように電極の表面はふ
くらんでいて、′重線ＨＩＪの空間に電鳴の不均一性が
できるだけ生じないようになっている。容器壁を通して
導かれた導線５，６により下極が外部回路に結ばれる。
軸２の左と右にはそれぞれ補助陰極７又は８と補助陽極
９又は１０があ［八これらの補助電極はいずれも軸２に
平行に伸びる誘電体中空円筒１１から成り、その内壁面
は電気導体１２で覆われ−Ｃ７）る。
９又は１０があ［八これらの補助電極はいずれも軸２に
平行に伸びる誘電体中空円筒１１から成り、その内壁面
は電気導体１２で覆われ−Ｃ７）る。
放電容器】内の空室ｌ−はＩ／−ザー混ａＨスが満たさ
れる。
れる。
レーザーの各部分に対しては次の同各と寸法が考えられ
ている。
ている。
容器１はＡＩ、０３で作られ、長さ約２５Ｃ＋ｎ、内径
約ＪθＩＪｎである。両方の庄ミ極は（： ｒ Ｎｉ
Ｊで作られ、補助電極７，８，９．１０）ま例えば内面
が金属化されたＡｌ２Ｏ，成形管とする。充填ガス（・
まＣＯ２レーザーの場合例えばＣＯ２：１マ、：Ｈｅ−
１ｓ：ｔ５ニアｏの混合ガスで、充４真ｊモは１０００
ｒｎ ｂ ａ ｒである。
約ＪθＩＪｎである。両方の庄ミ極は（： ｒ Ｎｉ
Ｊで作られ、補助電極７，８，９．１０）ま例えば内面
が金属化されたＡｌ２Ｏ，成形管とする。充填ガス（・
まＣＯ２レーザーの場合例えばＣＯ２：１マ、：Ｈｅ−
１ｓ：ｔ５ニアｏの混合ガスで、充４真ｊモは１０００
ｒｎ ｂ ａ ｒである。
レー２−の動作回路の最も簡単なもの乞刀２図：二示す
。コンデンサ１３はトリが可能の火花間隙１５を通して
計電極３と４に結ばれ、ヤ＋：ｉ Ｉ］ｔｌ心ｌｌ８１
ｉ ）よ主゛硫極に並列に接続され′Ｃいる。抵Ｉ′ｊ
Ｃ］ ４は′・（ｉ立結合用のものである。
。コンデンサ１３はトリが可能の火花間隙１５を通して
計電極３と４に結ばれ、ヤ＋：ｉ Ｉ］ｔｌ心ｌｌ８１
ｉ ）よ主゛硫極に並列に接続され′Ｃいる。抵Ｉ′ｊ
Ｃ］ ４は′・（ｉ立結合用のものである。
この発明のレーザー装置により既に１０係以」−の効率
が達成されている。
が達成されている。
第３図と第４図にはそれぞれ賢る実施例が示されている
。
。
第３図のレーデ−は）′凸軸の両４１１にそれぞれ二つ
の浦助電睡対が設けら）ｔ、これら二つの電極対が共ノ
ｍの誘電体被覆（１６又は１７）で包まれ、被覆とレー
リ゛−容器が組合わされて一〇の成形体１８を構成して
いる点が第７図のものと異っている。
の浦助電睡対が設けら）ｔ、これら二つの電極対が共ノ
ｍの誘電体被覆（１６又は１７）で包まれ、被覆とレー
リ゛−容器が組合わされて一〇の成形体１８を構成して
いる点が第７図のものと異っている。
隣り合せ／こ補助電極は、一方は主陰極に他方は主陰極
に接続され、最上部の両方の導体は下方の主′電極に、
最丁部の両方の導体はヒ万の主電極に結ばれる。
に接続され、最上部の両方の導体は下方の主′電極に、
最丁部の両方の導体はヒ万の主電極に結ばれる。
第４図のレーナーは一回折りだそまれた光Ｍ（２′、
２１ ）を侍つ。図には並べて設けられ中間壁で隔離
された二つの主電極対（３’＋４’）と（３″、４１）
が示さ）ｔている。中間壁と；５７ ’１４９４の両方
の外壁にはそれぞれ二つの補助電極対が集積されている
。中間壁の補助１岡が両方の壁面にコロナ放電な発生さ
せる。
２１ ）を侍つ。図には並べて設けられ中間壁で隔離
された二つの主電極対（３’＋４’）と（３″、４１）
が示さ）ｔている。中間壁と；５７ ’１４９４の両方
の外壁にはそれぞれ二つの補助電極対が集積されている
。中間壁の補助１岡が両方の壁面にコロナ放電な発生さ
せる。
この発明は１凶示の実施例に限定さＡｔ己もフ）−一は
ない。補助電極部分に荷動なコロナ放′、市を発生させ
ることが主要な点であるから、特に構成に関しては広い
変更の余地がある。例えば主室ｊ４４（別の１１面形状
とすること、袖助電峰を中実体とすうこと、放電容器を
電気導体で作ること、装置に非付称性を導入すること等
が可能である。１１ｙに放電（ｉ」路に例えばＬＣ要素
をユｌ加して主放電を先トド−るコロナ放電に対して更
（二遅らせることも専関しくにまかされていることであ
る。
ない。補助電極部分に荷動なコロナ放′、市を発生させ
ることが主要な点であるから、特に構成に関しては広い
変更の余地がある。例えば主室ｊ４４（別の１１面形状
とすること、袖助電峰を中実体とすうこと、放電容器を
電気導体で作ること、装置に非付称性を導入すること等
が可能である。１１ｙに放電（ｉ」路に例えばＬＣ要素
をユｌ加して主放電を先トド−るコロナ放電に対して更
（二遅らせることも専関しくにまかされていることであ
る。
別の種類のレーザー例えばエフシマ・レーザ′−を使用
することも考えられる。
することも考えられる。
４＋、 図面の簡単な説明
ち３］図はこの発明の勇−の実施例の１９＋ （ｆ＋’
ｒ ｌ’：’、１、第２図は、二の実施例の吻作口路ヌ
１こｊウリ、第３図と第４図はこの発明の第二と第三の
実施例の…）面図である。各図面において、 １：レーザー放電容器、３と４：＋電ｔ、才ｕ、７と８
＝補助陰極、９と１０ ： ／ｉｔｉ助１陽極。
ｒ ｌ’：’、１、第２図は、二の実施例の吻作口路ヌ
１こｊウリ、第３図と第４図はこの発明の第二と第三の
実施例の…）面図である。各図面において、 １：レーザー放電容器、３と４：＋電ｔ、才ｕ、７と８
＝補助陰極、９と１０ ： ／ｉｔｉ助１陽極。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）長く引伸ばされた形のガス充填放電室の光軸１に：
つの光学部品が対向して設けられ、長く伸びた形の主陽
極と主陰極がそれぞれ放電室の光軸に平行に伸び、主陽
極と主陰極の間の主）ｌＩ電主室開放側の区域にツタ主
室の光軸に平１ｆに伸びた形の補助電極が少くとも二つ
設けられ、これらの補助電極はそれぞれ誘電体の被覆で
包′すれた導体から成り他の総ての電極に対しである放
電間隙を保・つて配置されて１６つ、主電極と補助電極
の印加電圧を制御する制御ユニットが設けられている横
励起ガスレーザーに飽いて、主放電室の両側の開放区域
内に光軸に平行に配置された二つの補助電極から成る補
助電極対が二つ（７，９および８．ＩＯ）設けられ、そ
れぞれの電極対の近接して設けられた二つの電極がレー
ザーの動作中その間にコロナ放電が発生ｉ−るように異
る電位に置かれることを特徴どする横励起ガスレーザー
。 ２）補助電極（７，８）が主室イヴ（３，４）の一方と
、補助電極（９，１０）がそシ）他方と電気的に結ばれ
ていることを！ｌ″Ｊ徴とするり一１ｉ、〆１請求の範
囲第１項記載のノｆスレーザー。 ３）主陰極（３）に所属する補ヅノ′電極が補助陽極（
９，１０）であり、主陽極（４）に１９７属するのが補
助陰極（７，８）であることを１、ｌ「徴とする特許請
求の範囲第】項又は第：２ Ｑｌ 、ｉ１２載のガスレ
ーザー。 ４）主電極（３，４）のそれぞれとそれに所属する補助
電極（９，１０又は７，８）との１・ｌの間隔が、主陰
極（３）と補助電極ｆ９．１０）の間および主陽極（４
）と袖助陰１？ｊ；（７，）＋）の間にコロナ放電が定
生するように狭くなっていることを特徴とする特許、苗
」〈のｈ範囲第３項記載のガスレーザー。 ５）主放゛賀室の両側の開放区域内にそれぞれ少くとも
−っの補助陽極（９，１０）の中の一つと補助陰極（７
，８）の中の−っから成る補助電極対が置かれているこ
とを特徴とする特許請求の範囲何１項乃至第４項の一つ
に記載のガスレーザー。 ６）Ｉｉｉ助電極電極乃至１０）が主放電室外に置かれ
ていることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第５
項の一つに記載のガスレーザー〇 ７）主放電室の両方の開放側に置かれている補助電極対
（７，９および８．１０）の少くとも一方が共通の誘電
体被覆（１６，１７）を備えていることを特徴とする特
許請求の範囲用１項乃至第６項の−っに記載の、げスレ
ーザー〇 ８）共通の誘電体被覆（１６，１７）の主放゛主室に向
う側が凹んだ断面曲線となっていることを特徴とする特
許請求の範囲第７功記載のガスレーザー。 ９）補助電極（７，８，９，１０）が放電室（１）の側
壁に集積椅・宣としてまとめられていることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項乃至第８項の一つに記載のガス
レーデ−８１０）主放電室の両方の開放区域の一方に多
数の補助電極対が設けられる場合、補助電極（７，９，
８，１０）のそれぞれが交互に補助陰極と補助陽極にな
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第９項の
一一一つに記載のリスレーザー。 １１）補助電極（７，８，９，１ｏ）がそれぞれ主電極
（３１４）の一つと電気的に直接語きされていることを
特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第１０項の一つに
記載のリスレーザー。 １２）少くとも二つの主電極対（３’、４’ｓよび３＃
、 ４＃ ）が並び合って設けられ、これらの主電極
対の間に少くとも一つの補助゛電極対が設けら）ｔ、こ
の補助電極対が両方の主放電室のガスの予備イオン化に
使用されることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至
第１１項の一つに記・ｋＩｌのＭ潰型ガスレーザー。 １３）主室４ＢＣ３，４）が第一平面に対して鋤映対称
に配置され、補助電極（７，８，９，１０）が第一平面
に直交する第二平面に対して鏡映灯称に配置されている
ことを特徴とする特許請求の範囲ｉス！ １ 、［Ｊｌ
乃至第１２項の一つに記載のガスレーザー。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE33138117 | 1983-04-15 | ||
| DE19833313811 DE3313811A1 (de) | 1983-04-15 | 1983-04-15 | Transversal angeregter gaslaser |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59200480A true JPS59200480A (ja) | 1984-11-13 |
| JPH0460356B2 JPH0460356B2 (ja) | 1992-09-25 |
Family
ID=6196556
Family Applications (1)
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| DE3644004C2 (de) * | 1986-06-23 | 1995-08-03 | Lambda Physik Gmbh | Schaltung für die Vorionisierung und Hauptentladung eines gepulsten Gaslasers |
| DE3732135A1 (de) * | 1987-09-24 | 1989-04-13 | Deutsche Forsch Luft Raumfahrt | Entladungskanal fuer hochleistungslaser |
| US4905250A (en) * | 1987-11-13 | 1990-02-27 | The European Atomic Energy Community | Pre-ionizing electrode arrangement for a gas discharge laser |
| US4847853A (en) * | 1988-11-17 | 1989-07-11 | United Technologies Corporation | CO2 tea laser having isolated preionization compartments |
| DE3914923A1 (de) * | 1989-05-06 | 1990-11-08 | Heraeus Holding | Entladungsvorrichtung |
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Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5788789A (en) * | 1980-09-22 | 1982-06-02 | Kraftwerk Union Ag | High energy laser |
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