JPH0414158B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0414158B2 JPH0414158B2 JP58094589A JP9458983A JPH0414158B2 JP H0414158 B2 JPH0414158 B2 JP H0414158B2 JP 58094589 A JP58094589 A JP 58094589A JP 9458983 A JP9458983 A JP 9458983A JP H0414158 B2 JPH0414158 B2 JP H0414158B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- odorant
- tank
- pipe
- bypass pipe
- Prior art date
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔本発明の属する技術分野〕
本発明は、ガスに対する付臭方法及びその装置
に関するもので、詳しくは、都市ガスなどに於い
て、生ガスの漏洩を早期に発見して処理するため
に、安全対策上供給ガスに対してバイパス方式に
より付臭する方法及びその装置に関するものであ
る。
に関するもので、詳しくは、都市ガスなどに於い
て、生ガスの漏洩を早期に発見して処理するため
に、安全対策上供給ガスに対してバイパス方式に
より付臭する方法及びその装置に関するものであ
る。
第１図は従来におけるバイパス方式に基づく付
臭装置を示し、ガス導管０１に絞り機構０２をバ
イパスするバイパス管０３を取り付けると共にこ
のバイパス管０３内に付臭剤槽０４を取り付け、
バイパス管０３を通過するガスに付臭剤を蒸発さ
せて飽和させるものである。
臭装置を示し、ガス導管０１に絞り機構０２をバ
イパスするバイパス管０３を取り付けると共にこ
のバイパス管０３内に付臭剤槽０４を取り付け、
バイパス管０３を通過するガスに付臭剤を蒸発さ
せて飽和させるものである。
従来のバイパス式付臭方法（装置）は以上の如
き構成のため、バイパス管内を通過するガスの温
度及び圧力変動があると、付臭濃度が変化する欠
点を有している。そこで、従来はバイパス管０３
内に手動バルブ０５を取り付けておき、この手動
バルブ０５を経験と勘に頼つて操作しながらバイ
パス管０３内を通過するガス量を変化させて濃度
が規定の範囲内に収まるように調整している。
き構成のため、バイパス管内を通過するガスの温
度及び圧力変動があると、付臭濃度が変化する欠
点を有している。そこで、従来はバイパス管０３
内に手動バルブ０５を取り付けておき、この手動
バルブ０５を経験と勘に頼つて操作しながらバイ
パス管０３内を通過するガス量を変化させて濃度
が規定の範囲内に収まるように調整している。
しかし、上記の方法では、経験者でないと調整
出来ないことと、温度変化や圧力変化が大きい設
備ではバルブの操作が頻繁となり、現実的な対応
が不可能である。そこで、他の付臭装置に比し多
くの利点を有する前記従来方式ではあるが、採用
は見送られている。
出来ないことと、温度変化や圧力変化が大きい設
備ではバルブの操作が頻繁となり、現実的な対応
が不可能である。そこで、他の付臭装置に比し多
くの利点を有する前記従来方式ではあるが、採用
は見送られている。
本発明は叙上の如き点から、バイパス管内を通
過する圧力及び温度変化があつても付臭濃度が変
化しない付臭方法及びこの方法に使用される付臭
装置を提案するのが目的である。
過する圧力及び温度変化があつても付臭濃度が変
化しない付臭方法及びこの方法に使用される付臭
装置を提案するのが目的である。
本発明は上記目的を達成するために、バイパス
管（ライン）内を通過するガスの圧力と温度とを
検出し、この検出値に基づいて次の式により演算
を行い、補正値を求め、この補正値に基づいてバ
イパス管内に取り付けた流量制御弁を自動制御し
て流量制御を行ないながら付臭濃度を一定に維持
するものである。
管（ライン）内を通過するガスの圧力と温度とを
検出し、この検出値に基づいて次の式により演算
を行い、補正値を求め、この補正値に基づいてバ
イパス管内に取り付けた流量制御弁を自動制御し
て流量制御を行ないながら付臭濃度を一定に維持
するものである。
先ず、第２図に於いて、ガス導管１内を通過す
るガスの流量をV1（Ｎm3／ｈ）となし、バイパス
管２内を通過するガスの流量をV2（Ｎm3／ｈ）と
するとき、バイパス流路の流量調節弁以外の流体
抵抗はほとんど無視できるものとして、 ● 分流比 V1／V2＝CV2／CV1 …… （∵圧損ΔPが共通） CV1…メインガス導管ノズルの容量係数 CV2…バイパス管の流量制御弁の容量係数 ● 付臭剤バランス 蒸発量FT（ｇ／ｈ）、滴下率α（ｇ／Ｎm3）、Ａ
点の揮発量γ（ｇ／Ｎm3） FT＝α・（V1＋V2）＝V2・γ V2／V1＋V2≒V2／V1＝α／γ …… （∵V1≫V2） ● ガス圧力とＡ点の揮発量の関係 ガス圧力P1（Kg／cm2abs）、付臭剤飽和蒸気圧PD
（mmH2O）、付臭剤の種類により定まる定数Ｋ γ＝PD／P1−PD×10-4×Ｋ ≒Ｋ・Pn／P1・PD …… （∵P1≫PD） ● 付臭剤の飽和蒸気圧特性 ガス温度ｔ（℃） PD＝（t1） …… 〜式より V2／V1＝CV2／CV1＝α／γ＝α・P1／Ｋ・（t1）・Pn
…… 式より CV2α・CV1／Ｋ・P1／Pn・１／（t1）…… となる。
るガスの流量をV1（Ｎm3／ｈ）となし、バイパス
管２内を通過するガスの流量をV2（Ｎm3／ｈ）と
するとき、バイパス流路の流量調節弁以外の流体
抵抗はほとんど無視できるものとして、 ● 分流比 V1／V2＝CV2／CV1 …… （∵圧損ΔPが共通） CV1…メインガス導管ノズルの容量係数 CV2…バイパス管の流量制御弁の容量係数 ● 付臭剤バランス 蒸発量FT（ｇ／ｈ）、滴下率α（ｇ／Ｎm3）、Ａ
点の揮発量γ（ｇ／Ｎm3） FT＝α・（V1＋V2）＝V2・γ V2／V1＋V2≒V2／V1＝α／γ …… （∵V1≫V2） ● ガス圧力とＡ点の揮発量の関係 ガス圧力P1（Kg／cm2abs）、付臭剤飽和蒸気圧PD
（mmH2O）、付臭剤の種類により定まる定数Ｋ γ＝PD／P1−PD×10-4×Ｋ ≒Ｋ・Pn／P1・PD …… （∵P1≫PD） ● 付臭剤の飽和蒸気圧特性 ガス温度ｔ（℃） PD＝（t1） …… 〜式より V2／V1＝CV2／CV1＝α／γ＝α・P1／Ｋ・（t1）・Pn
…… 式より CV2α・CV1／Ｋ・P1／Pn・１／（t1）…… となる。
以上の演算から、バイパス管２に取り付けたリ
ニアル特性を有する制御弁３の制御値（CV）を
圧力・温度の関数としての上式のように特性化す
ると、定量性の高い、付臭が可能となる。
ニアル特性を有する制御弁３の制御値（CV）を
圧力・温度の関数としての上式のように特性化す
ると、定量性の高い、付臭が可能となる。
なお、第２図に於いて、４は演算器、５はこの
演算器４と制御弁３を結ぶ信号線、６は付臭装
置、７は圧力検出点、８は温度検出器、９，１０
は信号線、１１は温度変換器である。
演算器４と制御弁３を結ぶ信号線、６は付臭装
置、７は圧力検出点、８は温度検出器、９，１０
は信号線、１１は温度変換器である。
第３図は上記符号６で示した付臭装置を示し、
付臭剤槽６内にパイプ１２を垂直に装入し、この
パイプ１２の一部にガス導管１からガス１３を導
入してパイプ１２内に送入し、バブルポンプ方式
により付臭剤槽６内の付臭剤を槽内上部に導いて
バイパス管２から槽内に入つたガスに蒸発させて
飽和させる構成である。
付臭剤槽６内にパイプ１２を垂直に装入し、この
パイプ１２の一部にガス導管１からガス１３を導
入してパイプ１２内に送入し、バブルポンプ方式
により付臭剤槽６内の付臭剤を槽内上部に導いて
バイパス管２から槽内に入つたガスに蒸発させて
飽和させる構成である。
第４図は付臭装置の他の実施例を示し、付臭剤
槽６内に仕切板１４をたて方向にずらして装入す
ることにより蛇行流路１５を形成し、この蛇行流
路１５内においてバイパス管２から槽内に入つた
ガスに付臭剤を蒸発させて飽和させる構成であ
る。なお、仕切板１４の両面に付臭液と新和性の
高い繊維等の多孔質材料を添付すればガスと付臭
液との接触面積が拡大し、高流量域まで飽和状態
が維持でき、本装置の適用範囲の拡大が図れる。
槽６内に仕切板１４をたて方向にずらして装入す
ることにより蛇行流路１５を形成し、この蛇行流
路１５内においてバイパス管２から槽内に入つた
ガスに付臭剤を蒸発させて飽和させる構成であ
る。なお、仕切板１４の両面に付臭液と新和性の
高い繊維等の多孔質材料を添付すればガスと付臭
液との接触面積が拡大し、高流量域まで飽和状態
が維持でき、本装置の適用範囲の拡大が図れる。
第５図は付臭装置の他の実施例を示し、付臭剤
槽６の天蓋中心に対して上方からガス送入パイプ
１６を挿入し、槽内のフロート１７により液面よ
りやや離れた位置に浮上させた傘状噴出体１８の
ガス入口１９を前記ガス送入パイプ１６内に上下
動自在に挿入し、液面の変動に常に追従させなが
ら安定した付臭剤の蒸発と飽和を図る構成であ
る。２０は傘状噴出体１８の周囲に形成した多脚
状のスカートにして、ガスと付臭液との接触の促
進を図るものである。
槽６の天蓋中心に対して上方からガス送入パイプ
１６を挿入し、槽内のフロート１７により液面よ
りやや離れた位置に浮上させた傘状噴出体１８の
ガス入口１９を前記ガス送入パイプ１６内に上下
動自在に挿入し、液面の変動に常に追従させなが
ら安定した付臭剤の蒸発と飽和を図る構成であ
る。２０は傘状噴出体１８の周囲に形成した多脚
状のスカートにして、ガスと付臭液との接触の促
進を図るものである。
本発明は以上のように、ガス圧に変動があつた
場合及びガスに温度変化が生じ、この結果飽和蒸
気圧に変動があつた場合に、これを検出し、この
検出値から補正値を演算することによりバイパス
管２内を通過するガス量を制御して、付臭濃度の
安定化を図るので、付臭濃度の変化に基づくトラ
ブルの発生は防止できる。
場合及びガスに温度変化が生じ、この結果飽和蒸
気圧に変動があつた場合に、これを検出し、この
検出値から補正値を演算することによりバイパス
管２内を通過するガス量を制御して、付臭濃度の
安定化を図るので、付臭濃度の変化に基づくトラ
ブルの発生は防止できる。
次に、付臭装置として、第３図に示すようなバ
ブルポンプ方式、第４図に示すような流路蛇行方
式、第５図に示すようなフロート方式を採用する
ことにより、高流量域まで付臭液の飽和状態が保
障される。
ブルポンプ方式、第４図に示すような流路蛇行方
式、第５図に示すようなフロート方式を採用する
ことにより、高流量域まで付臭液の飽和状態が保
障される。
第１図は従来のバイパス式付臭装置の説明図、
第２図は本発明に係る付臭方法及びその装置を示
す一実施例図、第３図イ，ロはバブルポンプ方式
を採用した付臭装置の断面図、第４図イ，ロは蛇
行流路方式を採用した付臭装置の断面図、第５図
イ，ロ，ハはフロート方式を採用した付臭装置の
断面図である。 １……ガス導管、２……バイパス管、３……流
量制御弁、４……演算器、６……付臭装置。
第２図は本発明に係る付臭方法及びその装置を示
す一実施例図、第３図イ，ロはバブルポンプ方式
を採用した付臭装置の断面図、第４図イ，ロは蛇
行流路方式を採用した付臭装置の断面図、第５図
イ，ロ，ハはフロート方式を採用した付臭装置の
断面図である。 １……ガス導管、２……バイパス管、３……流
量制御弁、４……演算器、６……付臭装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ガス導管に対してバイパス管を取り付けると
共にこのバイパス管の一部に付臭剤槽を取り付
け、バイパス管内を通過するガスに付臭剤を蒸発
させて飽和させるガスに対する付臭方法におい
て、付臭剤槽内の圧力と槽内出側又は出口近傍の
温度とを検出し、これら二つの変動値から補正値
を演算してバイパス管内を通過するガスの流量を
調整するガスに対する付臭方法。 ２ 付臭剤槽内にパイプを垂直に装入し、このパ
イプ内にガス導管内のガスの一部を送入し、付臭
剤を槽内上部に導いて拡散し、蒸発させるように
構成した付臭装置。 ３ 付臭剤槽内たて方向に仕切板をずらして装入
することにより蛇行流路を形成し、バイパス管内
のガスをこの蛇行流路を介して通過させることに
より付臭剤を蒸発させるように構成した付臭装
置。 ４ 付臭剤槽の天蓋中心に対して上方からガス送
入パイプを取り付け、下位にフロートを取り付け
た傘状噴出体のガス入口を前記ガス送入パイプ内
に上下動自在に挿入し、ガスの噴出口を液面に近
づけて付臭剤の蒸発を行うように構成した付臭剤
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9458983A JPS59219392A (ja) | 1983-05-27 | 1983-05-27 | ガスに対する付臭方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9458983A JPS59219392A (ja) | 1983-05-27 | 1983-05-27 | ガスに対する付臭方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59219392A JPS59219392A (ja) | 1984-12-10 |
| JPH0414158B2 true JPH0414158B2 (ja) | 1992-03-11 |
Family
ID=14114459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9458983A Granted JPS59219392A (ja) | 1983-05-27 | 1983-05-27 | ガスに対する付臭方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59219392A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| UA58154A (uk) * | 2002-10-14 | 2003-07-15 | Приватне Підприємство Фірма "Техкон" | Одоризатор газу |
| JP5055883B2 (ja) | 2005-09-07 | 2012-10-24 | トヨタ自動車株式会社 | 水素供給装置 |
| JP4859729B2 (ja) * | 2007-03-30 | 2012-01-25 | 三井造船株式会社 | 付臭装置 |
| JP4905235B2 (ja) | 2007-04-19 | 2012-03-28 | トヨタ自動車株式会社 | 付臭剤添加装置、燃料ガス供給システム |
| JP5164917B2 (ja) * | 2009-04-28 | 2013-03-21 | エスペック株式会社 | 試験方法、有機ガス供給装置及び試験装置 |
| JP5164916B2 (ja) * | 2009-04-28 | 2013-03-21 | エスペック株式会社 | 試験方法及び試験装置 |
| DE102014019463A1 (de) * | 2014-12-23 | 2016-06-23 | Linde Aktiengesellschaft | Verfahren und Odorierungsmittelspeicher zum Odorieren eines Nutzgases, insbesondere Erdgas |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5281303A (en) * | 1975-12-27 | 1977-07-07 | Osaka Gas Co Ltd | Apparatus for odorizing gas |
| JPS5299362A (en) * | 1976-02-16 | 1977-08-20 | Omron Tateisi Electronics Co | Group control of weaving machine |
| JPS52132355A (en) * | 1976-04-28 | 1977-11-07 | Tokyo Electric Power Co Inc:The | Setting system for protective relay |
-
1983
- 1983-05-27 JP JP9458983A patent/JPS59219392A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59219392A (ja) | 1984-12-10 |
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