JPS5924097B2 - ガラス体の製造方法 - Google Patents
ガラス体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5924097B2 JPS5924097B2 JP1827576A JP1827576A JPS5924097B2 JP S5924097 B2 JPS5924097 B2 JP S5924097B2 JP 1827576 A JP1827576 A JP 1827576A JP 1827576 A JP1827576 A JP 1827576A JP S5924097 B2 JPS5924097 B2 JP S5924097B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- gas
- soot
- refractive index
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光伝送用ガラスファイバー母材の製造に関す
るものである。
るものである。
光通信用媒体としての光 。伝送用ファイバーについて
は、光伝送損失が小さいこと及び伝送歪が小さいことが
要求されている。光伝送損失は、せんい金属等の不純物
や微少欠陥等によつて大きくなる。さらにガラス中の水
酸基イオン(−Si−OH)は特に光伝送に用いる波長
領域では0.95μmの付近において振動による損失増
大をもたらす。従つて、これら欠陥は極力除去すること
が望まれている。
は、光伝送損失が小さいこと及び伝送歪が小さいことが
要求されている。光伝送損失は、せんい金属等の不純物
や微少欠陥等によつて大きくなる。さらにガラス中の水
酸基イオン(−Si−OH)は特に光伝送に用いる波長
領域では0.95μmの付近において振動による損失増
大をもたらす。従つて、これら欠陥は極力除去すること
が望まれている。
さらに伝送歪の大きさについては、そのファイバーの半
径方向の屈折率分布によつて決まる割合が大きい。これ
までクラッド型、グレーデツト型、oガイド型等種々の
屈折率分布を有する構造のファイバーが提案されている
。
径方向の屈折率分布によつて決まる割合が大きい。これ
までクラッド型、グレーデツト型、oガイド型等種々の
屈折率分布を有する構造のファイバーが提案されている
。
ガラス製造においては、これらは半径方向に任意の屈折
率分布をもつものという形で要求されてくる。本方法は
、これら要求を満足させることが出来る光伝送用ガラス
ファイバーのプレフオームを作る方法の中コーニング社
が提案した方法の改良に関する。
率分布をもつものという形で要求されてくる。本方法は
、これら要求を満足させることが出来る光伝送用ガラス
ファイバーのプレフオームを作る方法の中コーニング社
が提案した方法の改良に関する。
第1図において、(至)は従来の製造方法の説明図、(
c])はすす附けされたロッドを熱処理する工程の説明
図を示す。第1図において、高純度黒鉛又は耐火性セラ
ミック芯1の上にSiC14又はGeCl4等のドープ
物質を含むslct4を火炎3によつて火炎加水分解に
より、ち密なすす2を付着させる。火炎は、バーナー4
によつて作られる。
c])はすす附けされたロッドを熱処理する工程の説明
図を示す。第1図において、高純度黒鉛又は耐火性セラ
ミック芯1の上にSiC14又はGeCl4等のドープ
物質を含むslct4を火炎3によつて火炎加水分解に
より、ち密なすす2を付着させる。火炎は、バーナー4
によつて作られる。
又芯1は回転かつ往復移動5させておく。このように、
すすをつけたロッドを加熱炉Tに適当な速度で、ゆつく
り挿入し、Heガスct2ガス及びO2ガス中で加熱し
徐々にプリホーム中のガスを抜きながら透明なガラス体
6を得る。
すすをつけたロッドを加熱炉Tに適当な速度で、ゆつく
り挿入し、Heガスct2ガス及びO2ガス中で加熱し
徐々にプリホーム中のガスを抜きながら透明なガラス体
6を得る。
ここで、Heガスはすすの隙間のガスを追い出す役目を
し、Cl2はスズガラス中の水酸基の水素と置換する役
目をし、O2はドーピング元素の還元プロセスを防ぐ役
目をしている。さらに本発明によれば、純粋シリカの屈
折率よりも低い屈折率を有するフッ素を含有するシリカ
ガラスを合成することも出来るものである。
し、Cl2はスズガラス中の水酸基の水素と置換する役
目をし、O2はドーピング元素の還元プロセスを防ぐ役
目をしている。さらに本発明によれば、純粋シリカの屈
折率よりも低い屈折率を有するフッ素を含有するシリカ
ガラスを合成することも出来るものである。
次に本発明について第2図に従つて説明する。まずガラ
スロツド又はパイプ1、或は金属やセラミツクからなる
耐火性物質1にガラスパイプ11を被せたもの、或は耐
火性物1を矢印5に示す如く一定角速度で回転させ一定
速度で往復移動させておく。但しこの時往きと返りの速
度は異なるようにしてもよい。
スロツド又はパイプ1、或は金属やセラミツクからなる
耐火性物質1にガラスパイプ11を被せたもの、或は耐
火性物1を矢印5に示す如く一定角速度で回転させ一定
速度で往復移動させておく。但しこの時往きと返りの速
度は異なるようにしてもよい。
この出発部材1上に石英ガラスよりなる酸水素バーナー
4の中に燃焼用ガスと同時に原料ガス15を送り込み火
炎3の中で合成ガラスのすすを作り、それを出発部材1
上に供給する。ここで原料としてSi又は他の元素のハ
ロゲン化物を用いる時には酸水素炎による高温水蒸気に
よつて加水分解され、すすが形成され、Si又は他の元
素の有機化合物又は水素化物を用いる時には火炎によつ
て酸化され、すすが形成される。そして原料ガスの組成
と量及び火炎温度及び堆積される合成ガラスの層とバー
ナーの距離と位置関係によつて、所定の組成と量を有す
る合成ガラスのすすを作ることが出来る。このようにし
て作つたガラスの粉末(すす)は、出発部材上に堆積さ
れるが、それは引き続き出発部材1の往復移動5によつ
て高温ガス(17A又は17B)によつて処理される。
4の中に燃焼用ガスと同時に原料ガス15を送り込み火
炎3の中で合成ガラスのすすを作り、それを出発部材1
上に供給する。ここで原料としてSi又は他の元素のハ
ロゲン化物を用いる時には酸水素炎による高温水蒸気に
よつて加水分解され、すすが形成され、Si又は他の元
素の有機化合物又は水素化物を用いる時には火炎によつ
て酸化され、すすが形成される。そして原料ガスの組成
と量及び火炎温度及び堆積される合成ガラスの層とバー
ナーの距離と位置関係によつて、所定の組成と量を有す
る合成ガラスのすすを作ることが出来る。このようにし
て作つたガラスの粉末(すす)は、出発部材上に堆積さ
れるが、それは引き続き出発部材1の往復移動5によつ
て高温ガス(17A又は17B)によつて処理される。
往き復り速度が貞る時高温ガスは1ケでもよい。一般に
は高温ガス(1rA又は17B)は、乾そうしたハロゲ
ン化物と必要に応じて酸化性ガスを含む不活性ガスとか
らなる。特に図に示すように、高周波プラズマトーチ(
16A又は16B)の中に、Ct2,F2,ct化合物
またはF化合物のいずれかと必要に応じて02ガスを含
むHeガスとからなる混合ガスを送り込んだものが好ま
しい。
は高温ガス(1rA又は17B)は、乾そうしたハロゲ
ン化物と必要に応じて酸化性ガスを含む不活性ガスとか
らなる。特に図に示すように、高周波プラズマトーチ(
16A又は16B)の中に、Ct2,F2,ct化合物
またはF化合物のいずれかと必要に応じて02ガスを含
むHeガスとからなる混合ガスを送り込んだものが好ま
しい。
ここでも往復運動に対応して上記の組成と量及び温度を
変えることによつて、また角度等の位置関係を変えるこ
とによつて、堆積されるガラスの量と組成に対応した適
当な焼結条件に設定する必要がある。このようにして火
炎3によつて合成されるすすを堆積させた後、高温ガス
(11A又は1rB)によつて、すす中の水酸基や隙間
をなくして透明ガラス2を作り、それを出発部材1上に
積層させていくことが出来る。ガラスの屈折率としては
、B2O,又はFを含むシリカガラスは純粋シリカガラ
スの屈折率よりも低い屈折率を有し、その他のP,Ge
,Al,Ti,Sb等の酸化物を含むシリカガラスの屈
折率は純粋ガラスのそれよりも高いことは良く知られて
いることで、またその屈折率変化の割合はドープ量に比
例することも良く知られている。従つて前記の積層によ
つて作つた透明ガラス体の屈折率分布はドープ剤の種類
と量によつて如何ようにでも制御出来る。
変えることによつて、また角度等の位置関係を変えるこ
とによつて、堆積されるガラスの量と組成に対応した適
当な焼結条件に設定する必要がある。このようにして火
炎3によつて合成されるすすを堆積させた後、高温ガス
(11A又は1rB)によつて、すす中の水酸基や隙間
をなくして透明ガラス2を作り、それを出発部材1上に
積層させていくことが出来る。ガラスの屈折率としては
、B2O,又はFを含むシリカガラスは純粋シリカガラ
スの屈折率よりも低い屈折率を有し、その他のP,Ge
,Al,Ti,Sb等の酸化物を含むシリカガラスの屈
折率は純粋ガラスのそれよりも高いことは良く知られて
いることで、またその屈折率変化の割合はドープ量に比
例することも良く知られている。従つて前記の積層によ
つて作つた透明ガラス体の屈折率分布はドープ剤の種類
と量によつて如何ようにでも制御出来る。
出発部材としてガラスロツドを用いた時は、その合成ガ
ラスを積層したままの形のロツドを溶融加熱して引張つ
てフアイバ一を作る。
ラスを積層したままの形のロツドを溶融加熱して引張つ
てフアイバ一を作る。
出発部材としてガラスパイプを用いた時には、その合成
ガラスを積層したパイプの内面をフツ酸洗浄、火炎研磨
またはこれを併用することによつて洗浄した後、溶融紡
糸してフアイバ一を作る。
ガラスを積層したパイプの内面をフツ酸洗浄、火炎研磨
またはこれを併用することによつて洗浄した後、溶融紡
糸してフアイバ一を作る。
なお、この洗浄工程と紡糸工程の間に、高温に加熱して
(同時に真空に引いてもよい)、表面張力を利用して孔
をつぶす(コラツプス)工程を入れてもよい。出発部材
としてガラス以男の耐火物を用いる場合も上記の方法に
準じてフアイバ一を作ることが出来る。以下本発明の実
施例を第2図について述べる。
(同時に真空に引いてもよい)、表面張力を利用して孔
をつぶす(コラツプス)工程を入れてもよい。出発部材
としてガラス以男の耐火物を用いる場合も上記の方法に
準じてフアイバ一を作ることが出来る。以下本発明の実
施例を第2図について述べる。
出発部材としてカーボンロツド(5wnφ)(1)上に
0.3TWntの肉厚の石英パイプ11を被せるものを
用い、回転数:60rpm1移動距離:500朋を片道
2.5分の速度で往復移動を行つた。酸水素炎3を作る
ためH2:4t/Min,O2:3t/Wlinの燃焼
用ガスを石英バーナー4に送り込んだ。まず原料ガス1
5として、02:2.0t/Mln,GeCl4:20
0CC/市1n,SC14:200cc/Rninを1
時間(12往復)流し、その後02とSiCl4の流量
はそのままにしGeCl4の量を徐々に減じてl時間後
に、0cc/冨1nになるようにし、さらに2時間この
状態を続けた。こうしてGeO2−SiO2のガラス粉
末(すす)を合成して上記(1)上に堆積させると同時
に3MHzの高周波プラズマトーチ16A,16Bによ
りHe:10t/Mlln,Ct2:300cc/冨1
n,02:500cc/柘1nの割合の混合ガスを補給
してプラズマ炎1rA・11Bを作り、堆積したすすの
温度において1300〜1500℃になるように調整し
ながら焼結を行つた。このようにして作ることが出来た
列径15rm1長さ450vV!.透明な合成ガラス体
2からカーボンロツドを引き抜いたところ容易にぬけた
。
0.3TWntの肉厚の石英パイプ11を被せるものを
用い、回転数:60rpm1移動距離:500朋を片道
2.5分の速度で往復移動を行つた。酸水素炎3を作る
ためH2:4t/Min,O2:3t/Wlinの燃焼
用ガスを石英バーナー4に送り込んだ。まず原料ガス1
5として、02:2.0t/Mln,GeCl4:20
0CC/市1n,SC14:200cc/Rninを1
時間(12往復)流し、その後02とSiCl4の流量
はそのままにしGeCl4の量を徐々に減じてl時間後
に、0cc/冨1nになるようにし、さらに2時間この
状態を続けた。こうしてGeO2−SiO2のガラス粉
末(すす)を合成して上記(1)上に堆積させると同時
に3MHzの高周波プラズマトーチ16A,16Bによ
りHe:10t/Mlln,Ct2:300cc/冨1
n,02:500cc/柘1nの割合の混合ガスを補給
してプラズマ炎1rA・11Bを作り、堆積したすすの
温度において1300〜1500℃になるように調整し
ながら焼結を行つた。このようにして作ることが出来た
列径15rm1長さ450vV!.透明な合成ガラス体
2からカーボンロツドを引き抜いたところ容易にぬけた
。
この後、基の石英パイプ11に相当する部分をフツ酸で
除去後水洗浄して合成ガラス体2のみからなる男径15
wnφ、内径6wnφ、長さ400m1のパイプを作成
した。このパイプを高周波誘導加熱炉で2000℃近い
温度で醇融紡糸してフアイバ列径が200μm(A.長
さ145kmのフアイバ一を作ることが出来た。
除去後水洗浄して合成ガラス体2のみからなる男径15
wnφ、内径6wnφ、長さ400m1のパイプを作成
した。このパイプを高周波誘導加熱炉で2000℃近い
温度で醇融紡糸してフアイバ列径が200μm(A.長
さ145kmのフアイバ一を作ることが出来た。
このフアイバ一に光を入れて測定したところ、0,95
μmでの伝送損失は10dB/Kmであり、1.06μ
mでの伝送損失は、3dB/Kmという値であつた。
μmでの伝送損失は10dB/Kmであり、1.06μ
mでの伝送損失は、3dB/Kmという値であつた。
これからもこのガラスは不純物が少なく、かつ水酸基も
8ppmを超えることはなく極めて少ないことが分る。
さらにこのフアイバ一断面における屈折率分布は、予定
通りの台形であつた。
8ppmを超えることはなく極めて少ないことが分る。
さらにこのフアイバ一断面における屈折率分布は、予定
通りの台形であつた。
このことからも半径方向の屈折率のコントロールは容易
なことが分る。
なことが分る。
次にフツ素を含有する光フアイバ用母材の製法例を示す
。
。
出発部材は前記と同じもの(カーボンロツドに石英パイ
プを被せたもの)を用いた。
プを被せたもの)を用いた。
酸水素炎3をつくるためにH2:4b葡1n,023t
/Minの燃焼用ガスを石英バーナー4に送り込んだ。
/Minの燃焼用ガスを石英バーナー4に送り込んだ。
原料ガスとして02:2.0b痛1n,
SiCtx:200cc/MinSiF4を200cc
/Min流した。
/Min流した。
プラズマトーチ16A,16Bより、He:10b痛1
nSF6:300cc/Min,O2:500cc/M
inを供給してプラズマ炎17A,1TBに送り込み堆
積したすすの温度が1300〜1500℃になるよう維
持した。
nSF6:300cc/Min,O2:500cc/M
inを供給してプラズマ炎17A,1TBに送り込み堆
積したすすの温度が1300〜1500℃になるよう維
持した。
このようにして堆積を必要時間維持することにより、弗
素を含有するガラス素材を得た。
素を含有するガラス素材を得た。
前記と同様にして出発部材のカーボンロツドは容易に除
去できた。またもう一つの出発部材である石英パイプは
弗酸により溶して除去レ、合成ガラスのみから成るパイ
プとした。
去できた。またもう一つの出発部材である石英パイプは
弗酸により溶して除去レ、合成ガラスのみから成るパイ
プとした。
別に準備した高純度で、0H基含有量が極めて少い純粋
石英のガラス棒を、前述の合成パイプに挿入して、コラ
プスすることにより純粋石英ガラスをコアとし、前述の
弗素を含有する合成ガラフスをクラツドとする光フアィ
バ母材を得た。
石英のガラス棒を、前述の合成パイプに挿入して、コラ
プスすることにより純粋石英ガラスをコアとし、前述の
弗素を含有する合成ガラフスをクラツドとする光フアィ
バ母材を得た。
この光フアィバ母材の弗素を含有する合成ガラスより成
るクラツド部分の屈折率は、純粋石英のコアに比べて、
約1%低いものであつた。この光フアイバ母材を加熱浴
融し、線引することにより、光フアイバを得た。この光
フアイバの波長0.95μmにおける伝送損失は、約1
0dB/Kmであり、0H基による伝送損失の増大の少
い低損失の光フアイバが得られた。本発明の方法によれ
び次の利点がある。
るクラツド部分の屈折率は、純粋石英のコアに比べて、
約1%低いものであつた。この光フアイバ母材を加熱浴
融し、線引することにより、光フアイバを得た。この光
フアイバの波長0.95μmにおける伝送損失は、約1
0dB/Kmであり、0H基による伝送損失の増大の少
い低損失の光フアイバが得られた。本発明の方法によれ
び次の利点がある。
(1)火炎加水分解法特有の利点
1原料ガスからガラスを含成する時の収率が良い。
2特に熱酸化(内ズケ法)による方法に比してGe,蒔
ドーバントの収率が良い。
ドーバントの収率が良い。
3製造速度が速い。
(2)本方法特有の利点
1すすを堆積させるとすぐに焼結tて行くので気泡が入
らない2大きな合成ガラス体を作ることが出来る。
らない2大きな合成ガラス体を作ることが出来る。
(すすの堆積と焼結は合成ガラス体表面で何回でも積層
させてゆくことが出来る為)(3)高品質の安価なガラ
スが出来る。
させてゆくことが出来る為)(3)高品質の安価なガラ
スが出来る。
1原料ガス燃焼ガス及び高温ガスの純度を良くすれば、
不純物の少ないガラスを作ることが出来る。
不純物の少ないガラスを作ることが出来る。
2特に水酸基は下記の如き反応で除去出来る。
それは−SlOH+Ct2=−SL−0−Ct任『Tこ
の反応が焼結温度を高くすることによつて容易に進行す
る為である。3半径方向に所定の屈折率分布をもつたガ
ラス体及びそれから紡糸して出来るフアイバ一を得るこ
とが容易である。
の反応が焼結温度を高くすることによつて容易に進行す
る為である。3半径方向に所定の屈折率分布をもつたガ
ラス体及びそれから紡糸して出来るフアイバ一を得るこ
とが容易である。
4原料からガラスへの収率は良く、燃焼ガスは反応に必
要な熱及び水を与えるだけ、だから少量ですみ、プラズ
マ中のHeは電離し易いので少電力ですむ(高価なHe
ガスは回収する)等によつて安価な合成ガ・ラス体を作
ることが出来る。
要な熱及び水を与えるだけ、だから少量ですみ、プラズ
マ中のHeは電離し易いので少電力ですむ(高価なHe
ガスは回収する)等によつて安価な合成ガ・ラス体を作
ることが出来る。
゜(4)その他の利点
火炎加水分解又は熱酸化する原料ガスとして、フツ素又
はフツ素化合物を一部含ませて、すすを作つたうえ、さ
らに高温ガスとしてHe,F2及び必要により02ガス
を用いることによつてフツ素含有、シリカ系ガラスを作
ることが出来る。
はフツ素化合物を一部含ませて、すすを作つたうえ、さ
らに高温ガスとしてHe,F2及び必要により02ガス
を用いることによつてフツ素含有、シリカ系ガラスを作
ることが出来る。
(なお、すすを作るときは、フツ素化合物を用いなくて
も良い)
も良い)
第1図は従来のすす附けを行なう工程の一部断面図で示
した説明図、第2図は、本発明による光フアイバ一のプ
レフオームを形成する一部断面で示した説明図。
した説明図、第2図は、本発明による光フアイバ一のプ
レフオームを形成する一部断面で示した説明図。
Claims (1)
- 1 酸水素バーナによつて原料ガスを反応せしめ、生成
したガラス粉末を回転し、往復移動する出発部材の表面
に順次堆積して光伝送用ガラスファイバ母材を製造する
方法において、前記バーナの近傍に配設された高周波プ
ラズマトーチから噴出された高温ガスによつて前記ガラ
ス粉末を透明ガラス化すること、該高温ガスは少くとも
Cl_2ガス、F_2ガス、Cl化合物またはF化合物
の中の1つとHeガスを含むことを特徴とする光伝送用
ガラスファイバ母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1827576A JPS5924097B2 (ja) | 1976-02-20 | 1976-02-20 | ガラス体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1827576A JPS5924097B2 (ja) | 1976-02-20 | 1976-02-20 | ガラス体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52101223A JPS52101223A (en) | 1977-08-25 |
| JPS5924097B2 true JPS5924097B2 (ja) | 1984-06-07 |
Family
ID=11967084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1827576A Expired JPS5924097B2 (ja) | 1976-02-20 | 1976-02-20 | ガラス体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5924097B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56104739A (en) * | 1980-01-22 | 1981-08-20 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Preparation of hollow soot body |
| JPS57175748A (en) * | 1981-04-20 | 1982-10-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Preparation of infrared optical element |
| JP2785430B2 (ja) * | 1990-03-28 | 1998-08-13 | 三菱マテリアル株式会社 | 光伝送用石英ガラス |
-
1976
- 1976-02-20 JP JP1827576A patent/JPS5924097B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52101223A (en) | 1977-08-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1188895A (en) | Fabrication methods of doped silica glass and optical fiber preform by using the doped silica glass | |
| US4610709A (en) | Method for producing glass preform for optical fiber | |
| JP5342614B2 (ja) | 光ファイバ母材および光ファイバの製造方法 | |
| JPH0372583B2 (ja) | ||
| JP3946645B2 (ja) | 光学用ガラスおよびその製造方法 | |
| JP4124198B2 (ja) | 脱水及び脱塩素工程を含むmcvd法を用いた光ファイバ母材の製造方法及びこの方法により製造された光ファイバ | |
| JP3579919B2 (ja) | 光ファイバ用母材の製造方法 | |
| JPS60263103A (ja) | 光フアイバ用母材およびその製造方法 | |
| JPS63147840A (ja) | 石英ガラス材の製造方法 | |
| JP4472308B2 (ja) | 石英多孔質母材の製造方法 | |
| JPS62182129A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
| JP2001180959A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
| JPH0818843B2 (ja) | 光フアイバ用プリフオ−ムの製造方法 | |
| JP3449488B2 (ja) | 光ファイバ用母材の製造方法 | |
| JPS6374932A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| JPS6253450B2 (ja) | ||
| JPS62297239A (ja) | ガラス微粒子堆積体の製造方法 | |
| JPS6259063B2 (ja) | ||
| JP4048753B2 (ja) | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法 | |
| JPH0329732B2 (ja) | ||
| JP3953855B2 (ja) | 多孔質母材の製造方法 | |
| JPS5925738B2 (ja) | 光学用ガラスフアイバ製造方法 | |
| JPS6230144B2 (ja) | ||
| JPH02304B2 (ja) | ||
| JPH0436101B2 (ja) |