JPS5928584A - 電解槽又は透析槽への液の供給方法 - Google Patents
電解槽又は透析槽への液の供給方法Info
- Publication number
- JPS5928584A JPS5928584A JP57137943A JP13794382A JPS5928584A JP S5928584 A JPS5928584 A JP S5928584A JP 57137943 A JP57137943 A JP 57137943A JP 13794382 A JP13794382 A JP 13794382A JP S5928584 A JPS5928584 A JP S5928584A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- liquid
- liquid supply
- sec
- supply
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電解槽又は透析槽への液の供給方法、特に槽下
底から供給された液が槽内全均一に上昇しつつ均一な電
解若しくは透析を受は得る液の供給方法に係るものであ
る。
底から供給された液が槽内全均一に上昇しつつ均一な電
解若しくは透析を受は得る液の供給方法に係るものであ
る。
例えば高価な有機薬品を陰極室に導入し、隔膜を介した
陽極室に酸全導入し、電解還元を行なうことによシ陰極
室に更に高価な有機薬品を得たシ、或は隔膜を有する電
解槽に払いて電解酸化を行なったシ、陰陽イオン交換膜
を用いた拡散透析や電気透析は、種々の分野に広く利用
されつつある。
陽極室に酸全導入し、電解還元を行なうことによシ陰極
室に更に高価な有機薬品を得たシ、或は隔膜を有する電
解槽に払いて電解酸化を行なったシ、陰陽イオン交換膜
を用いた拡散透析や電気透析は、種々の分野に広く利用
されつつある。
これらにあっては、供給される特に被電解液が、その極
室中に均一に流れる程電気抵抗や電解電圧が低く出来、
又、電流効率も高く出来る。
室中に均一に流れる程電気抵抗や電解電圧が低く出来、
又、電流効率も高く出来る。
この為、従来においては槽内にフィンを置いて流れ全制
御したシ、槽内への液の入口位置や形状を考慮すること
が提案され、又一部は実施されてきた。
御したシ、槽内への液の入口位置や形状を考慮すること
が提案され、又一部は実施されてきた。
しかしながら、従来のこれら提案は、効果的に必ずしも
十分満足し得るものではなく、又装置構造が複雑となっ
たシ、狭い極室には適用し難い構造であったシ等の制限
もがなシあった。
十分満足し得るものではなく、又装置構造が複雑となっ
たシ、狭い極室には適用し難い構造であったシ等の制限
もがなシあった。
本発明者は、この様な点に鑑み、極室の大小に拘らず、
又煩雑な構造を出来るだけ避けて均一な液の供給が出来
る手段を見出すこと全目的として種々研究、検討した結
果、供給液量とその供給孔の位置を成る特定な範囲に選
ぶことにより、前記目的を達成し得ることを見出した。
又煩雑な構造を出来るだけ避けて均一な液の供給が出来
る手段を見出すこと全目的として種々研究、検討した結
果、供給液量とその供給孔の位置を成る特定な範囲に選
ぶことにより、前記目的を達成し得ることを見出した。
かくして本発明は、液の供給本管と、該本管から液を受
けて槽内へその下底がら液を供給する複数の液供給孔を
有し、槽上部から液を取り田す様に構成し、前記液供給
本管への液の供給速度を２０〜５０ ｃｍ ７秒とし、
槽内へ液を供給する複数の液供給孔１個当シの供給速度
ｉ７０〜２００α／秒とし、且槽底幅方向１〜１ｏｃｒ
ｎ×槽底奥行方向１〜ｌｏｃ！ｎで囲まれた方形の中心
部分に前記液供給孔を１個の割合で配置することに％徴
とする電解槽又は透析槽への液の供給方法を提供するに
ある。
けて槽内へその下底がら液を供給する複数の液供給孔を
有し、槽上部から液を取り田す様に構成し、前記液供給
本管への液の供給速度を２０〜５０ ｃｍ ７秒とし、
槽内へ液を供給する複数の液供給孔１個当シの供給速度
ｉ７０〜２００α／秒とし、且槽底幅方向１〜１ｏｃｒ
ｎ×槽底奥行方向１〜ｌｏｃ！ｎで囲まれた方形の中心
部分に前記液供給孔を１個の割合で配置することに％徴
とする電解槽又は透析槽への液の供給方法を提供するに
ある。
本発明において、液供給本管への液の供給速度は２０〜
５ｏｃｎ１／秒であることが必要である。
５ｏｃｎ１／秒であることが必要である。
かかる供給量が前記範囲に瀾だない場合には、いかに槽
内への個々の液供給孔を制御しようとも均一な液の供給
が出来ず、偏流等が生じ、本発明の目的が達成されない
。逆に［１１Ｊ記供給′Ａ： ’ｆ超える場合には、単
に液の供給動力が増加するのみであり、それ以上の効果
を期待することは困難である。
内への個々の液供給孔を制御しようとも均一な液の供給
が出来ず、偏流等が生じ、本発明の目的が達成されない
。逆に［１１Ｊ記供給′Ａ： ’ｆ超える場合には、単
に液の供給動力が増加するのみであり、それ以上の効果
を期待することは困難である。
又、槽内への液供給孔１個当りの流量は７０〜２００σ
／秒であることが必要である。流量が前記範囲に満たな
いと極出内への均一な液の供給が困難となシ、偏流が起
る直接的原因となり、前記範囲を超える場合には単に動
力の浪費を招くのみならず、あまり多すぎると液の利用
効率が極端に低下するので何れも不適当である。
／秒であることが必要である。流量が前記範囲に満たな
いと極出内への均一な液の供給が困難となシ、偏流が起
る直接的原因となり、前記範囲を超える場合には単に動
力の浪費を招くのみならず、あまり多すぎると液の利用
効率が極端に低下するので何れも不適当である。
更に本発明においては、この様な液供給孔は、槽底幅方
向１〜１０ ｃｍ Ｘ槽底奥行方向１〜１０ｍで囲まれ
た方形の中心部分に１個の割合で存在せしめることが必
要であり、かくすることによシ、いかなる形状の極室で
あっても均一な液の供給と上昇が可能となシ、又液の利
用効率も動力に対し、十分工業的に満足し得るものとな
る。
向１〜１０ ｃｍ Ｘ槽底奥行方向１〜１０ｍで囲まれ
た方形の中心部分に１個の割合で存在せしめることが必
要であり、かくすることによシ、いかなる形状の極室で
あっても均一な液の供給と上昇が可能となシ、又液の利
用効率も動力に対し、十分工業的に満足し得るものとな
る。
かくして極室に供給された液は、その上部から取り出さ
れるが、かかる取υ出し流速は１０〜５０ｃｒｎ／秒程
度が適当である。この取り出し流速は、ガス発生を伴な
う場合には、それも取り出す必要性から前記範囲のうち
の小さい側の取り出し流速を採用することが望ましい。
れるが、かかる取υ出し流速は１０〜５０ｃｒｎ／秒程
度が適当である。この取り出し流速は、ガス発生を伴な
う場合には、それも取り出す必要性から前記範囲のうち
の小さい側の取り出し流速を採用することが望ましい。
本発明方法が適用される槽としては、各種合成、還元、
酸化等に用いられる電解槽゛、酸やアルカリ、その他溶
液の濃縮や希釈、脱塩等に用いられる電気透析槽や拡散
透析槽が挙げられる。
酸化等に用いられる電解槽゛、酸やアルカリ、その他溶
液の濃縮や希釈、脱塩等に用いられる電気透析槽や拡散
透析槽が挙げられる。
又、これら槽は隔膜、特に各種陰、陽イオン交換膜が通
常用いられる。この様なイオン交換膜に特に制限はなく
、各種用途に夫々用いられている公知のイオン交換膜類
である。又、陰。
常用いられる。この様なイオン交換膜に特に制限はなく
、各種用途に夫々用いられている公知のイオン交換膜類
である。又、陰。
陽極等の電極も同様、各種用途に夫々用いられている公
知のこれら電極全用途に応じ用いられる。
知のこれら電極全用途に応じ用いられる。
次に本発明を実施例によシ説明する。
槽底幅方行１００ｃｒｎ、槽底奥行方向５ｃｒｎ、高さ
１００ｍの電解槽の槽底部側壁に、内径１．５ｃｍ。
１００ｍの電解槽の槽底部側壁に、内径１．５ｃｍ。
長さ１００ｃｒｎの液供給本管ケ２０本設け、肢管にｃ
ｕ ４ ｙ／ｌ、 ＨＣＩ ２００ ｙ／ｌｋ有スル水
溶液を４０ｃｒｎ／秒の供給速度で供給し、一方、前記
電解槽の槽底には５αの等間隔で直径０．２ｃｍの孔を
２０個設け、夫々の孔に前記管から１００α／秒の流速
で前記水溶液ケ供給した処、首孔 □から清白へ流入
する液量誤差は、±１〜以内であった。このように設計
した電解槽内に陽極及び陰極を交互に各１０枚配例して
電気メツキ全行なったところ、１０枚の陰極に析出しｆ
４ｃｕの重量誤丸は±５％以内に納まり均一電着の目的
を達することができた。
ｕ ４ ｙ／ｌ、 ＨＣＩ ２００ ｙ／ｌｋ有スル水
溶液を４０ｃｒｎ／秒の供給速度で供給し、一方、前記
電解槽の槽底には５αの等間隔で直径０．２ｃｍの孔を
２０個設け、夫々の孔に前記管から１００α／秒の流速
で前記水溶液ケ供給した処、首孔 □から清白へ流入
する液量誤差は、±１〜以内であった。このように設計
した電解槽内に陽極及び陰極を交互に各１０枚配例して
電気メツキ全行なったところ、１０枚の陰極に析出しｆ
４ｃｕの重量誤丸は±５％以内に納まり均一電着の目的
を達することができた。
Claims (1)
- １、 液の供給本管と、該本管から液を受けて槽内へそ
の下底から液を供給する複数の液供給孔を有し、槽上部
から液を取９出す様に構成し、前記液供給本管への液の
供給速度全２０〜５０ｃｒｎ／秒とし、槽内へ液を供給
する複数の液供給孔１個当シの供給速度を７０〜２００
ｃｍ／秒とし、且槽底幅方向１−４１０ ｍ Ｘ槽底奥
行方向１〜１０ｃｍで囲まれた方形の中心部分に前記液
供給孔を１個の割合で配置することを特徴とする電解槽
又は透析槽への液の供給方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57137943A JPS5928584A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | 電解槽又は透析槽への液の供給方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57137943A JPS5928584A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | 電解槽又は透析槽への液の供給方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5928584A true JPS5928584A (ja) | 1984-02-15 |
Family
ID=15210328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57137943A Pending JPS5928584A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | 電解槽又は透析槽への液の供給方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5928584A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2664692A2 (en) | 2012-05-15 | 2013-11-20 | Ebara Corporation | Plating apparatus and plating solution management method |
-
1982
- 1982-08-10 JP JP57137943A patent/JPS5928584A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2664692A2 (en) | 2012-05-15 | 2013-11-20 | Ebara Corporation | Plating apparatus and plating solution management method |
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