JPS5924671B2 - 錯シアンの処理装置 - Google Patents

錯シアンの処理装置

Info

Publication number
JPS5924671B2
JPS5924671B2 JP6598877A JP6598877A JPS5924671B2 JP S5924671 B2 JPS5924671 B2 JP S5924671B2 JP 6598877 A JP6598877 A JP 6598877A JP 6598877 A JP6598877 A JP 6598877A JP S5924671 B2 JPS5924671 B2 JP S5924671B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
complex
cyanide
reaction tank
ozone
ultraviolet rays
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP6598877A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS541964A (en
Inventor
繁樹 中山
謙治 江崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP6598877A priority Critical patent/JPS5924671B2/ja
Publication of JPS541964A publication Critical patent/JPS541964A/ja
Publication of JPS5924671B2 publication Critical patent/JPS5924671B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はニッケル、銅、鉄などの金属イオンとシアン
の錯化合物(以下錯シアンと呼ぶ)を含有する廃水など
のオゾンと光線を併用する錯シアンの処理装置に関する
ものである。
周知の如くメッキ工場や写真現像などからは、強い毒性
をもつシアンを含有する廃水が排出される。
これらの廃水の中には遊離したシアンイオン(フリーシ
アン)の他に上記金属イオンとの錯化合物である錯シア
ンが多量に含まれている。
錯シアンは一般にフリーシアンよりも化学的に安定であ
り、酸化剤による酸化分解が困難である場合が多い。
錯シアンの中でも鉄イオンとの錯体(フェリシアンイオ
ン、フェロシアンイオン)は特に安定であり、オゾンの
ような強力な酸化剤を用いてもシアンの排出規制値にま
で処理することは困難である。
ところが、このような安定な錯シアンを含有する廃水に
紫外線または近紫外〜可視光線を照射しつつオゾンばつ
気処理を行なうと、オゾンによる単独処理よりもシアン
の除去速度が促進され、低濃度までの処理が可能である
ことが明らかにされている。
ところがこの方法により、無条件に光を照射しながらオ
ゾン処理すると、オゾンの利用効率が低下してシアン除
去に必要なオゾンの量が過大になったり、また、必要と
するシアン除去速度を得るための光源の容量が太き(な
るなどのために実用上問題があった。
そこで、本発明者はこの問題を解決するために、錯シア
ンの光照射下でのオゾン処理に関する研究をさらに進め
た結果、次のような事実を見出すにいたった。
すなわち、種々の濃度のフェリシアン化カリウム水溶液
について、低圧水銀ランプを用いた紫外線照射下でのオ
ゾン処理と、紫外線をカットした高圧水銀ランプ照射下
でのオゾン処理を比較検討し、表1に示すような結果を
得た。
ただし、ここで行なった実験条件は次に示した通りであ
る。
反応器;内部照射型(直径10C1rL)オゾン供給速
度: 1 l / rn 1 nオゾン濃度;17ヤ/
1−O2 紫外線光源;4W低圧水銀ランプ 近紫外〜可視線光源;100W高圧水銀ランプ(310
mμ以下カット) この表から次の事が明らかになった。
まず、シアンの除去速度については、 (1)光源の単位消費電力当りのシアン除去速度は紫外
光線照射の方が近紫外〜可視光線照射に比べて3〜5倍
速い。
一方、単位量シアンの除去に必要なオゾン量、(△03
/△CN)wtlについては、 (1)紫外光線照射の場合、錯シアン濃度が高い(約1
0100ppと3程度となり比較的少量であるが、錯シ
アン濃度が低下すると、それに従って著しく多くなる。
(2)近紫外〜可視光線照射の場合、錯シアン濃度が高
い場合(約50ppm)、2.4と少く、かつ錯シアン
濃度が低下しても、その増加割合は紫外光線照射に比し
て著しく少い。
この発明は、これらの研究をもとになされたものであり
、反応槽を多段にし、廃水など、被処理水の流れから見
て前段の比較的錯シアン濃度が高い(通常は100pp
[[lまたはそれ以上)ところで紫外線を照射しつつオ
ゾン処理し、錯シアン濃度が低下(100ppmまたは
それ以下)した後段の反応槽で紫外線を含まない近紫外
〜可視光線を照射しつつオゾン処理することにより、光
源の消費電力および必要オゾン量を最少になるようにし
たものである。
図はこの発明の一実施例による錯シアンの処理装置を示
す系統図である。
錯シアンを含む廃水などの被処理水は、先づ、前段の反
応槽1に入口2から連続的に導入される。
ここで紫外線を主として放射するランプ3からの光電子
、図示しないオゾナイザ−から送給されるオゾン含有気
体の入口4から供給されるオゾンおよび被処理水の錯シ
アンが反応して一定量のシアンが除去される。
反応槽1において除去されなかった錯シアンを含有する
処理水は出口5から排出され、反応槽6に入口91.7
から導入され、紫外線を含まないランプ8からの光量子
と前段と同様の型式でオゾンおよび錯シアンが反応しシ
アンが除去され、出口9から、放流される。
反応槽1において除去されなかった錯シアンを含有する
処理水は出口5から排出され、反応槽6に入ロアから導
入され、紫外線を含まないランプ8からの光量子と前段
と同様の型式でオゾンおよび錯シアンが反応しシアンが
除去され、出口9から放流される。
反応槽1および6における未反応オゾンはそれぞれの出
口10および11から排出され、公知の従来技術による
オゾン分解器12を通して大気中に放出される。
ここで用いる反応槽1および6は通常のディフューザ一
方式、エゼクタ一方式などの気液反応式のものでよく、
光照射方式は内部照射または外部照射のいづれでもよい
使用するランプ3としては低圧水銀ランプ、ランプ8と
しては310mμ以下の波長をカットした高圧水銀灯が
適当である。
上記のように構成することにより錯シアンが有効に除去
され、オゾンの利用効率が改善され、光源の容量を従来
のものより小型にすることができた。
なお、反応槽1及び6は1個のものにまとめあるいは3
個以上用いても差支えない。
以上説明した通り、この発明は反応槽を少なくとも2つ
の部分に分け、前段の方に紫外線を用い、後段の方に紫
外線を含まない光線を用いるようにすることにより、オ
ゾンの利用効率を改善し、錯シアンを高効率で除去でき
るという効果がある。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例を示す系統図である。 図中1,6は反応槽、3,8はランプ、2は入口、9は
出口である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 錯シアンを含む被処理水を反応槽中で光線とオゾン
    を併用して処理するものにおいて、上記反応槽を直列的
    に連通ずる少なくとも2つの部分に分け、一方の反応槽
    において紫外線を主体とする光線を用い、他方の反応槽
    において紫外線を含まない錯シアンの光吸収領域の波長
    を主体とする光線を用い、上記被処理水を上記一方の反
    応槽から他方の反応槽へ流通するようにした錯シアンの
    処理装置。 2 紫外線を主体とする光線として低圧水銀ランプの放
    射光を用いるようにした特許請求の範囲第1項記載の錯
    シアンの処理装置。 3 紫外線を含まない錯シアンの光吸収領域の波長を主
    体とする光線として、310mμ以下の短波長をカット
    した高圧水銀灯の放射光を用いるようにした特許請求の
    範囲第1項または第2項記載の錯シアンの処理装置。
JP6598877A 1977-06-03 1977-06-03 錯シアンの処理装置 Expired JPS5924671B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6598877A JPS5924671B2 (ja) 1977-06-03 1977-06-03 錯シアンの処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6598877A JPS5924671B2 (ja) 1977-06-03 1977-06-03 錯シアンの処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS541964A JPS541964A (en) 1979-01-09
JPS5924671B2 true JPS5924671B2 (ja) 1984-06-11

Family

ID=13302891

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6598877A Expired JPS5924671B2 (ja) 1977-06-03 1977-06-03 錯シアンの処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5924671B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106946404A (zh) * 2017-03-06 2017-07-14 博天环境集团股份有限公司 一种含氰废水的处理方法

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH078082B2 (ja) * 1984-08-24 1995-01-30 株式会社東芝 列車運転指令装置
JPH0764257B2 (ja) * 1985-10-31 1995-07-12 三菱電機株式会社 列車運転整理案作成装置
JPS63221890A (ja) * 1987-03-09 1988-09-14 Iwasaki Electric Co Ltd 有機物含有水の処理方法とその装置
JPH0454877Y2 (ja) * 1987-06-08 1992-12-22
JPH03143769A (ja) * 1989-10-27 1991-06-19 Hitachi Ltd 遅延回復方式
JP2006341229A (ja) * 2005-06-10 2006-12-21 Sumitomo Precision Prod Co Ltd シアン化合物含有排水の高度処理方法
CA2802171C (en) * 2010-06-28 2015-11-24 Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation Heat transfer tube for steam generator and method for producing the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106946404A (zh) * 2017-03-06 2017-07-14 博天环境集团股份有限公司 一种含氰废水的处理方法
CN106946404B (zh) * 2017-03-06 2019-09-24 博天环境集团股份有限公司 一种含氰废水的处理方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS541964A (en) 1979-01-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI460136B (zh) 用於減少半導體製程用水之有機碳的紫外光活化氧化法
HU212078B (en) Method and apparatous for treating of liquids contain dangerous material
WO2018092831A1 (ja) 水処理方法および装置
JPH1199395A (ja) 有機物含有水の処理方法
JPS5924671B2 (ja) 錯シアンの処理装置
JP3506171B2 (ja) Toc成分の除去方法及び装置
EP0242941B1 (en) Process and apparatus for the deodorization of air
JP2006341229A (ja) シアン化合物含有排水の高度処理方法
JPH1199394A (ja) 水中の有機物除去方法
US11814304B2 (en) Ultraviolet treatment method and system
JPH09192658A (ja) 超純水製造装置
JP2582550B2 (ja) 有機物含有水の処理方法
JPS5852598A (ja) 放射性廃液中の有機化合物を除去する方法
JPH01218676A (ja) 排水の処理方法
JP2001029966A (ja) 内分泌攪乱物質又は発癌性物質を含有する有機性廃水の処理方法及び処理装置
JPS5922595B2 (ja) オゾンによる廃水の処理方法
JPS58193788A (ja) 鉄錯シアン廃水の処理方法
JP2006082081A (ja) オゾンと光触媒を利用した促進酸化処理装置
JP2002231683A (ja) ウェハ洗浄装置及びウェハ洗浄方法
JP2001259621A (ja) 水処理装置
JP3624625B2 (ja) エキシマ紫外線ランプを用いた浄水処理方法
JPS55147192A (en) Treating method for water
JP3483092B2 (ja) 難分解性有機物含有排水の処理方法
JP2546757B2 (ja) 有機物高度処理方法及び装置
JP3859866B2 (ja) 水処理方法