JPS59219392A - ガスに対する付臭方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 １　　〔本発明の屈する技術分野〕 本発明（」、カスに対する付臭方υ、及びその装置にＴ
　　　関するもので、詳しくは、都市カスなどに於いし
　　　て、生ガスの漏洩を早期に発見じて処理するため
に、安全対策」−供給ガスに対してバイパス方式にイ　
　　より刺具する方法及びその装置に関するものであｉ
ｌｌ　　　　る。

籠　　〔従来の技術〕 第１図は従来における／＼イパス方式に基づく伺１　　
　臭装置を示し、ガス導管０１に絞り機構０２を八つ　
　　イパスするバイパス管０３を取り付けると共にこＬ
　　　のバイパス省０３内に付臭剤槽０４を取すイ・１
け、バイパス管０３を通過するガスに付臭剤を蒸発させ
て飽和させるものである。

〔従来技術の問題点〕

従来のバイパス式付臭方法（装置）は以上の如き構成の
ため、バイパス管内を通過するガスの温度及び圧力変動
があると、付臭濃度が変化する欠点を有している。そこ
で、従来はバイパス管０３内に手動バルブ０５を取り付
けておき、この手動バルブ０５を経験と勘に頼って操作
しながらバイパス管０３内を通過するガス量を変化させ
て濃度が規定の範囲内に収まるように調整している。

しかし、上記の方法では、経験者でないと調整出来ない
ことと、温度変化や圧力変化が大きい設備ではバルブの
操作が頻繁となり、現実的な対応が不可能である。そこ
で、他の付臭装置に比し多くの利点を有する前記従来方
式ではあるが、採用は見送られている。

〔本発明の目的〕 本発明は叙上の如き点から、バイパス管内を通過する圧
力及び温度変化があっても付臭濃度が変化しない付臭方
法及びこの方法に使用される付臭装置を提案するのが目
的である。

〔本発明の構成〕

本発明は上記目的を達成するために、バイパス管（ライ
ン）内を通過するガスの圧力と温度とを検出し、この検
出値に基づいて次の式により演算を１１い、補正値を求
め、この補正値に基づいてバイパス管内に取り付けた流
量制御弁を自動制御して流量制御を行ないながら付臭濃
度を一定に維持するものである。

先ず、第２図に於いて、ガス導管１内を通過するガスの
流量をＶ＋　（Ｎ％　となし、バイパス管２内を通過す
るガスの流量をＶ２　（”％）とするとき、バイパス流
路の流量調節弁以外の流体抵抗はほとんど無視できるも
のとして、 ・分流比 ＣＶ＋・・・メインガス導管ノズル の容量係数 ＣＶ２・・・バイパス管の流量制御 弁の容量係数 ・付臭剤バランス 蒸発量Ｆ丁（ｇ／ｈ）、滴下率α（ｇ　Ａｍ’　）、Ａ
点の揮発量γ（ｇ　Ａｍ”　） ＦＴ＝α・（■＋ｖ２）＝′ｖ２φγ ・ガス圧力とＡ点の揮発量の関係 ガス圧力ＰＩ（ｋｇ／ｃｒｎ’ａｂｓ）、　付臭剤飽和
蒸気圧Ｐｏ　（ｍｍＨｚｏ　）　、付臭剤の種類により
定まる定数ＫＰ′ｎ （°、”Ｐ、）＞ＰＤ） ・付臭剤の飽和蒸気圧特性 ガス温度ｔ（’Ｃり Ｐ、＝ヂ（１＋）　−−−−−−−−−■■〜■式より ■式より となる。

以上の演算から、バイパス管２に取り付けたりニアル特
性を有する制御弁３の制御値（ＣＶ）を圧力・温度の関
数としての上式のように特性化すると、定量性の高い、
付臭が可能となる。

なお、第２図に於いて、４は演算器、５はこの演算器４
と制御弁３を結ぶ信号線、６は付臭装置、７は圧力検出
点、８は温度検出器、９．１０は信号線、１１は温度変
換器である。

第３図は上記符号６で示した付臭装置を示し、（ツ臭剤
槽６内にパイプ１２を垂直に装入し、このパイプ１２の
一部にガス導管ｌからガス１３を導入してパイプ１２内
に送入し、バブルポンプ方式により付臭剤槽６内の付臭
剤を槽内上部に導いてバイパス管２から槽内に入ったガ
スに蒸発させて飽和させる構成である。

第４．Ａは付臭装置の他の実施例を示し、付臭剤槽６内
に仕切板１４をたて方向にずらして装入することにより
蛇行流路１５を形成し、この蛇行流路Ｌ５内においてバ
イパス管２から槽内に入ったガスに付臭剤を蒸発させて
飽和させる構成である。なお、仕切板１４の両面に付臭
液と親和性の高い繊維等の多孔質材料を添伺すればガス
と４＝］臭液との接触面積が拡大し、高流量域まで飽和
状態が維持でき、本装置の適用範囲の拡大が図れる。

第５図は付臭装置の他の実施例を示し、付臭剤槽６の天
蓋中心に対して上方からガス送入パイプ１６を挿入し、
槽内のフロート１７により液面よりやや離れた位置に浮
上させた傘状噴出体１８のカス人口１９を前記カス送入
パイプ１６内に上下動自在に挿入し、液面の変動に常に
追従させながら安定した刺具剤の蒸発と飽和を図る構成
である。２０は傘状噴出体１８の周囲に形成した多脚状
のスカートにして、ガスと付臭液との接触の促進を図る
ものである。

〔本発明の効果〕

本発明は以１−のように、ガス圧に変動があった場合及
びガスに温度変化が生じ、この結果飽和蒸気圧に変動が
あった場合に、これを検出し、この検出値から補正値を
演算することによりバイパス管２内を通過するガス量を
制御して、付臭濃度の安定化を図るので、付臭濃度の変
化に基づくトラブルの発生は防止できる。

次に、イ＋Ｊ臭装置として、第３図に示すような／″−
プルポンプ方式第４図に示すような流路蛇行方式、第５
図に示すようなフローｉ・方式を採用することにより、
高流量域まで付臭液の飽和状態が保障される。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のバイパス式付臭装置の説明図、第２図は
本発明に係る付臭方法及びその装置を示す一実施例図、
第３図（イ）、（ロ）はバブルポンプ方式を採用した付
臭装置の断面図、第４図（イ）、（ロ）は蛇行流路方式
を採用した付臭装置の断面図、第５図（イ）、（ロ）、
（ハ）はフロート方式を採用した付臭装置の断面図であ
る。 １・・・・・・ガス導管、２・・・・・・バイパス管、
３・旧・・流量制御弁、４・・・・・・演算器、６・・
・用刺具装置。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）カス導管に対してバイパス管を取り付けると」に
   このバイパス管の一部に刺具剤槽を取り付け、バイパス
   管内を通過するカスに付臭剤を蒸発させて飽和させるガ
   スに対する付臭方法において、イ・臭剤槽内の圧力と槽
   内山側又は出口近傍の温度」を検出し、これら二つの変
   動値から補正値を演３してバイパス省内を通過するカス
   のがＬ蛍を調整するカスに対する付臭方法。
2. （２）伺晃剤槽内１こパイプを垂直に装入し、このパ・
   プ内にカス導管内のカスの一部を送入し、付臭ｔを槽内
   上部に導いて拡散し、蒸発させるように本成した刺具装
   置。
3. （３）　４・ｌ臭剤槽内たて方向に仕切板をずらして装
   入することにより蛇行流路を形成し、バイパス管内Ｃカ
   スをこの蛇行流路を介して通過させることに。 り刺具剤を蒸発させるように構成したイ」臭装置。
4. （４）　４＝ｊ臭剤槽の天蓋中心に対して上方からガス
   送入パイプを取すイ・」け、下位にフロートを取り伺け
   た傘状噴出体のカス入口を前記ガス送入パイプ内に」二
   下動目在に挿入し、ガスの噴出口を液面に近づ（けてイ
   ・］臭剤の蒸発を行うように構成した刺具装置。