JPS59219408A - 真空精錬炉に於ける測温・サンプリング装置 - Google Patents
真空精錬炉に於ける測温・サンプリング装置Info
- Publication number
- JPS59219408A JPS59219408A JP9373983A JP9373983A JPS59219408A JP S59219408 A JPS59219408 A JP S59219408A JP 9373983 A JP9373983 A JP 9373983A JP 9373983 A JP9373983 A JP 9373983A JP S59219408 A JPS59219408 A JP S59219408A
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- JP
- Japan
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- probe
- sampling
- support rod
- bar
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21C—PROCESSING OF PIG-IRON, e.g. REFINING, MANUFACTURE OF WROUGHT-IRON OR STEEL; TREATMENT IN MOLTEN STATE OF FERROUS ALLOYS
- C21C7/00—Treating molten ferrous alloys, e.g. steel, not covered by groups C21C1/00 - C21C5/00
- C21C7/10—Handling in a vacuum
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Treatment Of Steel In Its Molten State (AREA)
- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、真空精錬炉における測温・サンプリング装
置の改良に関し、該測温・サンプリング用のプローブの
高温や付着地金によって、該プローブの支持棒を囲む具
窒シールパツキン會損傷することがない装置を提供する
こと、及び該損傷しない装置であって、槽内を大気に復
圧せずに測温拳サンプリングを行なうことのできる測温
拳すンプリング装置？提供することを目的とする。
置の改良に関し、該測温・サンプリング用のプローブの
高温や付着地金によって、該プローブの支持棒を囲む具
窒シールパツキン會損傷することがない装置を提供する
こと、及び該損傷しない装置であって、槽内を大気に復
圧せずに測温拳サンプリングを行なうことのできる測温
拳すンプリング装置？提供することを目的とする。
なお本発明の側温−サンプリング装置は、測温のみ全行
なう場合、あゐいはサンプリングのみを行なう場合、あ
るいは測温とサンプリングの両方ケ行なう場合のいずれ
の場合にも使用できる。
なう場合、あゐいはサンプリングのみを行なう場合、あ
るいは測温とサンプリングの両方ケ行なう場合のいずれ
の場合にも使用できる。
真窒脱ガスや真空精錬などのｆａ融金金属真空精錬炉に
おいては溶融金属の分析のために測温・すンプリングケ
する心安がある。そのためには試料を真をイ）■の外へ
取出す必要があり、従来の装置セは第１．２１紮参照し
て、試料採取の際にＯ１ｌ温壷ザンゾリング用のプロー
ブ２及びプローブの支持棒４がシール都３を通過するた
めに、プローブ２及びプローブＶこ近い支持棒４部分の
高熱やプローブの支持棒４に付ノｉ地金５によってシー
ル３に設け７ねパツキン９が損扁し、該損傷したパツキ
ン【そのままにしておくと真空槽重の真壁度の維持が困
嬌になるので、ノ々ツキンを屡々取す誉えなければなら
ないという問題がめった。
おいては溶融金属の分析のために測温・すンプリングケ
する心安がある。そのためには試料を真をイ）■の外へ
取出す必要があり、従来の装置セは第１．２１紮参照し
て、試料採取の際にＯ１ｌ温壷ザンゾリング用のプロー
ブ２及びプローブの支持棒４がシール都３を通過するた
めに、プローブ２及びプローブＶこ近い支持棒４部分の
高熱やプローブの支持棒４に付ノｉ地金５によってシー
ル３に設け７ねパツキン９が損扁し、該損傷したパツキ
ン【そのままにしておくと真空槽重の真壁度の維持が困
嬌になるので、ノ々ツキンを屡々取す誉えなければなら
ないという問題がめった。
本兄明装置は、上記の従来装（６がもつ−Ｃいめ間店点
ヶ解決したものであって、真空槽の一部に設けた開１」
都忙経てサンプリング用のプローブ全挿入し％Ｊ４２僧
内部に位置する浴融金属の測温・サンプリング７行なう
装置に於て、上記真空槽開口部に気密に配設され脱着自
在のシールカバーに、前記プローブの支」’Ｍ棒全全摺
動自在設けると共に、該支持棒に設け７ｈ係止都により
シールカバーと係合する如くなしたこと全特徴とする真
空精錬炉に於ける測温・サンプリング装置。
ヶ解決したものであって、真空槽の一部に設けた開１」
都忙経てサンプリング用のプローブ全挿入し％Ｊ４２僧
内部に位置する浴融金属の測温・サンプリング７行なう
装置に於て、上記真空槽開口部に気密に配設され脱着自
在のシールカバーに、前記プローブの支」’Ｍ棒全全摺
動自在設けると共に、該支持棒に設け７ｈ係止都により
シールカバーと係合する如くなしたこと全特徴とする真
空精錬炉に於ける測温・サンプリング装置。
真空槽の一部に設けた囲口部ｒ経てサンプリング用のプ
ローブ全挿入し、真壁槽内部に位置する溶融金属の測温
Φサンプリング？行なう装置に於て、上記真空槽開口部
上に遮断弁和音設置Ｊ−ゐと共に、上記遮断弁箱に気密
に配設され脱着自在のシールカバーに、前記プローブの
支持棒を摺動自在に設け、該支持棒に設けた係止部によ
りシールカバーと係合する如くなしたこと全特徴とする
真空精錬炉に於ける測温・サンプリング装置である。
ローブ全挿入し、真壁槽内部に位置する溶融金属の測温
Φサンプリング？行なう装置に於て、上記真空槽開口部
上に遮断弁和音設置Ｊ−ゐと共に、上記遮断弁箱に気密
に配設され脱着自在のシールカバーに、前記プローブの
支持棒を摺動自在に設け、該支持棒に設けた係止部によ
りシールカバーと係合する如くなしたこと全特徴とする
真空精錬炉に於ける測温・サンプリング装置である。
以下１本発明装置の夾廁例盆図面によｔ）説明する。
第３図及び第４図において、浴融金属６葡収納している
真空槽１の上部７には測温・サンプリング用の開口部８
が設けられている。その開口部上り測温−サンプリング
用のプローブ２およびプローブの支持棒４が真を槽１内
に挿入される。
真空槽１の上部７には測温・サンプリング用の開口部８
が設けられている。その開口部上り測温−サンプリング
用のプローブ２およびプローブの支持棒４が真を槽１内
に挿入される。
プローブの支持棒４ヶ気密に囲んでいて、該支持棒４の
摺動を許容するグランドパツキン９盆収納しているシー
ルカッ々−１０は、上部にグランドパッキンホル＄−１
１，グラントノ々ツキン押工１２を有し、下部に接続７
ジンジ１３？ｒ有する。尚３４は伸舵２′ホで必決に応
じシールカッ々−１０の中間部に設置１１される。
摺動を許容するグランドパツキン９盆収納しているシー
ルカッ々−１０は、上部にグランドパッキンホル＄−１
１，グラントノ々ツキン押工１２を有し、下部に接続７
ジンジ１３？ｒ有する。尚３４は伸舵２′ホで必決に応
じシールカッ々−１０の中間部に設置１１される。
前記シールカッ々−１０の接続フランジ１３は真空槽開
口部８同囲のフランジ１４−上にシールパツキン１．５
を介して配設してあり、この部分での真空槽１内の外
気からの気密的遮断を確保する。
口部８同囲のフランジ１４−上にシールパツキン１．５
を介して配設してあり、この部分での真空槽１内の外
気からの気密的遮断を確保する。
前記プローブ支持棒４はチェーン１６．スプロケット１
７ケ介して１駆動用電動機１８にて昇降さ七られゐ。ま
１こプローブ支持棒４には係止部１９が設りられておジ
、該係止部１９はプローブ支持石！４か」二昇してくる
とシールカバー１０の一部と係止する。
７ケ介して１駆動用電動機１８にて昇降さ七られゐ。ま
１こプローブ支持棒４には係止部１９が設りられておジ
、該係止部１９はプローブ支持石！４か」二昇してくる
とシールカバー１０の一部と係止する。
上述の央力出扮」装置僅において、溶融金属６の測温争
すンプリング葡行なう手順は下記に示す辿りである。
すンプリング葡行なう手順は下記に示す辿りである。
第４図の状態、すなわち、シールカバー１０が真空槽開
口部８より分離して上方にありプローブ２の装着が容易
な位置までプローブ支持棒４が上昇している状態におい
て、作業者の人力作業や図示しない機械式プローブ装着
装置によって、プローブ２７プローブ支持棒４に装着す
る。次にプローブ支持棒１と一緒にシールカッマー１０
〒下降させ、シールカッ々−１０のフランジ１３牙真空
槽開口部８の周囲のフランジ１４」二に載せ、その状態
で、又は適宜な７ランジの固着装置によりフランジ１３
全フランジ１４に固着（圧着装置は図示せず）した状態
で真空槽内の真空処理を行なう。次いで測温・サンプリ
ング１行なう際には、プローブの支持棒４ヤグランドノ
ξツキン９に対して摺動させながら下降させ、プローブ
２金浴融金属６中に浸漬し、−短時間後に上昇させ・１
〜Ｇ止する。この時はまた支持棒の係止部１９はシール
カッ々−に係止してなく、前記シールカッ々−のフラン
ジ１３は真空槽開口部のフランジ１４上に気密性全維持
して載置している。真空処理が終了後、７ランジの固着
装置で固着しである場合は該固着ｔＷｆ除し、そし看ゾ
ローブ支持俸４全更に上昇させる。そうすると係止部１
９がシールカッ々−１０に係止し、以後シールカバー１
０はプローブ支持棒４と共に上昇δせられて作業開始位
置に至る。そこでプローブ２を抜き取ゐ〇 従って、本７４施し０該置によれは第４図に示した如く
、シールカバー１０はプローブ支持棒４と共に上昇しプ
ローブ２は／−ルカノ々−１０のグランドパツキン９円
【通過ずゐことがないのでグランドパラギン９ ｒ、１
ノローブ２等の熱による損傷？受けることがない。
口部８より分離して上方にありプローブ２の装着が容易
な位置までプローブ支持棒４が上昇している状態におい
て、作業者の人力作業や図示しない機械式プローブ装着
装置によって、プローブ２７プローブ支持棒４に装着す
る。次にプローブ支持棒１と一緒にシールカッマー１０
〒下降させ、シールカッ々−１０のフランジ１３牙真空
槽開口部８の周囲のフランジ１４」二に載せ、その状態
で、又は適宜な７ランジの固着装置によりフランジ１３
全フランジ１４に固着（圧着装置は図示せず）した状態
で真空槽内の真空処理を行なう。次いで測温・サンプリ
ング１行なう際には、プローブの支持棒４ヤグランドノ
ξツキン９に対して摺動させながら下降させ、プローブ
２金浴融金属６中に浸漬し、−短時間後に上昇させ・１
〜Ｇ止する。この時はまた支持棒の係止部１９はシール
カッ々−に係止してなく、前記シールカッ々−のフラン
ジ１３は真空槽開口部のフランジ１４上に気密性全維持
して載置している。真空処理が終了後、７ランジの固着
装置で固着しである場合は該固着ｔＷｆ除し、そし看ゾ
ローブ支持俸４全更に上昇させる。そうすると係止部１
９がシールカッ々−１０に係止し、以後シールカバー１
０はプローブ支持棒４と共に上昇δせられて作業開始位
置に至る。そこでプローブ２を抜き取ゐ〇 従って、本７４施し０該置によれは第４図に示した如く
、シールカバー１０はプローブ支持棒４と共に上昇しプ
ローブ２は／−ルカノ々−１０のグランドパツキン９円
【通過ずゐことがないのでグランドパラギン９ ｒ、１
ノローブ２等の熱による損傷？受けることがない。
仄し共苧処理中に、兵箪１コ円Ｔｈ１ｉτ大気に後圧せ
ずに舷回Ｑこわ７辻つ１ に１１温・サンプリングを行
なう心安がのる時の木先明装匝の拠施例について説明す
る。この央輔調長６１は第３，４囚の災側例装置に更に
貼１ｔｌｒ弁ｒ退加設直してあゐ・Ｊなわち、第５図及
び第６図において、具窒槽１のυ１ｊ口部８とシールカ
バー１０との間に蓮Ｗ１弁２０を収納していゐ遮断弁Ａ
′ｉｊ ２１が設置されており、ｍｌ蓮断升２０は腕２
２忙介して駆動装置２３によりし１）口部８會１損、又
は開する位置に駆動される。該駆動装置、と遮断弁とｔ
連続する腕は、図示しない周知の真空シール部品を装備
して、気密的に遮断弁箱２１壁を貫通している。遮断弁
２０は開口部８の７ランジ２４に／８ツキン２５忙介し
て圧接し該圧接しているときは真空槽１内を外気と遮断
する。なお遮断弁については本図に示したもの以外の周
知の弁構造のものも使用できる。
ずに舷回Ｑこわ７辻つ１ に１１温・サンプリングを行
なう心安がのる時の木先明装匝の拠施例について説明す
る。この央輔調長６１は第３，４囚の災側例装置に更に
貼１ｔｌｒ弁ｒ退加設直してあゐ・Ｊなわち、第５図及
び第６図において、具窒槽１のυ１ｊ口部８とシールカ
バー１０との間に蓮Ｗ１弁２０を収納していゐ遮断弁Ａ
′ｉｊ ２１が設置されており、ｍｌ蓮断升２０は腕２
２忙介して駆動装置２３によりし１）口部８會１損、又
は開する位置に駆動される。該駆動装置、と遮断弁とｔ
連続する腕は、図示しない周知の真空シール部品を装備
して、気密的に遮断弁箱２１壁を貫通している。遮断弁
２０は開口部８の７ランジ２４に／８ツキン２５忙介し
て圧接し該圧接しているときは真空槽１内を外気と遮断
する。なお遮断弁については本図に示したもの以外の周
知の弁構造のものも使用できる。
２６および２７μ蓮断弁２０が閉の状態の時に。
その遮断弁２０とシールカッ々−１０と〜ご囲まれた空
間を真臣圧、又は大気圧にするために、遮断弁箱に開口
する排気管および復圧管でありそれぞれ２６と２７は図
示しない具臣排気装置と復圧１月空気源とに連結されて
おり、その途中にそれぞれ弁２８．２９が設置されてい
る。
間を真臣圧、又は大気圧にするために、遮断弁箱に開口
する排気管および復圧管でありそれぞれ２６と２７は図
示しない具臣排気装置と復圧１月空気源とに連結されて
おり、その途中にそれぞれ弁２８．２９が設置されてい
る。
尚シールカバ−１０の下部の接続フランジ１３は遮断弁
箱２１のｈ４０部周辺ノランジ１４上（て気密に配設し
てあシ、シールカノセー１０）ま遮断弁箱に着脱可能で
ある。
箱２１のｈ４０部周辺ノランジ１４上（て気密に配設し
てあシ、シールカノセー１０）ま遮断弁箱に着脱可能で
ある。
この第５，６図に示す装置において真空処理中に測温・
サンプリングを行々う手順μ下記に示す通りである。
サンプリングを行々う手順μ下記に示す通りである。
第６図の状態すなわち排気管の弁２８及び遮断弁２０が
閉であり、かつシールカバ−ｌＯがＪｌｔ、空槽間Ｄ
＋４１（を娘って設けである遮断弁箱２１よシ分離して
上刃にあｐプローブ２の装着が容易な位置までプローブ
支持１１ド４が上昇している状態において、プローブ２
をプローブ支持棒４に装着する。
閉であり、かつシールカバ−ｌＯがＪｌｔ、空槽間Ｄ
＋４１（を娘って設けである遮断弁箱２１よシ分離して
上刃にあｐプローブ２の装着が容易な位置までプローブ
支持１１ド４が上昇している状態において、プローブ２
をプローブ支持棒４に装着する。
次にプローブの支持棒４とシールカバー１０とを一緒に
下降させシールカバー１０Ｃ’、ｌ従続フランジ１３を
遮断弁箱２１のフランジ１４上に載せた状態で、又はノ
ランジ固唇装置によりフランジ１３をフラン／１４に固
着し／ｊ（圧着装（ｎは図示せず）状態で復圧′１イの
弁２９を閉にしたのち排気管の弁２８を１５−にし、シ
ールカバー１０と連断弁２０とで囲まｈた空間内を真■
槽１内と同様Ａ空状態にした後に遮断弁２０を開にする
。その後にプローブ支持棒４をグランドノゼツギン９に
対して摺動させながら下降させ、プローブ２を溶融金属
６中に一定時間浸漬させる。七の後、プローブ２を上昇
さぜる。プローブの支持棒４がプランド／＋）ツキン９
内ｊｊｌｓを摺動しつつ上昇し、支持棒の係止部１９が
シールカッ々−１０に係止するまでの間に遮断弁２０と
排気管の弁２８を閉にし、それから復圧管の弁２９を開
にして前記空間内を大気圧に戻し、次に７ランジ固着装
置が設置されている場合は該固着を解除すい。プローブ
支持棒４の係止部１９がシールカバー１０に係止した後
はプローブ支持棒４とシールカバー１０とは一緒に第６
図に示す作業開始位置まで上昇させられる。そこでプｏ
−ブ２を抜き取る。
下降させシールカバー１０Ｃ’、ｌ従続フランジ１３を
遮断弁箱２１のフランジ１４上に載せた状態で、又はノ
ランジ固唇装置によりフランジ１３をフラン／１４に固
着し／ｊ（圧着装（ｎは図示せず）状態で復圧′１イの
弁２９を閉にしたのち排気管の弁２８を１５−にし、シ
ールカバー１０と連断弁２０とで囲まｈた空間内を真■
槽１内と同様Ａ空状態にした後に遮断弁２０を開にする
。その後にプローブ支持棒４をグランドノゼツギン９に
対して摺動させながら下降させ、プローブ２を溶融金属
６中に一定時間浸漬させる。七の後、プローブ２を上昇
さぜる。プローブの支持棒４がプランド／＋）ツキン９
内ｊｊｌｓを摺動しつつ上昇し、支持棒の係止部１９が
シールカッ々−１０に係止するまでの間に遮断弁２０と
排気管の弁２８を閉にし、それから復圧管の弁２９を開
にして前記空間内を大気圧に戻し、次に７ランジ固着装
置が設置されている場合は該固着を解除すい。プローブ
支持棒４の係止部１９がシールカバー１０に係止した後
はプローブ支持棒４とシールカバー１０とは一緒に第６
図に示す作業開始位置まで上昇させられる。そこでプｏ
−ブ２を抜き取る。
なお本実施例装置においては、排気管２６．復圧管２７
を設置したけれども、これらは必須のものではない。遮
断弁２０が閉の状態では真空槽１内の圧力が遮断弁箱２
１内の圧力よシ低いために遮断弁２ｏを開ける時に本実
施例のように遮断弁箱２１内を排気する場合に比べて排
気管２６を設けてないものは大きな駆動力を要するけれ
ども。
を設置したけれども、これらは必須のものではない。遮
断弁２０が閉の状態では真空槽１内の圧力が遮断弁箱２
１内の圧力よシ低いために遮断弁２ｏを開ける時に本実
施例のように遮断弁箱２１内を排気する場合に比べて排
気管２６を設けてないものは大きな駆動力を要するけれ
ども。
遮断弁２０の駆動装置２３の駆動力をそれだけ大きくす
ればよいし、又、排気管２６がないと遮断弁箱２１内の
空気が真空槽ｌ内に１５ｉｉ、れ込むけれども特別に扁
真空度を要求される精錬の楊合以外μ大きな影響はない
。また復圧爵２７を設置しない場合は第５図の状態でプ
ローブ支持棒４を引き上げてシールカバー１０を一緒に
上昇させる際、シールカバーＸＯの内外の圧力差による
力がシールカフＮ−１０に加わるので、遮断弁２０とシ
ールカバー１０とで囲まれた摺間内を大気圧に戻した場
合に比べて大きな引き上げ力を要するが、これにしても
引き上げ出航動機の駆動力の大きいものを用いればよい
。従って、排気管２６ 、＊圧管２７が存在しないとし
ても本発明の特徴は何ら失われることほない。
ればよいし、又、排気管２６がないと遮断弁箱２１内の
空気が真空槽ｌ内に１５ｉｉ、れ込むけれども特別に扁
真空度を要求される精錬の楊合以外μ大きな影響はない
。また復圧爵２７を設置しない場合は第５図の状態でプ
ローブ支持棒４を引き上げてシールカバー１０を一緒に
上昇させる際、シールカバーＸＯの内外の圧力差による
力がシールカフＮ−１０に加わるので、遮断弁２０とシ
ールカバー１０とで囲まれた摺間内を大気圧に戻した場
合に比べて大きな引き上げ力を要するが、これにしても
引き上げ出航動機の駆動力の大きいものを用いればよい
。従って、排気管２６ 、＊圧管２７が存在しないとし
ても本発明の特徴は何ら失われることほない。
本屏′３明によると、シールカバーを真空槽又は遮断弁
箱に対して着脱自在とし、プローブの支持棒と一緒にシ
ールカバーを上昇させることができる＋：ｉ！Ｊ成を具
備するので、従来の装置のようにプローブ２−高熱にな
っているプローブの支持棒４の先端部がグラントノぐツ
キ７９部を通過することがなく、従ってグランｌ−′／
ξツキンが熱による損傷を受けることがなくＡ空シール
が確実に行なえるという利点がある。
箱に対して着脱自在とし、プローブの支持棒と一緒にシ
ールカバーを上昇させることができる＋：ｉ！Ｊ成を具
備するので、従来の装置のようにプローブ２−高熱にな
っているプローブの支持棒４の先端部がグラントノぐツ
キ７９部を通過することがなく、従ってグランｌ−′／
ξツキンが熱による損傷を受けることがなくＡ空シール
が確実に行なえるという利点がある。
また、真空槽とシール力／ζ−の間に遮断弁箱を設け、
遮断弁ねとシールカバーとを着脱自在としたものでは、
上記利点に加えて、真墾槽内の真空度を維持したままで
測温・サンプリングができ、従って従来の装置に比べて
、復圧時間等の時間を節約することができ、処理時間が
短くて済み、さらに、真空排気や大気復圧に必要な動力
やユーティリティが不要であるとｂう利点と上記の通ｐ
真空槽の真空度を維持した状態で、真空精錬中の初期、
中期、末期等の各端線段階に応じて数回の測温−サンプ
リングを行なうことができるという利点を有する。
遮断弁ねとシールカバーとを着脱自在としたものでは、
上記利点に加えて、真墾槽内の真空度を維持したままで
測温・サンプリングができ、従って従来の装置に比べて
、復圧時間等の時間を節約することができ、処理時間が
短くて済み、さらに、真空排気や大気復圧に必要な動力
やユーティリティが不要であるとｂう利点と上記の通ｐ
真空槽の真空度を維持した状態で、真空精錬中の初期、
中期、末期等の各端線段階に応じて数回の測温−サンプ
リングを行なうことができるという利点を有する。
第１図及び嬉２図は従来装置を示してあ、！Ｉｌｌ、第
１図は測温Ｏサンプリング中の説明図、第２図は測温・
サンプリングのＡ＋Ｉあるい１−１：後の状態の説明図
である。第３図及び第４図は本発明装置の一実施例を示
し、嬉５図及び第６図は他の実施例を示し、第３図及び
第５図は測温・サンプリング中の説明図、第４図４及び
第６図４Ｖｉ測温９ｆンゾリングの前あるいは後の状態
の説明図である。 １・・・真空（Ｌ ２・・・プローブ、４・・・支持棒
、６・・・溶融金ＦＩＫ、 ８・・・開口部、９・・
・シールノξツキンｓ １゜・・・シールカッ々−，１
９・・・係止部、２０・・・遮断弁、２１・・・遮断弁
１１コア 代理人 弁理士 秋 沢 政 光 外２名
１図は測温Ｏサンプリング中の説明図、第２図は測温・
サンプリングのＡ＋Ｉあるい１−１：後の状態の説明図
である。第３図及び第４図は本発明装置の一実施例を示
し、嬉５図及び第６図は他の実施例を示し、第３図及び
第５図は測温・サンプリング中の説明図、第４図４及び
第６図４Ｖｉ測温９ｆンゾリングの前あるいは後の状態
の説明図である。 １・・・真空（Ｌ ２・・・プローブ、４・・・支持棒
、６・・・溶融金ＦＩＫ、 ８・・・開口部、９・・
・シールノξツキンｓ １゜・・・シールカッ々−，１
９・・・係止部、２０・・・遮断弁、２１・・・遮断弁
１１コア 代理人 弁理士 秋 沢 政 光 外２名
Claims (2)
- （１）真空槽の一部に設けた開口部？経てサンプリング
用のゾローブ全挿入し、真空槽内部に位置する浴融金属
の測温・サンプリングを行なう装置に於て、 上１尼具空・両開口部に気密に配設され脱着自在のシー
ルカバーに、ｆｊｉＪ記プローブの支持棒１１摺辿目在
に設は小と共に、該支持棒に設けた係上部によりシール
カッ々−と係合する如くなしたことｔｑ寸徴とする真空
精錬炉に於けるｕｌｉｌ ｉｊ＋Ａ・サンプリング装置
。 - （２）ｙ口２槽の一部Ｇで設けた開口３１＼ケ経てサン
プリング用のゾロープヶ挿入し、Ａ主槽内部に位ｉｉｆ
すΦ溶融金属の測温・サンプリングを１う゛なう装置ｔ
Ｆ（二於て、 旧記真望１メｊ開ロ部上に遮−１弁箱’ｃ ＄ （ｆｉ
：す４）と共に、上記遮断弁に６に気密に配設されＪｌ
ｌ活着自在７−ルカ／々−に、前記プローブの支持棒を
摺動自在に設け、該支持棒に設けた係止部により７−ル
カノ々−と係合する如くなしたこと？特徴とする真空精
錬炉に於ける測温・サンプリング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9373983A JPS59219408A (ja) | 1983-05-27 | 1983-05-27 | 真空精錬炉に於ける測温・サンプリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9373983A JPS59219408A (ja) | 1983-05-27 | 1983-05-27 | 真空精錬炉に於ける測温・サンプリング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59219408A true JPS59219408A (ja) | 1984-12-10 |
| JPH0219170B2 JPH0219170B2 (ja) | 1990-04-27 |
Family
ID=14090774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9373983A Granted JPS59219408A (ja) | 1983-05-27 | 1983-05-27 | 真空精錬炉に於ける測温・サンプリング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59219408A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2248917A1 (de) * | 2009-05-02 | 2010-11-10 | SMS Mevac GmbH | Messlanzenvorrichtung für eine sich zur Vakuumbehandlung in einem Entgasungsgefäß befindende Metallschmelze |
| CN102796849A (zh) * | 2012-08-29 | 2012-11-28 | 西安前沿重型工业工程技术有限公司 | 一种在真空状态下自动测温及钢水取样的装置 |
| CN114608891A (zh) * | 2022-05-12 | 2022-06-10 | 潍坊优特检测服务有限公司 | 一种全自动水质检测仪器 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103134706B (zh) * | 2011-12-02 | 2015-07-08 | 中冶赛迪工程技术股份有限公司 | 一种真空测温取样系统及其操作方法 |
-
1983
- 1983-05-27 JP JP9373983A patent/JPS59219408A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2248917A1 (de) * | 2009-05-02 | 2010-11-10 | SMS Mevac GmbH | Messlanzenvorrichtung für eine sich zur Vakuumbehandlung in einem Entgasungsgefäß befindende Metallschmelze |
| CN102796849A (zh) * | 2012-08-29 | 2012-11-28 | 西安前沿重型工业工程技术有限公司 | 一种在真空状态下自动测温及钢水取样的装置 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0219170B2 (ja) | 1990-04-27 |
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